Tris-(phenylsulfonyl)-methan | 15795-46-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Tris-(phenylsulfonyl)-methan
• 英文别名: Bis(benzenesulfonyl)methylsulfonylbenzene
• CAS: 15795-46-7
• 化学式: C₁₉H₁₆O₆S₃
• 分子量: 436.53
• InChiKey: YWVZTPCEZKPIIT-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  215-217 °C
• 沸点：
  727.0±60.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.436±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  128
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Tris-(phenylsulfonyl)-methan 在 水 、 氯 作用下， 生成 tris-benzenesulfonyl-chloro-methane
  参考文献：
  名称：

  Laves, Chemische Berichte, 1892, vol. 25, p. 356

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  Bis(phenylsulfonyl)(phenylthio)methane 在 potassium permanganate 作用下， 生成 Tris-(phenylsulfonyl)-methan
  参考文献：
  名称：

  Laves, Chemische Berichte, 1892, vol. 25, p. 356

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Photosensitive composition and method for forming pattern using same
  申请人：Saito Satoshi

  公开号：US20060003254A1

  公开（公告）日：2006-01-05

  The photosensitive composition of the invention contains a polymer material having a group having a structure represented by following general formula (2), and a photo acid generator generating acid with an ultraviolet ray or an ionizing radiation wherein m represents an integer of 0 or more.
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME
  申请人：Saito Satoshi

  公开号：US20070224549A1

  公开（公告）日：2007-09-27

  The photosensitive composition of the invention contains a polymer material having a group having a structure represented by following general formula (2), and a photo acid generator generating acid with an ultraviolet ray or an ionizing radiation wherein m represents an integer of 0 or more.
• US5348838A
  申请人：——

  公开号：US5348838A

  公开（公告）日：1994-09-20
• US7241554B2
  申请人：——

  公开号：US7241554B2

  公开（公告）日：2007-07-10
• US7338755B2
  申请人：——

  公开号：US7338755B2

  公开（公告）日：2008-03-04