2-苯基蒽醌 | 6485-97-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 2-苯基蒽醌
• 中文别名: 2-苯基蒽醌,98
• 英文名称: 2-Phenyl-anthrachinon
• 英文别名: β-phenylanthraquinone；2-phenyl-9,10-anthraquinone；2-phenylanthraquinone；2-phenyl-anthraquinone；β-Phenyl-anthrachinon；2-phenylanthracene-9,10-dione
• CAS: 6485-97-8
• 化学式: C₂₀H₁₂O₂
• 分子量: 284.314
• InChiKey: NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  160-163°C
• 沸点：
  506.8±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.267±0.06 g/cm3(Predicted)
• 最大波长(λmax)：
  340nm(lit.)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.2
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  34.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2914690090
• 储存条件：
  室温

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-苯基蒽醌 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 0.5h， 以93.1%的产率得到2-bromo-6-phenylanthracene-9,10-dione
  参考文献：
  名称：

  苯并吡嗪取代蒽衍生物及有机电致发光器件

  摘要：

  本发明提供一种苯并吡嗪取代蒽衍生物，具有如下通式(I)所示的结构：其中，L选自化学键、取代或未取代的C6～C12的亚芳基或亚稠环芳烃基团、取代或未取代的C3～C12的亚杂芳基或亚稠杂环芳烃基团；Ar1、Ar2分别独立选自取代或非取代的C6～C30的芳基或稠环芳烃基团、取代或非取代的C3～C30的杂芳基或稠杂环芳烃基团；R1、R2分别选自氢或C1～C10的烷基，其中R1、R2不同时为氢；R3、R4分别独立选自氢、C1～C10的烷基、卤素、氰基、硝基、取代或未取代的C6～C30的芳基或稠环芳烃基团、取代或未取代的C3～C30的杂芳基或稠杂环芳烃基团。该苯并吡嗪取代蒽衍生物用于有机电致发光时，电子迁移率较高、稳定性较好，同时利于蒸镀成膜。

  公开号：

  CN107954942B
• 作为产物：
  描述：

  2-phenyl-9,10-dihydroanthracene 在 chromium(VI) oxide 、 溶剂黄146 作用下， 以75%的产率得到2-苯基蒽醌
  参考文献：
  名称：

  Bowlus, Stephen B., Synthetic Communications, 1984, vol. 14, # 5, p. 391 - 396

  摘要：

  DOI：

文献信息

• 萘啶取代蒽衍生物及有机电致发光器件
  申请人：北京鼎材科技有限公司

  公开号：CN107915732B

  公开（公告）日：2019-06-21

  本发明提供一种萘啶取代蒽衍生物，具有如下通式(I)所示的结构：，其中，L选自化学键、取代或未取代的C6～C12的亚芳基或亚稠环芳烃基团、取代或未取代的C3～C12的亚杂芳基或亚稠杂环芳烃基团；Ar1、Ar2分别独立选自取代或非取代的C6～C30的芳基或稠环芳烃基团、取代或非取代的C3～C30的杂芳基或稠杂环芳烃基团；R1、R2、R3、R4分别独立选自氢、C1～C10的烷基、卤素、氰基、硝基、取代或未取代的C6～C30的芳基或稠环芳烃基团、取代或未取代的C3～C30的杂芳基或稠杂环芳烃基团。该萘啶取代蒽衍生物用于有机电致发光时，电子迁移率较高、稳定性较好，同时利于蒸镀成膜。
• 전자 수송 재료 및 이것을 사용한 유기 전계 발광 소자
  申请人：JNC CORPORATION 제이엔씨 주식회사(520110081135)

  公开号：KR20150138163A

  公开（公告）日：2015-12-09

  본 발명은 하기 식(1)으로 표시되는 화합물, 및 이 화합물을 사용한 유기 EL 소자이다. 본 발명의 화합물은 유기 EL 소자의 장수명화, 구동 전압의 저하, 고효율화 등의 개선, 그 중에서도 특히 고효율화의 개선에 기여하는 전자 수송 재료로서 유용하고, 우수한 유기 EL 소자를 제공할 수 있다. 상기 식(1) 중에서, Ar은 방향족 탄화수소 또는 방향족 복소환 유래의 m가의 기이며; X〜X은 =CR- 또는 =N-이지만, 적어도 2개는 =CR-이며, 2개의 =CR-에서의 R은 Ar 또는 아졸환과 결합하는 결합손이며, 그 이외의 R은 수소 또는 탄소수 1〜4의 알킬이며; Y는 -O- 또는 -S-이며; 아졸환 중 적어도 1개의 수소는 알킬, 페닐 또는 나프틸로 치환될 수도 있고; m은 2〜4의 정수이며; 그리고, 상기 식 중의 각각의 환 및 알킬 중 적어도 1개의 수소는 중수소로 치환될 수도 있다.

