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6,6'-sulfanediyl-bis-pyridin-3-ylamine | 32605-02-0

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
6,6'-sulfanediyl-bis-pyridin-3-ylamine
英文别名
bis-(5-amino-[2]pyridyl)-sulfide;Bis-(5-amino-[2]pyridyl)-sulfid;Bis(5-Aminopyridin-2-yl)sulfane;6-(5-aminopyridin-2-yl)sulfanylpyridin-3-amine
6,6'-sulfanediyl-bis-pyridin-3-ylamine化学式
CAS
32605-02-0
化学式
C10H10N4S
mdl
——
分子量
218.282
InChiKey
WGESOZFMSBVCGU-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
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  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.2
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    103
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    5

SDS

SDS:f5ec78ed344c6b4f32a376e0798356f6
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上下游信息

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    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Heterocyclic compounds and medical use thereof
    申请人:AJINOMOTO CO., INC.
    公开号:US20020133005A1
    公开(公告)日:2002-09-19
    The present invention provides an AP-1 activation inhibitor, a NF-kappaB activation inhibitor, an inflammatory cytokine production inhibitor, a production inhibitor for matrix metalloprotease or an inflammatory cell adhesion factor expression inhibitor, which contains a heterocyclic compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient.
    本发明提供了一种AP-1激活抑制剂、一种NF-kappaB激活抑制剂、一种炎症细胞因子产生抑制剂、一种基质金属蛋白酶产生抑制剂或一种炎症细胞黏附因子表达抑制剂,其包含一种杂环化合物或其药用可接受的盐作为活性成分。
  • HETEROCYCLIC COMPOUNDS AND MEDICINAL USE THEREOF
    申请人:Ajinomoto Co., Inc.
    公开号:EP1193255A1
    公开(公告)日:2002-04-03
    The present invention provides an AP-1 activation inhibitor, a NF-kappaB activation inhibitor, an inflammatory cytokine production inhibitor, a production inhibitor for matrix metalloprotease or an inflammatory cell adhesion factor expression inhibitor, which contains a heterocyclic compound or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient.
    本发明提供了一种 AP-1 活化抑制剂、NF-kappaB 活化抑制剂、炎症细胞因子产生抑制剂、基质金属蛋白酶产生抑制剂或炎症细胞粘附因子表达抑制剂,其中含有杂环化合物或其药学上可接受的盐作为活性成分。
  • COMPOSITION HAVING REFRACTIVE INDEX SENSITIVELY CHANGEABLE BY RADIATION AND METHOD FOR FORMING REFRACTIVE INDEX PATTERN
    申请人:JSR Corporation
    公开号:EP1235104A1
    公开(公告)日:2002-08-28
    A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A) a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound having a lower refractive index than the decomposable compound (A), (C) a radiation sensitive decomposer and (D) a stabilizer. By exposing the composition to radiation through a pattern mask, the above components (C) and (A) of an exposed portion are decomposed and a refractive index difference is made between the exposed portion and unexposed portion, thereby forming a pattern having different refractive indices.
    一种对辐射敏感的折射率变化组合物,包括:(A)可分解化合物;(B)折射率低于可分解化合物(A)的不可分解化合物;(C)对辐射敏感的分解剂;以及(D)稳定剂。通过图案掩膜将组合物暴露在辐射下,暴露部分的上述成分(C)和(A)被分解,暴露部分和未暴露部分之间产生折射率差,从而形成具有不同折射率的图案。
  • RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CHANGING IN REFRACTIVE INDEX AND METHOD OF CHANGING REFRACTIVE INDEX
    申请人:JSR Corporation
    公开号:EP1350814A1
    公开(公告)日:2003-10-08
    A radiation sensitive refractive index changing composition comprising (A) a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound having a higher refractive index than the decomposable compound (A), (C) a radiation sensitive decomposer and (D) astabilizer. By exposing this composition to radiation through a pattern mask, the above components (C) and (A) of an exposed portion decompose to create a refractive index difference between the exposed portion and an unexposed portion, thereby forming a pattern having different refractive indices.
    一种对辐射敏感的折射率变化组合物,包括:(A) 可分解化合物;(B) 折射率高于可分解化合物(A)的不可分解化合物;(C) 对辐射敏感的分解剂;(D) 稳定剂。通过图案掩膜将这种组合物暴露在辐射下,暴露部分的上述成分(C)和(A)分解,在暴露部分和未暴露部分之间产生折射率差,从而形成具有不同折射率的图案。
  • RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION CAPABLE OF HAVING REFRACTIVE INDEX DISTRIBUTION
    申请人:JSR Corporation
    公开号:EP1369459A1
    公开(公告)日:2003-12-10
    A method of forming a refractive index pattern or an optical material stable regardless of use conditions, which provides a sufficiently large change in refractive index by a simple method. The refractive index pattern or optical material is formed by exposing a refractive index changing composition which comprises (A) a decomposable compound, (B) a non-decomposable compound containing inorganic oxide particles and (C) a radiation sensitive decomposer to radiation and then treating it with (D) a stabilizer.
    一种形成折射率图案或光学材料的方法,无论使用条件如何,它都能保持稳定,并能通过简单的方法提供足够大的折射率变化。 折射率图案或光学材料的形成方法是:将由 (A) 可分解化合物、(B) 含无机氧化物颗粒的不可分解化合物和 (C) 辐射敏感分解物组成的折射率变化组合物暴露于辐射中,然后用 (D) 稳定剂处理。
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表征谱图

  • 氢谱
    1HNMR
  • 质谱
    MS
  • 碳谱
    13CNMR
  • 红外
    IR
  • 拉曼
    Raman
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mass
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ir
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  • 峰位数据
  • 峰位匹配
  • 表征信息
Shift(ppm)
Intensity
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Assign
Shift(ppm)
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测试频率
样品用量
溶剂
溶剂用量
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