4-butylsulfanylphenyl 4-methylbenzenesulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-butylsulfanylphenyl 4-methylbenzenesulfonate
• 英文别名: (4-Butylsulfanylphenyl) 4-methylbenzenesulfonate；(4-butylsulfanylphenyl) 4-methylbenzenesulfonate
• 化学式: C₁₇H₂₀O₃S₂
• 分子量: 336.476
• InChiKey: CZOFNICISQCSAH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.1
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  77
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-butylsulfanylphenyl 4-methylbenzenesulfonate 在 间氯过氧苯甲酸 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以90 %的产率得到4-(butylsulfinyl)phenyl 4-methylbenzenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Defluorinative Multi‐Functionalization of Fluoroaryl Sulfoxides Enabled by Fluorine‐Assisted Temporary Dearomatization

  摘要：

  摘要由于其独特的物理特性，氟经常被用来开辟新的反应途径。在本报告中，我们建立了[5,5]重排和氟辅助临时脱芳烃的合作关系，以实现炔的多功能化。具体来说，[5,5]-氟芳基硫醚与 β,γ-不饱和腈的重排反应会产生一种有趣的脱芳基锍物种，这种锍物种的寿命很短，但却表现出异常高的亲电性，因此可以在极低的温度（-95 °C）下被亲核剂和二烯瞬间捕获，分别生成四种有价值的多功能化苯，其中涉及脱氟、脱硫和硫转移等吸引人的过程。机理研究表明，在炔类化合物上使用氟，不仅可以规避一般不可避免的 [3,3]- 重排，还可以阻碍不受欢迎的重芳烃化过程，从而为构建和阐述暂时脱芳烃的氟化锍物种提供了宝贵的空间。

  DOI：

  10.1002/anie.202306914
• 作为产物：
  描述：

  丁硫醇 、 (4-溴苯基)4-甲基苯磺酸盐 在 potassium carbonate 、 tris(dibenzylideneacetone)dipalladium (0) 、 4,5-双二苯基膦-9,9-二甲基氧杂蒽 作用下， 以 xylene 为溶剂， 反应 0.4h， 以87%的产率得到4-butylsulfanylphenyl 4-methylbenzenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Pd2(dba)3/Xantphos-catalyzed cross-coupling of thiols and aryl bromides/triflates

  摘要：

  The cross-coupling of aliphatic and aromatic thiols and aryl bromides/triflates mediated by a Pd-2(dba)(3)/Xantphos catalytic system in refluxing xylene (140 degrees C) affords the corresponding aryl thioethers in good to excellent yields. (c) 2005 Elsevier Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.tet.2005.03.078

文献信息

• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20020192593A1

  公开（公告）日：2002-12-19

  A radiation-sensitive resin composition comprising (A) a compound of the following formula (1), 1 (R 1 , R 2 , and R 3 is hydrogen, hydroxyl group, or monovalent organic group and R 4 is monovalent acid-dissociable group), (B) analkali insoluble or scarcely soluble resin comprising a recurring unit of the following formula (2), 2 (R 5 is hydrogen or monovalent organic group, R 40 hydrogen or methyl, n 1 - 3 , m 0 - 3 ) and a recurring unit containing acid-dissociable group, and (C) a photoacid generator. The resin composition is useful as a chemically amplified resist, exhibits high sensitivity, resolution, radiation transmittance, and surface smoothness, and is free from the problem of partial insolublization during overexposure.

  一种辐射敏感性树脂组合物，包括(A)下式(1)的化合物、 1 (R 1 , R 2 和 R 3 是氢、羟基或单价有机基团，且 R 4 是一价酸可分解基团），(B) 碱不溶性或难溶性树脂，包含下式（2）的重复单元、 2 (R 5 是氢或一价有机基团，R 40 氢或甲基，n 1 - 3 , m 0 - 3 (C) 光酸发生器。这种树脂组合物可用作化学放大抗蚀剂，具有高灵敏度、高分辨率、高辐射透过率和表面光滑度，而且不会在过度曝光时出现部分不溶解的问题。
• US6821705B2
  申请人：——

  公开号：US6821705B2

  公开（公告）日：2004-11-23