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(E)-ethyl-2-((E)-(4-hydroxy-3,5-dimethoxy benzylidene)hydrazono)-3,4-dimethyl-2,3-dihydro-thiazole-5-carboxylate | 1446892-01-8

中文名称
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中文别名
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英文名称
(E)-ethyl-2-((E)-(4-hydroxy-3,5-dimethoxy benzylidene)hydrazono)-3,4-dimethyl-2,3-dihydro-thiazole-5-carboxylate
英文别名
——
(E)-ethyl-2-((E)-(4-hydroxy-3,5-dimethoxy benzylidene)hydrazono)-3,4-dimethyl-2,3-dihydro-thiazole-5-carboxylate化学式
CAS
1446892-01-8
化学式
C17H21N3O5S
mdl
——
分子量
379.437
InChiKey
ICTCNRYLVRVIHO-JCAVOIIISA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.23
  • 重原子数:
    26.0
  • 可旋转键数:
    6.0
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.35
  • 拓扑面积:
    94.64
  • 氢给体数:
    1.0
  • 氢受体数:
    9.0

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    4-硝基邻苯二甲腈(E)-ethyl-2-((E)-(4-hydroxy-3,5-dimethoxy benzylidene)hydrazono)-3,4-dimethyl-2,3-dihydro-thiazole-5-carboxylatepotassium carbonate 作用下, 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂, 反应 120.0h, 以72%的产率得到(E)-ethyl 2-((E)-(4-(3,4-dicyanophenoxy)-3,5-dimethoxybenzylidene)hydrazono)-3,4-dimethyl-2,3-dihydrothiazole-5-carboxylate
    参考文献:
    名称:
    DBU催化的不含金属和含噻唑和嗪部分的金属酞菁缩合反应的合成,表征和电化学性能
    摘要:
    合成了含有碳硫酰胺部分,取代的噻唑衍生物,新型邻苯二甲腈化合物及其相应的游离金属和金属酞菁(Zn(II),Ni(II),Co(II)和Cu(II))的席夫碱。时间。这些新型酞菁在有机溶剂中的溶解度很高,并且在1.6×10 -5 -4×10 -6  M的浓度范围内不会在氯仿中聚集。通过循环伏安法,方波对酞菁的电化学性质进行了研究。伏安法和原位在二甲基亚砜/高氯酸四丁铵中的铂上进行紫外可见光谱电化学。这些测量表明该化合物显示出随后的配体和/或基于金属的单电子还原和氧化过程。钴配合物显示出金属基和环式一电子氧化还原过程,而其他配合物仅显示基于环的单电子对。观察到,游离金属,锌(II),镍(II)和铜(II)酞菁的氧化还原过程是通过聚集现象耦合的,而那些CoPc则不是,这可能是由于它们的轴向配位性质不同所致。
    DOI:
    10.1016/j.jorganchem.2013.04.043
  • 作为产物:
    描述:
    (E)-2-(4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzylidene)-N-methylhydrazinecarbothioamide2-氯乙酰乙酸乙酯乙醇 为溶剂, 反应 72.0h, 以92.6%的产率得到(E)-ethyl-2-((E)-(4-hydroxy-3,5-dimethoxy benzylidene)hydrazono)-3,4-dimethyl-2,3-dihydro-thiazole-5-carboxylate
    参考文献:
    名称:
    DBU催化的不含金属和含噻唑和嗪部分的金属酞菁缩合反应的合成,表征和电化学性能
    摘要:
    合成了含有碳硫酰胺部分,取代的噻唑衍生物,新型邻苯二甲腈化合物及其相应的游离金属和金属酞菁(Zn(II),Ni(II),Co(II)和Cu(II))的席夫碱。时间。这些新型酞菁在有机溶剂中的溶解度很高,并且在1.6×10 -5 -4×10 -6  M的浓度范围内不会在氯仿中聚集。通过循环伏安法,方波对酞菁的电化学性质进行了研究。伏安法和原位在二甲基亚砜/高氯酸四丁铵中的铂上进行紫外可见光谱电化学。这些测量表明该化合物显示出随后的配体和/或基于金属的单电子还原和氧化过程。钴配合物显示出金属基和环式一电子氧化还原过程,而其他配合物仅显示基于环的单电子对。观察到,游离金属,锌(II),镍(II)和铜(II)酞菁的氧化还原过程是通过聚集现象耦合的,而那些CoPc则不是,这可能是由于它们的轴向配位性质不同所致。
    DOI:
    10.1016/j.jorganchem.2013.04.043
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