3,3,3-trifluoro-1-(p-toluenesulfonyloxy)-2-trifluoromethylpropan-2-ol | 1417448-03-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3,3,3-trifluoro-1-(p-toluenesulfonyloxy)-2-trifluoromethylpropan-2-ol
• 英文别名: 3,3,3-Trifluoro-1-(p-toluene-sulfonyloxy)-2-trifluoromethylpropan-2-ol；[3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propyl] 4-methylbenzenesulfonate
• CAS: 1417448-03-3
• 化学式: C₁₁H₁₀F₆O₄S
• 分子量: 352.254
• InChiKey: HJFWKBGHWKTPSC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  391.5±42.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.507±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  72
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,3,3-trifluoro-1-(p-toluenesulfonyloxy)-2-trifluoromethylpropan-2-ol 在 sodium hydroxide 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 1.0h， 生成 3,3,3,-三氟-2-(三氟甲基)-1,2-氧化丙烯
  参考文献：
  名称：

  PREPARATION OF 2,2-BIS (FLUOROALKYL) OXIRANE AND PREPARATION OF PHOTOACID GENERATOR THEREFROM

  摘要：

  一种2,2-双(氟烷基)环氧烷（A）是通过将氟化醇（1）与氯化、溴化或磺化试剂在碱性条件下反应以形成环氧烷前体（2），然后将环氧烷前体在碱性条件下进行环闭合制备的。R1和R2是氟烷基，R3和R4是氢或一价碳氢基团，X是氯、溴或—OSO2R5基团，R5是烷基或芳基。

  公开号：

  US20130005997A1
• 作为产物：
  描述：

  4-甲基苯磺酸吡啶 、 3,3,3-trifluoro-2-(trifluoromethyl)propane-1,2-diol 在 吡啶 作用下， 以 异丙醚 为溶剂， 反应 48.0h， 生成 3,3,3-trifluoro-1-(p-toluenesulfonyloxy)-2-trifluoromethylpropan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  PREPARATION OF 2,2-BIS (FLUOROALKYL) OXIRANE AND PREPARATION OF PHOTOACID GENERATOR THEREFROM

  摘要：

  一种2,2-双(氟烷基)环氧烷（A）是通过将氟化醇（1）与氯化、溴化或磺化试剂在碱性条件下反应以形成环氧烷前体（2），然后将环氧烷前体在碱性条件下进行环闭合制备的。R1和R2是氟烷基，R3和R4是氢或一价碳氢基团，X是氯、溴或—OSO2R5基团，R5是烷基或芳基。

  公开号：

  US20130005997A1

文献信息

• POLYMERIZABLE MONOMER, POLYMER COMPOUND FOR CONDUCTIVE POLYMER, AND METHOD FOR PRODUCING THE POLYMER COMPOUND
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20200247926A1

  公开（公告）日：2020-08-06

  Polymerization reaction is performed using a polymerizable monomer shown by the following general formula (1) and at least one monomer selected from monomers each having a structure of a salt among a lithium salt, a sodium salt, a potassium salt, and a nitrogen compound salt of a fluorosulfonic acid or the like; then, the structure of the salt of the repeating unit of a polymer obtained by the polymerization reaction is changed to the fluorosulfonic acid or the like by ion exchange. Thus, the present invention provides a polymer compound for a conductive polymer and a method for producing the polymer compound which is suitably used as a dopant for a fuel cell and a conductive material, and which is a copolymer containing a repeating unit of styrene having a 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylisobutyl ether group, and a repeating unit having any of a fluorosulfonic acid, a fluorosulfonimide group, and a n-carbonyl-fluoro-sulfonamide group.

