3-氟-2-甲基丙-1-烯 | 920-35-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 有机氟化物
• 中文名称: 3-氟-2-甲基丙-1-烯
• 英文名称: 2-methyl-3-fluoro-1-propene
• 英文别名: 3-fluoro-2-methyl-1-propene；3-fluoro-2-methylpropene；methallyl fluoride；3-fluoro-2-methyl-propene；2-fluoromethyl-propylene；2-Methyl-allylfluorid；3-Fluoro-2-methylprop-1-ene
• CAS: 920-35-4
• 化学式: C₄H₇F
• 分子量: 74.098
• InChiKey: JSUAVFIULBAVFU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  5
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  t-butylammonium fluoride trihydrate 、 3-氯-2-甲基丙烯 在 二甲基亚砜 作用下， 以73%的产率得到3-氟-2-甲基丙-1-烯
  参考文献：
  名称：

  PLASMA ETCHING GAS AND PLASMA ETCHING METHOD

  摘要：

  本发明是一种包括由CxHyFz（其中x=3、4或5，y+z≦2x，且y>z）表示的不饱和氟碳氢化物的蚀刻气体，以及一种使用该蚀刻气体相对于硅氧化物膜或硅膜选择性蚀刻硅氮化物膜的方法。根据本发明，可以高度选择性地蚀刻堆叠在硅氧化物膜或硅膜上的硅氮化物膜。

  公开号：

  US20140306146A1

文献信息

• Photodifluoramination of alkanes and alkenes
  作者：Carl L. Bumgardner、Ernest L. Lawton、Kenneth G. McDaniel、Halbert Carmichael

  DOI：10.1021/ja00708a034

  日期：1970.3
• Shaler, Thomas A.; Morton, Thomas Hellman, Journal of the American Chemical Society, 1994, vol. 116, # 20, p. 9222 - 9226
  作者：Shaler, Thomas A.、Morton, Thomas Hellman

  DOI：——

  日期：——
• PLASMA ETCHING GAS AND PLASMA ETCHING METHOD
  申请人：Ito Azumi

  公开号：US20140306146A1

  公开（公告）日：2014-10-16

  The present invention is an etching gas comprising an unsaturated fluorohydrocarbon represented by C x H y F z (wherein x=3, 4, or 5, y+z≦2x, and y>z) and a method comprising selectively etching a silicon nitride film relative to a silicon oxide film or a silicon film using the etching gas. According to the present invention, a silicon nitride film stacked on a silicon oxide film or a silicon film can be highly selectively etched.

  本发明是一种包括由CxHyFz（其中x=3、4或5，y+z≦2x，且y>z）表示的不饱和氟碳氢化物的蚀刻气体，以及一种使用该蚀刻气体相对于硅氧化物膜或硅膜选择性蚀刻硅氮化物膜的方法。根据本发明，可以高度选择性地蚀刻堆叠在硅氧化物膜或硅膜上的硅氮化物膜。