triphenyl-iodan | 300669-23-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: triphenyl-iodan
• 英文别名: Triphenyl-jodan；Triphenyljod；Triphenyliodine；triphenyl-λ3-iodane
• CAS: 300669-23-2
• 化学式: C₁₈H₁₅I
• 分子量: 358.222
• InChiKey: ODHKAQHVQPQOFZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.1
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三苯基硼烷 、 triphenyl-iodan 以 乙醚 、 苯 为溶剂， 生成 二苯基碘四苯基硼酸盐
  参考文献：
  名称：

  Wittig, G.; Clauss, K., Liebigs Annalen der Chemie, 1952, vol. 578, p. 136 - 146

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  碘苯 、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 氯 作用下， 生成 triphenyl-iodan
  参考文献：
  名称：

  Diaryliodonium Salts. XIV. Reactions of Organometallic Compounds with Iodosobenzene Dichlorides and with Iodonium Salts^1,2

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01496a066

文献信息

• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030219680A1

  公开（公告）日：2003-11-27

  A radiation-sensitive resin composition suitable as a chemically-amplified resist is provided. The composition comprised (A) a resin insoluble or scarcely soluble in alkali, but becoming alkali soluble by the action of an acid, and (B) a photoacid generator. The resin comprises a recurring unit of the following formula (I), 1 wherein R 1 is typically a hydrogen atom and the —C (R 5 ) 3 structure is a 2-methyl-2-tricyclodecanyl group, 2-ethyl-2-tricyclodecanyl group, 2-methyl-2-adamantyl group, 2-ethyl-2-adamantyl group, 1-methylcyclopentyl group, 1-ethylcyclopentyl group, 1-methylcyclohexyl group, or 1-ethylcyclohexyl group.

  提供一种适用于化学放大光刻胶的辐射敏感树脂组合物。该组合物包含(A)一种碱不溶或难溶的树脂，但在酸的作用下变得碱溶，以及(B)一种光酸发生剂。该树脂包含以下式(I)的重复单元，其中R1通常是氢原子，而—C(R5)3结构是2-甲基-2-三环己基基团、2-乙基-2-三环己基基团、2-甲基-2-金刚烷基团、2-乙基-2-金刚烷基团、1-甲基环戊基团、1-乙基环戊基团、1-甲基环己基团或1-乙基环己基团。
• Coating liquid for forming insulating film and method for producing insulating film
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20040197484A1

  公开（公告）日：2004-10-07

  A coating liquid for forming insulating film which can form insulating film having high adhesion to semiconductor substrate is provided. The coating liquid for forming insulating film comprising following (A) and (B), wherein a water content in the coating liquid is not more than 1% by weight: (A): a heat-reactive nonpolar compound or polymer thereof wherein the heat-reactive nonpolar compound is selected from the group consisting of a compound having not less than two C—C double bonds, a compound having not less than two C—C triple bonds and a compound having at least one C—C double bond and at least one C—C triple bond, (B): at least one compound selected from the group consisting of silane compounds represented by following formulae (1) to (3).

  本发明提供了一种用于形成绝缘膜的涂布液，该涂布液可形成对半导体基底具有高附着力的绝缘膜。用于形成绝缘膜的涂布液包括以下（A）和（B），其中涂布液中的水含量不超过 1%（按重量计）： (A)：热反应性非极性化合物或其聚合物，其中热反应性非极性化合物选自由具有不少于两个 C-C 双键的化合物、具有不少于两个 C-C 三键的化合物和具有至少一个 C-C 双键和至少一个 C-C 三键的化合物组成的组，(B)：至少一种选自由以下式(1)至(3)表示的硅烷化合物组成的组的化合物。
• Wittig; Rieber, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1949, vol. 562, p. 187,190, 192
  作者：Wittig、Rieber

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: B: B-Verb.8, 11.2.4.1, page 173 - 175
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Wittig; Clauss, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1952, vol. 578, p. 136,144
  作者：Wittig、Clauss

  DOI：——

  日期：——