  聚合反应使用以下一般式（1）所示的可聚合单体和至少一种选择自锂盐、钠盐、钾盐和氟磺酸盐等盐结构的单体中的单体进行；然后，通过离子交换将聚合反应得到的聚合物的重复单元的盐结构改变为氟磺酸盐或类似物。因此，本发明提供了一种用作导电聚合物的聚合物化合物以及用作燃料电池和导电材料的掺杂剂的聚合物化合物的生产方法，该聚合物是含有3,3,3-三氟-2-羟基-2-三氟甲基异丁基醚基的苯乙烯重复单元和具有氟磺酸、氟磺酰亚胺基团和n-羰基-氟磺酰胺基团中的任何一种的重复单元的共聚物。
• SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20180275516A1

  公开（公告）日：2018-09-27

  The present invention provides a sulfonium salt capable of providing a resist composition having few defects in photolithography where a high energy beam is used as a light source, and excellent in lithography performance by controlling acid diffusion. The present invention was accomplished by a sulfonium salt including an anion and a cation, the cation having a partial structure represented by the following general formula (1), except for a sulfonium salt having a cation represented by the following general formula (1′),

  本发明提供了一种亚砜盐，能够提供在光刻工艺中使用高能光束作为光源时具有较少缺陷的光刻胶组合物，并通过控制酸扩散在光刻性能方面表现出色。本发明通过包括阴离子和阳离子的亚砜盐实现，其中阳离子具有以下通用式（1）所表示的部分结构，除了具有以下通用式（1'）所表示的阳离子的亚砜盐。
• RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20190010119A1

  公开（公告）日：2019-01-10

  The present invention provides a resist composition, including: (A) a sulfonium salt containing an anion and a cation, the cation including a partial structure shown by the following general formula (A1); and (B) a polymer compound containing a repeating unit shown by the following general formula (B1). The present invention provides a resist composition that causes few defects and is excellent in lithography performance, having regulated acid diffusion, in photolithography using a high energy beam as a light source, and a resist patterning process using this resist composition.

  本发明提供了一种抗蚀剂组合物，包括：（A）含有阴离子和阳离子的磺酸盐，其中阳离子包括以下通式（A1）所示的部分结构；以及（B）含有以下通式（B1）所示的重复单元的聚合物化合物。本发明提供了一种抗蚀剂组合物，其在使用高能量光束作为光源的光刻技术中，具有调节酸扩散的能力，能够引起较少的缺陷，并且在使用该抗蚀剂组合物进行抗蚀图案化过程中具有出色的光刻性能。
• 一种二苯锍结构的光致产酸剂及其合成方法
  申请人：华衍化学（上海）有限公司

  公开号：CN112920099A

  公开（公告）日：2021-06-08

  本发明公开了一种二苯锍结构的光致产酸剂及其合成方法，涉及光刻胶领域，光致产酸剂具有以下结构：其中，A为C1‑C5的氟代烷烃；B为C3‑C10的环烷基，本发明的光致产酸剂能够控制酸扩散，减小线宽粗糙度，防止图形破坏和形成尺寸均一性的光刻图案，193nm光源下下透明度高。
• Preparation of 2,2-bis (fluoroalkyl) oxirane and preparation of photoacid generator therefrom
  申请人：Sagehashi Masayoshi

  公开号：US08686166B2

  公开（公告）日：2014-04-01

  A 2,2-bis(fluoroalkyl)oxirane (A) is prepared by reacting a fluorinated alcohol (1) with a chlorinating, brominating or sulfonylating agent under basic conditions to form an oxirane precursor (2) and subjecting the oxirane precursor to ring closure under basic conditions. R1 and R2 are fluoroalkyl groups, R3 and R4 are hydrogen or monovalent hydrocarbon groups, X is chlorine, bromine or —OSO2R5 group, and R5 is alkyl or aryl.

  A 2,2-双(氟烷基)环氧烷(A)是通过将氟化醇(1)与氯化、溴化或磺酰化剂在碱性条件下反应形成环氧前体(2)，并在碱性条件下使环氧前体发生环合反应而制备的。其中，R1和R2为氟烷基，R3和R4为氢或一价碳氢基团，X为氯、溴或—OSO2R5基团，R5为烷基或芳基。