2-(tert-butyl)-4,6-dimethylaniline | 35735-32-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-(tert-butyl)-4,6-dimethylaniline
• 英文别名: 2-tert-Butyl-4,6-dimethyl-anilin；4-Amino-1.3-dimethyl-5-tert.-butyl-benzol；Benzenamine, 2-(1,1-dimethylethyl)-4,6-dimethyl-；2-tert-butyl-4,6-dimethylaniline
• CAS: 35735-32-1
• 化学式: C₁₂H₁₉N
• mdl: MFCD09965914
• 分子量: 177.29
• InChiKey: SJMVAOMOFSHXEH-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  -9 °C
• 沸点：
  97 °C(Press: 3.5 Torr)
• 密度：
  0.9762 g/cm3(Temp: 25 °C)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  26
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(tert-butyl)-4,6-dimethylaniline 生成 1-Brom-6-tert.-butyl-2,4-dimethyl-benzol
  参考文献：
  名称：

  NITRO MUSKS. III.¹ ASYMMETRICAL MUSKS OF THE DINITRO-tert-BUTYL-m-XYLENE SERIES

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo01366a015
• 作为产物：
  描述：

  苯,1-(1,1-二甲基乙基)-3,5-二甲基-2-硝基- 在 乙醇 、 镍 作用下， 生成 2-(tert-butyl)-4,6-dimethylaniline
  参考文献：
  名称：

  Burgers et al., Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1958, vol. 77, p. 491,506

  摘要：

  DOI：

文献信息

• The 4.4′-benzidine rearrangement of 4-alkyl substituted hydrazobenzenes
  作者：Marc E. Bouillon、Hartmut H. Meyer

  DOI：10.1016/j.tet.2016.03.103

  日期：2016.6

  When treated with dilute inorganic acids N,N′-diarylhydrazines (hydrazobenzenes) with an alkyl substituent in the 4-position undergo [5,5]-sigmatropic rearrangement reactions to furnish 4-(4′-aminophenyl)-4-alkylcyclohexa-2,5-dienimines (ipso-benzidines) in moderate to excellent yields. Steric bulk of the 4-alkyl substituent in the starting material decreases the yield of the respective ipso-benzidine

  当用稀无机酸处理过的Ñ，Ñ在4-位具有烷基取代基“-diarylhydrazines（hydrazobenzenes）经历[5,5] -sigmatropic重排反应，得到4-（4'-氨基苯基）-4- alkylcyclohexa -2- ，5- dienimines（本位-benzidines）在中度至良好的产率。在起始原料的4-烷基取代基的空间位阻减小了各自的产率本位-联苯胺。邻位和/或间位的其他供电子烷基取代基两个环上的-位通常促进反应并因此增加4.4'-联苯胺重排产物的产率。在此描述的是我们关于这种异常的联苯胺重排的范围和限制的发现。
• Composition for forming a resist upper-layer film and method for producing a semiconductor device using the composition
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10042258B2

  公开（公告）日：2018-08-07

  This composition for forming an extreme-ultraviolet (EUV) or electron-beam upper-layer resist film including (a) a polymer (P) and (b) a solvent, the solvent containing 1 to 13 mass % of a C4-12 ketone compound with respect to the entire solvent, is used in the lithography process of a procedure for manufacturing a semiconductor device. Without needing to be intermixed with a resist, and particularly on the occasion of EUV exposure, the composition for forming an EUV or electron-beam upper-layer resist film blocks undesirable exposure light, e.g., ultraviolet (UV) or deep ultraviolet (DUV) rays, and selectively transmits only the EUV rays, and can be developed using a developing solution after exposure.

  这种用于形成极紫外（EUV）或电子束上层抗蚀剂薄膜的组合物包括（a）聚合物（P）和（b）溶剂，溶剂中的C4-12酮化合物占整个溶剂的1-13质量％，用于半导体设备制造过程中的光刻工艺。这种用于形成 EUV 或电子束上层抗蚀剂薄膜的组合物无需与抗蚀剂混合，尤其是在进行 EUV 曝光时，可阻挡不希望的曝光光（例如紫外线 (UV) 或深紫外线 (DUV)），并选择性地只透射 EUV 射线，曝光后可使用显影液进行显影。
• Compounds and compositions for treating conditions associated with NLRP activity
  申请人：NOVARTIS INFLAMMASOME RESEARCH, INC.

  公开号：US10654816B2

  公开（公告）日：2020-05-19

  In one aspect, compounds of Formula AA, or a pharmaceutically acceptable salt thereof, are featured: or a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein the variables shown in Formula A can be as defined anywhere herein.

  在一个方面，式 AA 的化合物或其药学上可接受的盐是其特征： 或其药学上可接受的盐，其中式 A 中所示的变量可以如本文中任何地方所定义的那样。
• THE STRUCTURE OF MUSK KETONE AND MUSK TIBETENE¹
  作者：REYNOLD C. FUSON、JACK MILLS、THEODORE G. KLOSE、M. S. CARPENTER

  DOI：10.1021/jo01168a016

  日期：1947.7
• Baur, Chemische Berichte, 1900, vol. 33, p. 2564
  作者：Baur

  DOI：——

  日期：——

表征谱图