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t-butylammonium fluoride trihydrate

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
t-butylammonium fluoride trihydrate
英文别名
tert-butylammonium fluoride trihydrate;t-Butylammonium fluoride hydrate;tert-butylazanium;fluoride;hydrate
t-butylammonium fluoride trihydrate化学式
CAS
——
化学式
C4H11N*FH*3H2O
mdl
——
分子量
147.19
InChiKey
GVLQRCWNZAWQTL-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -3.79
  • 重原子数:
    7
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    28.6
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    t-butylammonium fluoride trihydrate3-氯-2-甲基丙烯二甲基亚砜 作用下, 以73%的产率得到3-氟-2-甲基丙-1-烯
    参考文献:
    名称:
    PLASMA ETCHING GAS AND PLASMA ETCHING METHOD
    摘要:
    本发明是一种包括由CxHyFz(其中x=3、4或5,y+z≦2x,且y>z)表示的不饱和氟碳氢化物的蚀刻气体,以及一种使用该蚀刻气体相对于硅氧化物膜或硅膜选择性蚀刻硅氮化物膜的方法。根据本发明,可以高度选择性地蚀刻堆叠在硅氧化物膜或硅膜上的硅氮化物膜。
    公开号:
    US20140306146A1
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文献信息

  • Quinolone compounds for use in treating viral infections
    申请人:——
    公开号:US20030069271A1
    公开(公告)日:2003-04-10
    The present invention relates to quinolone compounds and their use in the treatment of viral infections.
    本发明涉及喹诺酮化合物及其在治疗病毒感染中的应用。
  • Benzylamine derivatives, their preparation and their application in
    申请人:Synthelabo
    公开号:US06060508A1
    公开(公告)日:2000-05-09
    Compounds of general formula (I) ##STR1## in which: A represents either a hydrogen atom, a hydroxyl, a C.sub.1-6 hydroxyalkyl group, a thiol, a C.sub.1-6 alkylsulphanyl group, an amino group, a C.sub.1-6 alkylamino group, a di(C.sub.1-6 alkyl)amino group, a C.sub.1-6 alkylhydroxylamine group, a C.sub.1-6 alkoxy group, a hydroxylamine group, an N,O-di(C.sub.1-6 alkyl)hydroxylamine group, an azido or a halogen such as fluorine, chlorine or bromine, B represents a hydrogen atom, a linear or branched C.sub.1-6 alkyl group, a C.sub.2-6 alkenyl group, a C.sub.1-6 fluoroalkyl group, a C.sub.1-2 perfluoroalkyl group, a C.sub.1-6 alkoxy group, a phenyl group or an oxo group, X represents an oxygen or sulphur atom. Application in therapeutics.
    通式(I)的化合物##STR1##其中:A代表氢原子、羟基、C.sub.1-6羟基烷基基团、硫醇、C.sub.1-6烷基硫基基团、氨基、C.sub.1-6烷基氨基基团、二(C.sub.1-6烷基)氨基基团、C.sub.1-6烷基羟胺基团、C.sub.1-6烷氧基团、羟胺基团、N,O-二(C.sub.1-6烷基)羟胺基团、偶氮基或氟、氯或溴等卤素,B代表氢原子、直链或支链C.sub.1-6烷基基团、C.sub.2-6烯基基团、C.sub.1-6氟烷基基团、C.sub.1-2全氟烷基基团、C.sub.1-6烷氧基团、苯基或羰基,X代表氧原子或硫原子。在治疗中的应用。
  • 1-aminoethylquinoline derivatives for treating urinary incontinence
    申请人:Sanofi-Synthelabo
    公开号:US06331549B1
    公开(公告)日:2001-12-18
    The invention relates to 1-aminoethylquinoline derivatives, to pharmaceutical compositions containing them, to therapeutic methods of using them and to processes for preparing them.
    这项发明涉及1-氨基乙基喹啉衍生物,包括它们的药物组合物,使用它们的治疗方法以及它们的制备方法。
  • PLASMA ETCHING GAS AND PLASMA ETCHING METHOD
    申请人:Ito Azumi
    公开号:US20140306146A1
    公开(公告)日:2014-10-16
    The present invention is an etching gas comprising an unsaturated fluorohydrocarbon represented by C x H y F z (wherein x=3, 4, or 5, y+z≦2x, and y>z) and a method comprising selectively etching a silicon nitride film relative to a silicon oxide film or a silicon film using the etching gas. According to the present invention, a silicon nitride film stacked on a silicon oxide film or a silicon film can be highly selectively etched.
    本发明是一种包括由CxHyFz(其中x=3、4或5,y+z≦2x,且y>z)表示的不饱和氟碳氢化物的蚀刻气体,以及一种使用该蚀刻气体相对于硅氧化物膜或硅膜选择性蚀刻硅氮化物膜的方法。根据本发明,可以高度选择性地蚀刻堆叠在硅氧化物膜或硅膜上的硅氮化物膜。
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