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丙烯酸-9-蒽酯 | 19090-98-3

中文名称
丙烯酸-9-蒽酯
中文别名
——
英文名称
AnOCOCH=CH2
英文别名
CH2=CHCO2An;CH2=CHCOO-9-anthryl;Anthracen-9-yl acrylate;anthracen-9-yl prop-2-enoate
丙烯酸-9-蒽酯化学式
CAS
19090-98-3
化学式
C17H12O2
mdl
——
分子量
248.281
InChiKey
OFEJTNPQBFIPPR-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    442.8±12.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.200±0.06 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.8
  • 重原子数:
    19
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    26.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    二苯并-24-冠醚-8 、 、 丙烯酸-9-蒽酯RuCl2(1,3-dimesityl-imidazolidin-2-yl)(PCy3)(=CHPh) 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 12.0h, 以88%的产率得到[{(C6H3-3,5-Me2)CH2NH2CH2C6H4-4-OCH2CH2CH=CHCOOAn}(DB24C8)](BArF)
    参考文献:
    名称:
    Rotaxanes of a macrocyclic ferrocenophane with dialkylammonium axle components
    摘要:
    八氧化[22]铁松烯,为1,已被合成并用作[2]旋转链的宏环成分。由宏环分子1和具有端基乙烯基的二烷基铵衍生物组成的[2]伪旋转链通过与体积较大的丙烯酸酯的端基交叉转位反应进行封端。1与具有体积较大端基的轴心成分(如3,5-二甲基苯基、9-蒽基和铁松烯基团)形成的[2]旋转链在CDCl3溶液中保持互锁结构,但在极性溶剂(如CD3CN和dmso-d6)中,它们逐渐通过端基的解缠转化为各个成分的混合物。反应速率因端基和溶剂的不同而有所变化。具有蒽基端基的阳离子旋转链[(1){AnCH2NH2CH2C6H4-4-OCH2CH2CHCHCOOC6H4-4-C(C6H4-4-tBu)3}](BArF)(An = 9-蒽基,BArF = B{C6H3-3,5-(CF3)2}4)在激发蒽基时显示出微弱的发射(12b,λem = 419 nm,量子产率,ϕ = 0.012)。其量子产率低于通过N-乙酰化12b形成的中性旋转链13b(ϕ = 0.030),以及相应的游离轴心分子AnCH2N(Ac)CH2C6H4-4-OCH2CH2CHCHCOOC6H4-4-C(C6H4-4-tBu)3(8)和1的物理混合物(ϕ = 0.34)。由能量转移引起的铁松烯基团造成的猝灭效率在旋转链中蒽基和铁松烯基团的相对位置上受到显著影响。具有二级铵基团的旋转链的氧化还原电位E1/2 = −0.03–0.02 V(相对于Ag+/Ag),低于化合物1的电位(E1/2 = −0.10 V)以及具有N-乙酰化轴心成分的中性[2]旋转链的电位(E1/2 = −0.11和−0.22 V)。
    DOI:
    10.1039/b907417a
  • 作为产物:
    描述:
    蒽酮丙烯酰氯三乙胺 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 3.0h, 以37%的产率得到丙烯酸-9-蒽酯
    参考文献:
    名称:
    Rotaxanes of a macrocyclic ferrocenophane with dialkylammonium axle components
    摘要:
    八氧化[22]铁松烯,为1,已被合成并用作[2]旋转链的宏环成分。由宏环分子1和具有端基乙烯基的二烷基铵衍生物组成的[2]伪旋转链通过与体积较大的丙烯酸酯的端基交叉转位反应进行封端。1与具有体积较大端基的轴心成分(如3,5-二甲基苯基、9-蒽基和铁松烯基团)形成的[2]旋转链在CDCl3溶液中保持互锁结构,但在极性溶剂(如CD3CN和dmso-d6)中,它们逐渐通过端基的解缠转化为各个成分的混合物。反应速率因端基和溶剂的不同而有所变化。具有蒽基端基的阳离子旋转链[(1){AnCH2NH2CH2C6H4-4-OCH2CH2CHCHCOOC6H4-4-C(C6H4-4-tBu)3}](BArF)(An = 9-蒽基,BArF = B{C6H3-3,5-(CF3)2}4)在激发蒽基时显示出微弱的发射(12b,λem = 419 nm,量子产率,ϕ = 0.012)。其量子产率低于通过N-乙酰化12b形成的中性旋转链13b(ϕ = 0.030),以及相应的游离轴心分子AnCH2N(Ac)CH2C6H4-4-OCH2CH2CHCHCOOC6H4-4-C(C6H4-4-tBu)3(8)和1的物理混合物(ϕ = 0.34)。由能量转移引起的铁松烯基团造成的猝灭效率在旋转链中蒽基和铁松烯基团的相对位置上受到显著影响。具有二级铵基团的旋转链的氧化还原电位E1/2 = −0.03–0.02 V(相对于Ag+/Ag),低于化合物1的电位(E1/2 = −0.10 V)以及具有N-乙酰化轴心成分的中性[2]旋转链的电位(E1/2 = −0.11和−0.22 V)。
    DOI:
    10.1039/b907417a
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文献信息

  • JP2001226324A
    申请人:——
    公开号:JP2001226324A
    公开(公告)日:2001-08-21
  • PROCESS FOR PRODUCING POLYMER FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY
    申请人:Yamagishi Takanori
    公开号:US20100048848A1
    公开(公告)日:2010-02-25
    To provide a method for producing a polymer for semiconductor lithography which can attain high uniformity in the polymer from lot to lot. The method for producing a polymer for semiconductor lithography includes the step (P) of heating a polymerizable monomer and a polymerization initiator in a solvent, to thereby polymerize the monomer, the step (P) having the step of controlling a polymerization pressure by regulating a liquid level in a container (WO) which is disposed between a polymerization tank and the atmospheric air and which provides liquid sealing.
  • METHOD FOR PRODUCING A COPOLYMER FOR PHOTORESIST
    申请人:Oikawa Tomo
    公开号:US20100222526A1
    公开(公告)日:2010-09-02
    The present invention provides a method for production of a copolymer for photoresists in which the bias of the monomer composition ration is small. This method for production is a method for production of a copolymer for photoresists, which copolymer containing at least two types of repeating units, the method having a supplying step of supplying a monomer solution and a solution containing a polymerization initiator into a polymerization reaction system, wherein the range of fluctuation of the monomer composition ratio of unreacted monomers is within the range between minus 15% and plus 15% or the standard deviation of the monomer composition ratio of unreacted monomers is within 2 in the polymerization reaction system during the period from the start of the polymerization reaction to the end of supplying of the monomer solution.
  • US8030419B2
    申请人:——
    公开号:US8030419B2
    公开(公告)日:2011-10-04
  • US8455596B2
    申请人:——
    公开号:US8455596B2
    公开(公告)日:2013-06-04
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