3-(trifluoromethyl)phenyl-2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate | 1350652-45-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: 3-(trifluoromethyl)phenyl-2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate
• 英文别名: [3-(Trifluoromethyl)phenyl] 2,2-difluoro-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)pentanoate
• CAS: 1350652-45-7
• 化学式: C₁₆H₁₅F₅O₄
• 分子量: 366.285
• InChiKey: CIRNBLCMCZEQLI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,2-二氟-3-(甲基丙烯酰氧基)戊酸 、 间三氟甲基苯酚 在 盐酸 、 4-二甲氨基吡啶 、 N,N'-二环己基碳二亚胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以62%的产率得到3-(trifluoromethyl)phenyl-2,2-difluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER AND COMPOUND

  摘要：

  提供一种辐射敏感的树脂组合物，可在液体浸没光刻工艺中提供抗蚀涂层膜，该辐射敏感的树脂组合物能够在曝光过程中展现出极大的动态接触角，从而使抗蚀涂层膜表面表现出优越的排水性能，并且该辐射敏感的树脂组合物能够在显影过程中引起动态接触角的显著降低，从而可以抑制显影缺陷的产生，并进一步缩短动态接触角变化所需的时间。该辐射敏感的树脂组合物包括（A）一种含氟聚合物，其具有包括以下公式（1）所表示的基团的结构单元（I），以及（B）一种辐射敏感的酸发生剂。

  公开号：

  US20130122426A1

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND POLYMER
  申请人：NAKAHARA Kazuo

  公开号：US20120034560A1

  公开（公告）日：2012-02-09

  A radiation-sensitive resin composition includes (A) a polymer that includes a structural unit (I) including a group shown by the following formula (i), (B) a photoacid generator, and (C) a polymer that has a fluorine atom content lower than that of the polymer (A), and includes an acid-labile group. The polymer (A) preferably includes a structural unit shown by the following formula (1) as the structural unit (I). It is preferable that X in the formula (1) represent a divalent or trivalent chain-like hydrocarbon group or alicyclic hydrocarbon group.
• US9040221B2
  申请人：——

  公开号：US9040221B2

  公开（公告）日：2015-05-26
• US9261780B2
  申请人：——

  公开号：US9261780B2

  公开（公告）日：2016-02-16
• [EN] RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND COMPOUND<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF EN RÉSINE PROTECTRICE, POLYMÈRE ET COMPOSÉ
  申请人：JSR CORP

  公开号：WO2011145702A1

  公开（公告）日：2011-11-24

  　本発明は、液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことによりレジスト被膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与え、さらに動的接触角の変化に要する時間を短縮できる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明は［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。
• [EN] RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND COMPOUND<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE, POLYMÈRE ET COMPOSÉ
  申请人：JSR CORP

  公开号：WO2011145703A1

  公开（公告）日：2011-11-24

  　本発明は、液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与え、さらに動的接触角の変化に要する時間を短縮できる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明は［Ａ］下記式（１）で表される基を含む構造単位（Ｉ）を有する含フッ素重合体、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。