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氧基二乙酸二烯丙酯 | 5441-63-4

中文名称
氧基二乙酸二烯丙酯
中文别名
——
英文名称
3-oxa-glutaric acid diallyl ester
英文别名
Bis-allyloxycarbonylmethyl-aether;3-Oxa-glutarsaeure-diallylester;Diglykolsaeure-diallylester;Diallyl diglycolate;prop-2-enyl 2-(2-oxo-2-prop-2-enoxyethoxy)acetate
氧基二乙酸二烯丙酯化学式
CAS
5441-63-4
化学式
C10H14O5
mdl
MFCD07656656
分子量
214.218
InChiKey
OUJKULZFRNPRHO-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    147-148°C 8mm

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.2
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    10
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.4
  • 拓扑面积:
    61.8
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    5

安全信息

  • 危险等级:
    6.1(b)
  • 危险类别码:
    R36/37/38
  • 海关编码:
    2918990090
  • 包装等级:
    III
  • 危险类别:
    6.1(b)
  • 危险品运输编号:
    UN 2810

SDS

SDS:e2634fd22a78b1627df62b7431db96c7
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上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    氧基二乙酸二烯丙酯diphenyltin 以 not given 为溶剂, 生成 {Sn(C6H5)2CH2CH2CH2OOCCH2OCH2COOCH2CH2CH2}n
    参考文献:
    名称:
    Leusink, A. J.; Noltes, J. G.; Budding, H. A., Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1964, vol. 83, p. 609 - 620
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    二甘醇酸烯丙醇硫酸 作用下, 生成 氧基二乙酸二烯丙酯
    参考文献:
    名称:
    Schostakowskii et al., Zhurnal Prikladnoi Khimii, 1957, vol. 30, p. 971; engl.Ausg.S.1032
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • TMSCl Promoted Direct Conversion of Cyclic Anhydrides to (Un)Symmetric‐Diesters/Amide Esters
    作者:Meera Johny、Amuda Manikandan、Goreti Rajendar
    DOI:10.1002/asia.202301017
    日期:2024.2
    A mild, novel, and efficient silyl-promoted conversion of cyclic anhydride to diesters and amide esters. The reaction follows a two-step process, ring opening of anhydride by amine or alcohol following esterification. The reaction was carried out in the presence and absence of base. The method has broad substrate scope and is applicable for the synthesis of commercial plasticizers.
    一种温和、新颖且高效的甲硅烷基促进环酸酐向二酯和酰胺酯的转化。该反应分两步进行,酯化后通过胺或醇使酸酐开环。反应在碱存在和不存在下进行。该方法底物范围广泛,适用于商业增塑剂的合成。
  • 1,2,4-Trioxane Derivatives
    申请人:Jefford, Charles W.
    公开号:EP0286316A1
    公开(公告)日:1988-10-12
    1,2,4-trioxane derivatives of formula: (wherein     each of the subscripts m and n is equal to 0 or 1;     the symbol Z represents an epoxide oxygen atom at the 5,6 or 6,7 positions, or a pair of electrons forming a double bond at the 5,6 or 6,7 positions;     each of the symbols Ar¹ and Ar², being the same or different, represents an aromatic group which is optionally substituted;     each of the symbols R¹ and R², being the same or different, represents a linear or branched alkyl group, which is optionally substituted, or R¹ and R², taken together with the carbon atom to which they are attached, form an alicyclic group which is optionally interrupted by one or more oxygen, sulphur or nitrogen atoms and which group is optionally substituted with one or more alkyl or aryl groups, or one or more functional groups; and     each of X and Y, being the same or different, represents a hydrogen atom or a functional group which contains oxygen, nitrogen or sulphur) are of use in the treatment of tropical diseases including malaria and have other physiological activities.
    式中的 1,2,4-三氧杂环己烷衍生物: 其中 下标 m 和 n 分别等于 0 或 1; 符号 Z 代表位于 5、6 或 6、7 位的环氧氧原子,或位于 5、6 或 6、7 位的形成双键的一对电子; 符号 Ar¹ 和 Ar² (相同或不同)代表任选被取代的芳香基团; 符号 R¹ 和 R² 中的每个符号,无论相同或不同,均代表任选被取代的直链或支链烷基,或 R¹ 和 R² 与它们所连接的碳原子一起形成脂环族基团,该基团任选被一个或多个氧原子、硫原子或氮原子打断,且该基团任选被一个或多个烷基或芳基或一个或多个官能团取代;以及 X和Y(相同或不同)分别代表一个氢原子或一个含氧、氮或硫的官能团)可用于治疗热带疾病,包括疟疾,并具有其他生理活性。
  • Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Sn: Org.Verb.4, 1.2.2.1.7.4, page 115 - 118
    作者:
    DOI:——
    日期:——
  • US5559145A
    申请人:——
    公开号:US5559145A
    公开(公告)日:1996-09-24
  • [EN] RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION INCLUDING HETEROATOM IN POLYMER MAIN CHAIN<br/>[FR] COMPOSITION DE FORMATION DE FILM DE SOUS-COUCHE DE RÉSERVE COMPRENANT UN HÉTÉROATOME DANS UNE CHAÎNE PRINCIPALE DE POLYMÈRE<br/>[JA] ヘテロ原子をポリマー主鎖中に含むレジスト下層膜形成組成物
    申请人:NISSAN CHEMICAL CORP
    公开号:WO2020022086A1
    公开(公告)日:2020-01-30
    特に高ドライエッチング速度を有するレジスト下層膜、該レジスト下層膜形成組成物、レジストパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。エポキシ付加体形成化合物と、下記式(1): [式(1)中、A1は少なくとも1つの水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく且つ酸素原子、硫黄原子、ジスルフィド基、スルホニル基、カルボニル基若しくはイミノ基で中断されている炭素原子数2乃至10の直鎖若しくは分岐アルキレン基を表す]で表される化合物、とのエポキシ付加生成物と、溶剤とを含む、レジスト下層膜形成組成物とする。
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