2-(2-吡啶基)乙基三甲氧基硅烷 | 27326-65-4

• 物质功能分类: 化学试剂 - 硅烷试剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机金属化合物 - 有机类金属化合物
• 中文名称: 2-(2-吡啶基)乙基三甲氧基硅烷
• 中文别名: 2-(2-吡啶)乙基三甲氧基硅烷
• 英文名称: 2-(2-trimethoxysilylethyl)pyridine
• 英文别名: 2-(2-pyridyl)ethyltrimethoxysilane；2-(Trimethoxysilylethyl)pyridine；trimethoxy(2-pyridin-2-ylethyl)silane
• CAS: 27326-65-4
• 化学式: C₁₀H₁₇NO₃Si
• mdl: MFCD00049216
• 分子量: 227.335
• InChiKey: XVZMLSWFBPLMEA-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  103 °C
• 密度：
  1,06 g/cm3
• 闪点：
  >110°C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  40.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

安全信息

• TSCA：
  No
• 安全说明：
  S23,S26,S36/37/39,S45
• 危险类别码：
  R34,R36/37/38,R41
• 危险品运输编号：
  UN 1760
• 海关编码：
  2933399090
• 包装等级：
  III
• 危险类别：
  8
• 危险性防范说明：
  P233,P260,P261,P264,P271,P280,P301+P330+P331,P302+P352,P303+P361+P353,P304,P304+P340,P305+P351+P338,P310,P312,P321,P332+P313,P337+P313,P340,P362,P363,P403,P403+P233,P405,P501
• 危险性描述：
  H314,H315,H319,H335

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(2-吡啶基)乙基三甲氧基硅烷 在 溶剂黄146 作用下， 以 甲醇 、 乙醇 为溶剂， 反应 2.08h， 生成 2-<2-(trihydroxysilyl)ethyl>-N-methylpyridinium iodide
  参考文献：
  名称：

  用双功能聚合物修饰电极测量脂质体释放的亚铁氰化物。

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ac00153a009
• 作为产物：
  描述：

  甲醇 、 2-[2-(三氯甲硅烷基)乙基]吡啶 在 三乙胺 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 生成 2-(2-吡啶基)乙基三甲氧基硅烷
  参考文献：
  名称：

  调整离子纳米粒子网络中的光致发光性质

  摘要：

  为了研究离子纳米粒子网络（INN）的原始和有前途的发光特性，研究了各种材料成分。在这项工作中，用于使二氧化硅纳米颗粒形成网络的连接基发生了变化。提出了许多取代或未取代的咪唑，吡唑和吡啶鎓连接基。在INN杂化材料上进行的光致发光实验表明，在光谱的可见光区域内，很宽的范围内都具有很强的发射带。由于π-π堆积相互作用，使咪唑单元之间的芳族连接基发生变化，导致最大发射峰出现明显的位移，直至100 nm。在芳族单元上引入的取代基的立体位阻和诱导效应，通过修饰咪唑环之间的π-π堆积，也强烈影响了材料的发光性能。小和广角X射线散射（SAXS，WAXS）实验揭示了所获得的结构参数（短程有序参数和杂化材料中芳族单元的距离）与INN材料的发光量子产率之间存在明显的趋势。

  DOI：

  10.1002/chem.201400392
• 作为试剂：
  描述：

  2-(2-吡啶基)乙基三甲氧基硅烷 、 甲磺酸甲酯 在 氮气 、 乙酸乙酯 、 乙醚 、 2-(2-吡啶基)乙基三甲氧基硅烷 、 甲磺酸甲酯 、 甲醇 作用下， 以 乙酸乙酯 为溶剂， 反应 72.0h， 以to obtain a 30% methanol solution of trimethoxysilylethylmethylpyridinium methanesulfonate的产率得到Trimethoxysilylethylmethylpyridinium methanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICONE HAVING ONIUM GROUP

  摘要：

  提供了一种用于光刻的抗阻底层膜成分，用于形成可用作硬掩模或底部防反射涂层的抗阻底层膜，或者是不与抗阻混合并具有比抗阻更高的干法蚀刻速率的抗阻底层膜。该膜形成成分包括具有onium基团的硅烷化合物，其中具有onium基团的硅烷化合物是具有水解性的有机硅烷，其分子中具有onium基团、其水解产物或其水解缩合产物。该成分用作光刻的抗阻底层膜形成成分。一种成分包括具有onium基团的硅烷化合物和不具有onium基团的硅烷化合物，其中具有onium基团的硅烷化合物在整个硅烷化合物中的比例小于1摩尔％，例如为0.01至0.95摩尔％。该水解性有机硅烷可以是式：R1aR2bSi（R3）4-（a + b）的化合物。通过将所述任一权利要求1至14中的任一成分应用于半导体基板并烘烤所述成分，可以获得抗阻底层膜。

  公开号：

  US20110143149A1

文献信息

• Sol-Gel Entrapped Pyridinium Hydrobromide Perbromide as a Recyclable Bromination Agent: Its Application to a One-Pot Bromination and Dehydrobromination Process
  作者：Yevgenia Levin、Khalil Hamza、Raed Abu-Reziq、Jochanan Blum

  DOI：10.1002/ejoc.200500982

  日期：2006.3

  Silica sol-gel encaged pyridinium hydrobromide perbromide can be used for clean, odorless bromination of a variety of substrates, including alkenes, ketones, and arenes. The used heterogenized bromination reagent can be recharged with bromine and recycled. In the presence of sol-gel entrapped 1,5,7-triazabicyclo[4.4.0]dec-5-ene, dibromides are dehydrobrominated to give vinyl monobromides and/or alkynes

