三芳基-甲硅烷基,-锗烷基和-锡烷基。MAr 3(M = Si,Ge或Sn和Ar = 2,4,6-Me 3 C 6 H 2)和。Ge(2,6-Me 2 C 6 H 3)3:合成与ESR研究
摘要:
以三芳基金属为中心的自由基。MAr 3(M = Si,Ge或Sn; Ar = 2,6-Me 2 C 6 H 3或2,4,6-Me 3 C 6 H 2)已由适当的三芳基金属氯化物MAr 3 Cl制备,以及在低温下在甲苯中紫外线照射下的富电子烯烃[ R] 2(R = Me或Et)。三芳基锗烷基自由基具有持久性(t > 24 h,20°C),而类似的锡和硅自由基仅在低于-20°C的恒定辐射下稳定。锗自由基和锗的ESR谱。Si(2,4,6-Me 3C 6 H 2)3(它是第一个被光谱鉴定的三芳基甲硅烷基基团)显示出所有质子偶合的等价等效物,这是由于芳族环扭曲成围绕金属的“螺旋桨”排列所致。还报道了这些自由基的前体的合成和表征。
The first reversible thermal dissociation of digermanes R<sub>3</sub>Ge–GeR<sub>3</sub>giving germyl radicals R<sub>3</sub>Ge·, and of disilanes R<sub>3</sub>Si–SiR<sub>3</sub>giving silyl radicals R<sub>3</sub>Si·
作者:Wilhelm P. Neumann、Klaus-Dieter Schultz
DOI:10.1039/c39820000043
日期:——
reversibly between –12 and +53°C (ΔHMdiss. 87 ± 8 kJ/mol), and the Si–Si bond in hexamesityldisilane behaves analogously between –60 and –20 °C; above these temperatures, irreversible reactions of the radicals occur.