4,4'-二叠氮基二苯乙烯 | 10193-62-1

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 烯烃（环状与无环状）
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二苯乙烯类
• 中文名称: 4,4'-二叠氮基二苯乙烯
• 英文名称: (E)-4,4’-diazido stilbene
• 英文别名: p,p'-Diazidostilbene；1-azido-4-[(E)-2-(4-azidophenyl)ethenyl]benzene
• CAS: 10193-62-1
• 化学式: C₁₄H₁₀N₆
• 分子量: 262.274
• InChiKey: HWEONUWVYWIJPF-OWOJBTEDSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.1
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  28.7
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 海关编码：
  2929909090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,4'-二叠氮基二苯乙烯 以 various solvent(s) 为溶剂， 生成 4,4'-stilbenedinitrene
  参考文献：
  名称：

  表征醌型二硝烯的三重态作为共轭长度的函数

  摘要：

  对，对'-二叠氮前体在 2-甲基四氢呋喃中的光解得到双自由基 ESR 光谱，可归属于具有激发三重双自由基状态的醌型二硝烯。77 K 双自由基的零场分裂 (zfs) 参数如下： 1,4-亚苯基二烯 (|D/hc| = 0.169 cm-1, |E/hc| = 0.004 cm-1)；4,4'-联苯二甲苯（|D/hc| = 0.188 cm-1，|E/hc| ≤ 0.002 cm-1）；4,4'-二苯乙烯二烯（|D/hc| = 0.122 cm-1，|E/hc| < 0.002 cm-1）；1,4-双（对硝基苯）丁-1,3-二烯（|D/hc| = 0.0865 cm-1，|E/hc| < 0.002 cm-1）；1,8-双（对硝基苯）八-1,3,5,7-四烯（|D/hc| = 0.0442 cm-1，|E/hc| < 0.001 cm-1）。这些 zfs 参数与局部双自由基中 ESR 光谱的简

  DOI：

  10.1021/ja963648d
• 作为产物：
  描述：

  (E)-4-(对氨基苯)乙烯 在 盐酸 、 sodium azide 、 sodium nitrite 作用下， 生成 4,4'-二叠氮基二苯乙烯
  参考文献：
  名称：

  表征醌型二硝烯的三重态作为共轭长度的函数

  摘要：

  对，对'-二叠氮前体在 2-甲基四氢呋喃中的光解得到双自由基 ESR 光谱，可归属于具有激发三重双自由基状态的醌型二硝烯。77 K 双自由基的零场分裂 (zfs) 参数如下： 1,4-亚苯基二烯 (|D/hc| = 0.169 cm-1, |E/hc| = 0.004 cm-1)；4,4'-联苯二甲苯（|D/hc| = 0.188 cm-1，|E/hc| ≤ 0.002 cm-1）；4,4'-二苯乙烯二烯（|D/hc| = 0.122 cm-1，|E/hc| < 0.002 cm-1）；1,4-双（对硝基苯）丁-1,3-二烯（|D/hc| = 0.0865 cm-1，|E/hc| < 0.002 cm-1）；1,8-双（对硝基苯）八-1,3,5,7-四烯（|D/hc| = 0.0442 cm-1，|E/hc| < 0.001 cm-1）。这些 zfs 参数与局部双自由基中 ESR 光谱的简

  DOI：

  10.1021/ja963648d

文献信息

• High performance curable polymers and processes for the preparation thereof
  申请人：Xerox Corporation

  公开号：US20040229164A9

  公开（公告）日：2004-11-18

  Disclosed is a composition which comprises a polymer containing at least some monomer repeat units with photosensitivity-imparting substituents which enable crosslinking or chain extension of the polymer upon exposure to actinic radiation, said polymer being of the formula 1 wherein x is an integer of 0 or 1, A is one of several specified groups, such as 2 B is one of several specified groups, such as 3 or mixtures thereof, and n is an integer representing the number of repeating monomer units, wherein said photosensitivity-imparting substituents are allyl ether groups, epoxy groups, or mixtures thereof. Also disclosed are a process for preparing a thermal ink jet printhead containing the aforementioned polymers and processes for preparing the aforementioned polymers.

  本发明涉及一种组成物，其包括聚合物，该聚合物含有至少一些具有光敏感性取代基的单体重复单元，该取代基使得聚合物在暴露于光致辐射下发生交联或链延伸，该聚合物的化学式为1，其中x是0或1的整数，A是若干指定的基团之一，例如2，B是若干指定的基团之一，例如3，或其混合物，n是表示重复单体单位数的整数，其中所述的光敏感性取代基是烯丙基醚基，环氧基或其混合物。本发明还涉及制备含有上述聚合物的热喷墨喷头的方法以及制备上述聚合物的方法。
• HIGH PERFORMANCE CURABLE POLYMERS AND PROCESSES FOR THE PREPARATION THEREOF
  申请人：Narang Ram S.