  硅胶溶胶-凝胶包裹的过溴化氢溴化吡啶鎓可用于清洁、无味地溴化各种底物，包括烯烃、酮和芳烃。用过的杂化溴化试剂可重新充入溴并循环使用。在溶胶-凝胶包埋的 1,5,7-三氮杂双环 [4.4.0]dec-5-ene 存在下，二溴化物脱溴化氢得到乙烯基单溴化物和/或炔烃。将吡啶鎓衍生物和胍碱封装在单独的溶胶-凝胶基质中，可以在一锅反应中使用两种相反的试剂，而不会相互破坏。(© Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 69451 Weinheim, Germany, 2006)
• ORGANOSILICON COMPOUND, MAKING METHOD, ADHESIVE COMPOSITION, AND ARTICLE
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20150099414A1

  公开（公告）日：2015-04-09

  An organosilicon compound having a hydrolyzable silyl group and pyridine ring in the molecule is provided. A composition comprising a polymer having an isocyanate, epoxy or acid anhydride in admixture with the organosilicon compound is shelf stable.

  提供一种分子中含有可水解硅基和吡啶环的有机硅化合物。包含具有异氰酸酯、环氧树脂或酸酐的聚合物与有机硅化合物混合而成的组合物具有架构稳定性。
• Practical and scalable synthesis of bench-stable organofluorosilicate salts
  作者：Jarett M. Posz、Stephan R. Harruff、Ryan Van Hoveln

  DOI：10.1039/d0cc05400c

  日期：——

  organo- or alkoxysilanes. Herein, we report the first practical synthesis of organotetrafluorosilicates. The method is tolerant of a number of different functional groups including electrophiles with preferential attack of the fluoride on the silane rather than the electrophile. This transformaton is generally high yielding, even at the mole scale. Furthermore, we demonstrate that organotetrafluorosilicates

  在过去的几十年中，硅烷作为合成工具已经取得了巨大的成功。在许多使用硅烷的反应中，提出了五配位硅酸盐作为反应性中间体。尽管如此，还没有通用的方法来合成五配位的氟硅酸盐并将其用作试剂来代替有机或烷氧基硅烷。在此，我们报道了有机四氟硅酸盐的首次实用合成。该方法耐受包括亲电子体在内的许多不同的官能团，其中氟化物优先攻击硅烷而不是亲电子体。即使在摩尔规模下，这种转化也通常是高产率的。此外，我们证明有机四氟硅酸盐比相应的三烷氧基硅烷更具反应性，并且在溶剂分解条件下更稳定。有机四氟硅酸盐可用作各种偶联反应，氧化和自由基反应的底物。总体而言，有机四氟硅酸盐代表了一个新的平台，可在此平台上进行具有挑战性的转型。
• Resist underlayer film forming composition containing silicone having onium group
  申请人：Shibayama Wataru

  公开号：US08864894B2

  公开（公告）日：2014-10-21

  There is provided a resist underlayer film forming composition for lithography for forming a resist underlayer film capable of being used as a hard mask or a bottom anti-reflective coating, or a resist underlayer film causing no intermixing with a resist and having a dry etching rate higher than that of the resist. A film forming composition comprising a silane compound having an onium group, wherein the silane compound having an onium group is a hydrolyzable organosilane having, in a molecule thereof, an onium group, a hydrolysis product thereof, or a hydrolysis-condensation product thereof. The composition uses as a resist underlayer film forming composition for lithography. A composition comprising a silane compound having an onium group, and a silane compound having no onium group, wherein the silane compound having an onium group exists in the whole silane compound at a ratio of less than 1% by mol, for example 0.01 to 0.95% by mol. The hydrolyzable organosilane may be a compound of Formula: R1aR2bSi(R3)4−(a+b). A resist underlayer film obtained by applying the composition as claimed in any one of claims 1 to 14 onto a semiconductor substrate and by baking the composition.

  提供一种用于光刻的抗蚀底层膜形成组合物，用于形成可用作硬掩膜或底部抗反射涂层的抗蚀底层膜，或者不与光刻胶混合且具有比光刻胶更高的干法刻蚀速率的抗蚀底层膜。该组合物包括具有onium基团的硅烷化合物，其中具有onium基团的硅烷化合物是一种可水解的有机硅烷，在其分子中具有onium基团、其水解产物或其水解缩合产物。该组合物用作光刻的抗蚀底层膜形成组合物。该组合物包括具有onium基团的硅烷化合物和不具有onium基团的硅烷化合物，其中具有onium基团的硅烷化合物在整个硅烷化合物中的比例小于1%摩尔，例如0.01至0.95%摩尔。可水解的有机硅烷可以是公式的化合物：R1aR2bSi（R3）4-（a+b）。通过将所述组合物按权利要求1至14中的任一项涂覆到半导体基片上并烘烤所得到的抗蚀底层膜。
• Accessing Elaborated 2,1-Borazaronaphthalene Cores Using Photoredox/Nickel Dual-Catalytic Functionalization
  作者：Matthieu Jouffroy、Geraint H. M. Davies、Gary A. Molander

  DOI：10.1021/acs.orglett.6b00466

  日期：2016.4.1

  A highly effective method for derivatizing 2,1-borazaronaphthalene cores using ammonium alkylbis-(catecholato)silicates via photoredox/nickel dual catalysis is reported. By forging C-sp(3)-C-sp(2) bonds via this approach, alkyl fragments with various functional groups can be introduced to the azaborine core, affording previously inaccessible heterocyclic isosteres in good to excellent yields. The base-free, room-temperature conditions outlined allow sensitive functional group tolerance, even permitting the cross-coupling of unprotected primary and secondary amines.