1-(1-butyl)-3-cyclohexyl-5-diazobarbituric acid | 116418-83-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二嗪类
• 英文名称: 1-(1-butyl)-3-cyclohexyl-5-diazobarbituric acid
• 英文别名: 3-Butyl-1-cyclohexyl-5-diazonio-2,6-dioxo-1,2,3,6-tetrahydropyrimidin-4-olate；3-butyl-1-cyclohexyl-5-diazonio-2,6-dioxopyrimidin-4-olate
• CAS: 116418-83-8
• 化学式: C₁₄H₂₀N₄O₃
• 分子量: 292.338
• InChiKey: LNCFUUHQWXFFTG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  91.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  对甲苯磺酰叠氮 、 1-(1-butyl)-3-cyclohexylbarbituric acid 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 、 乙腈 为溶剂， 生成 1-(1-butyl)-3-cyclohexyl-5-diazobarbituric acid
  参考文献：
  名称：

  1,3 Disubstituted-5-diazobarbituric acids

  摘要：

  本发明涉及从具有以下式的5-二氮杂巴比妥酸的取代衍生物中选择的化合物：其中R₁和R₂是选自C₃到C₁₂烷基、环己基、苄基和C₂到C₆芳基烷基的取代基，其中R₃和R₄是选自C₁到C₁₂烷基、环己基、苄基或其他C₂到C₆芳基烷基的取代基，R₅选自α,ω-二取代的C₂到C₁₂烷基、亚甲基二环己基或C₁到C₆二烷基苯基。这些化合物在吸收峰近260纳米处提供DUV响应。所选取代基被选择为非吸收烷基基团，可在曝光期间有效光漂白感光剂。本发明的感光剂设计用于在DUV区域中发挥作用，并可用于半导体器件的制造。

  公开号：

  US04902784A1

文献信息

• Deep UV photoresist composition with 1,3-disubstituted-5-diazobarbituric
  申请人：Allied Corporation

  公开号：US04735885A1

  公开（公告）日：1988-04-05

  Disclosed are substituted derivatives of 5-diazobarbituric acid selected from those having the formulas: ##STR1## wherein R.sub.1 and R.sub.2 are substituents selected from the group consisting of C.sub.3 to C.sub.12 alkyl, cyclohexyl, benzyl and C.sub.2 to C.sub.6 aralkyl groups, wherein R.sub.3 and R.sub.4 are substituents selected from the group consisting of C.sub.1 to C.sub.12 alkyl, cyclohexyl, benzyl or other C.sub.2 to C.sub.6 aralkyl groups and R.sub.5 is selected from the group consisting of .alpha.,.omega.-disubstituted C.sub.2 to C.sub.12 alkyl, methylene dicyclohexyl, or C.sub.1 to C.sub.6 dialkylphenylene. These compounds provide DUV response with an absorption maximum near 260 nm. The substituents are chosen to be nonabsorbing alkyl groups that allow efficient photobleaching of the sensitizer during exposure. The sensitizers of the present invention are designed to function in the DUV region and are useful in the manufacture of semi-conductor devices.

  本发明涉及5-二氮杂巴比妥酸的取代衍生物，所选的衍生物具有以下公式：其中R1和R2是从C3到C12烷基，环己基，苄基和C2到C6芳基烷基组成的取代基，其中R3和R4是从C1到C12烷基，环己基，苄基或其他C2到C6芳基烷基组成的取代基，R5选自α,ω-二取代的C2到C12烷基，亚甲基二环己基或C1到C6二烷基苯基组成的取代基。这些化合物在吸收最大值接近260nm的DUV响应中提供。所选的取代基是非吸收烷基，可以在曝光期间有效光漂白敏化剂。本发明的敏化剂设计用于DUV区域，并且在半导体器件的制造中有用。
• BARBITURIC ACID COMPOUNDS, PHOTORESISTS THEREFROM AND METHOD FOR PREPARATION
  申请人：HOECHST CELANESE CORPORATION

  公开号：EP0346339B1

  公开（公告）日：1992-09-09
• HOPF, FREDERICK R.;MCFARLAND, MICHAEL J.
  作者：HOPF, FREDERICK R.、MCFARLAND, MICHAEL J.

  DOI：——

  日期：——
• NOVEL BARBITURIC ACID COMPOUNDS, PHOTORESISTS THEREFROM AND METHOD FOR PREPARATION
  申请人：HOECHST CELANESE CORPORATION

  公开号：EP0346339A1

  公开（公告）日：1989-12-20
• US4735885A
  申请人：——

  公开号：US4735885A

  公开（公告）日：1988-04-05