  本发明涉及化合物，其如下所示（1），以及使用该化合物的有机EL器件。该发明的化合物可用作有机EL器件的稳定化，降低驱动电压，提高效率等方面的改进，特别是作为有助于提高效率改进的电子传输材料，可提供优秀的有机EL器件。 在上述式（1）中，Ar代表芳香烃或芳香族复环衍生的m个基团；X〜X代表=CR-或=N-，但至少有2个=CR-，其中2个=CR-中的R是与Ar或芳环结合的键合手，其余的R是氢或碳数为1〜4的烷基；Y代表-O-或-S-；芳环中至少1个氢可以被烷基，苯基或萘基取代；m是2〜4的整数；并且，在上述式中的每个环和烷基中至少有1个氢可以被中性氢取代。
• [EN] LATENT ACIDS AND THEIR USE<br/>[FR] ACIDES LATENTS ET LEUR UTILISATION
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2016124493A1

  公开（公告）日：2016-08-11

  Compounds of the formula (I) and (IA) wherein X is -O(CO)-; R1 is C1-C12haloalkyl or C6-C10haloaryl; R2 is located in position 7 of the coumarinyl ring and is OR8; R2a, R2b and R2C independently of each other are hydrogen; R3 is C1-C8haloalkyl or C1-C8haloalkyl; R4 is hydrogen; and R8 is C1-C6alkyI; are suitable as photosensitive acid donors in the preparation of photoresist compositions such as used for example in the preparation of spacers, insulating layers, interlayer dielectric films, insulation layers, planarization layers, protecting layers, overcoat layers, banks for electroluminescence displays and liquid crystal displays (LCD).

  化合物的化学式（I）和（IA），其中X为-O(CO)-；R1为C1-C12卤代烷基或C6-C10卤代芳基；R2位于香豆素环的第7位，为OR8；R2a、R2b和R2C彼此独立地为氢；R3为C1-C8卤代烷基或C1-C8卤代烷基；R4为氢；R8为C1-C6烷基，适用于作为感光酸给体，用于制备光刻胶组合物，例如用于制备间隔层、绝缘层、层间介质膜、绝缘层、平坦化层、保护层、覆盖层、电致发光显示器和液晶显示器（LCD）的制备。
• Action of Phenylmagnesium Bromide on Anthraquinones. II
  作者：C. F. H. Allen、Alan Bell

  DOI：10.1021/ja01866a042

  日期：1940.9

  This preliminary report of the action of phenylmagnesium bromide on anthraquinone contains the description of a procedure for avoiding the recovery of large amounts of unchanged quinone, with consequent increasing of the yield. Butyl ether is preferable to toluene for "forced" Grignard reactions.

  这份关于苯基溴化镁对蒽醌作用的初步报告描述了避免回收大量未改变的醌从而提高产率的程序。对于“强制”格氏反应，丁醚优于甲苯。
• PHOTOACID-GENERATING COMPOUND AND ASSOCIATED POLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING A PHOTORESIST RELIEF IMAGE
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20180095363A1

  公开（公告）日：2018-04-05

  A photoacid-generating compound has the structure wherein m, n, R 1 , R 2 , X, Y, and Z − are defined herein. The photoacid-generating compound exhibits strong absorption and chemical sensitivity to extreme ultraviolet radiation, while also absorbing longer wavelengths with desirably reduced chemical sensitivity. Also described are a polymer incorporating the residue of a polymerizable version of the photoacid-generating compound, a photoresist composition that includes the photoacid-generating compound, the polymer, or a combination thereof, and a method of forming a photoresist relief image using the photoresist composition.

  一种光酸生成化合物具有结构，其中m、n、R1、R2、X、Y和Z−在此处定义。该光酸生成化合物对极紫外辐射具有强吸收和化学敏感性，同时还吸收较长波长并具有较低的化学敏感性。还描述了一种聚合物，其中包含可聚合版本的光酸生成化合物的残留物，一种包含该光酸生成化合物、聚合物或两者组合的光阻剂组合物，以及使用该光阻剂组合物形成光阻剂