  公开号：US20080199810A1

  公开（公告）日：2008-08-21

  Disclosed is a composition which comprises a polymer containing at least some monomer repeat units with photosensitivity-imparting substituents which enable crosslinking or chain extension of the polymer upon exposure to actinic radiation, said polymer being of the formula wherein x is an integer of 0 or 1, A is one of several specified groups, such as B is one of several specified groups, such as or mixtures thereof, and n is an integer representing the number of repeating monomer units, wherein said photosensitivity-imparting substitutents are allyl ether groups, epoxy groups, or mixtures thereof. Also disclosed is a process for preparing a thermal ink jet printhead containing the aforementioned polymers and processes for preparing the aforementioned polymers.

  本发明涉及一种组合物，其包括至少含有一些具有光敏感基团的单体重复单元的聚合物，这些基团使得聚合物在暴露于光辐射下发生交联或链延伸，所述聚合物的化学式为其中x为0或1的整数，A是几个指定的基团之一，例如B是几个指定的基团之一，例如或其混合物，n代表重复单体单元的数量，其中所述的光敏感基团是烯丙基醚基团、环氧基团或其混合物。本发明还涉及一种制备含有上述聚合物的热喷墨头的方法，以及制备上述聚合物的方法。
• Synthesis and Biological Evaluation of DIDS Analogues as Efficient Inhibitors of RAD51 Involved in Homologous Recombination
  作者：Alexandre Demeyer、Lucie Fonteneau、Marion Liennard、Claire Foyer、Pierre Weigel、Adèle Laurent、Jacques Lebreton、Fabrice Fleury、Monique Mathé-Allainmat

  DOI：10.1016/j.bmcl.2023.129261

  日期：2023.3

  2′-disulfonic acid (DIDS), two series of analogues with small or bulky substituents on the aromatic parts of the stilbene moiety were prepared for a structure–activity relationship study. Three compounds, the cyano analogue (12), and benzamide (23) or phenylcarbamate (29) analogues of DIDS were characterized as novel potent RAD51 inhibitors with HR inhibition in the micromolar range.

  RAD51 是同源重组 DNA 修复途径的关键蛋白，在某些癌细胞中过表达，从而破坏了癌症治疗的效率。RAD51 抑制剂的开发似乎是一种有前途的解决方案，可以恢复这些癌细胞对放疗或化疗的敏感性。从被鉴定为 RAD51 调节剂的小分子 4,4'-二异硫氰基芪-2,2'-二磺酸 (DIDS)，制备了在茋部分的芳香部分上具有小或大取代基的两个系列类似物，用于构效关系研究。三种化合物，氰基类似物 ( 12 ) 和苯甲酰胺 ( 23 ) 或氨基甲酸苯酯 ( 29) DIDS 的类似物被表征为新型强效 RAD51 抑制剂，在微摩尔范围内具有 HR 抑制作用。
• Unter der Einwirkung von Licht härtbare, Bis-Azidophthalimidyl-Derivate enthaltende Stoffgemische
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0001597A1

  公开（公告）日：1979-05-02

  Die erfindungsgemäßen Stoffgemische bestehen aus mindestens einer polymeren Verbindung und mindestens einer Verbindung der Formel worin R einen zweiwertigen organischen Rest bedeutet Dabei beträgt das Gewichtsverhältnis Polymer zu Verbindung der Formel I etwa 9:1 bis 1:4. j Die Verbindungen der Formel I und somit auch die Stoffgsmische können unter der Einwirkung von Licht gehärtet (vernetzt) werden. Sie sind bei gleich guter Lichtempfindi lichkeit in Bezug auf Thermostabilität und Oxidationsbeständigkeit bekannten Systemen überlegen.

  根据本发明，物质混合物由至少一种聚合化合物和至少一种式化合物组成，其中 R 为二价有机基。
• A reflection preventive light-shielding screen and a process for producing the same
  申请人：Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha

  公开号：EP0066745A2

  公开（公告）日：1982-12-15

  A reflection preventive light-shielding screen comprising a transparent plate and a side surface-rough relief of a cured photopolymerized resin composition formed thereon and having a striped pattern or a lattice pattern. The present reflection preventive light-shielding screen can effectively shield extraneous light rays without scattering the light rays emitted from image-indicating devices. Therefore, the present reflection preventive light-shielding screen can be advantageously used for various extraneous light rays-shielding applications. Furthermore, the present reflection preventive light-shielding screen can be produced by an extremely simple process as compared with those of the prior art.

  一种防反射遮光屏，包括透明板和在其上形成的具有条纹图案或格子图案的固化光聚合树脂组合物的侧表面透光浮雕。 本防反射遮光屏可以有效地遮挡外来光线，而不会散射图像指示装置发出的光线。 因此，本防反射遮光屏可以很好地用于各种遮挡外来光线的应用。 此外，与现有技术相比，本防反射遮光屏的生产工艺极其简单。