isosorbide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 呋喃类
• 英文名称: isosorbide
• 英文别名: isosorbide 5-acrylate；[(3S,3aR,6R,6aR)-3-hydroxy-2,3,3a,5,6,6a-hexahydrofuro[3,2-b]furan-6-yl] prop-2-enoate
• 化学式: C₉H₁₂O₅
• 分子量: 200.191
• InChiKey: UQMJRRHNTXZVEV-HIORRCEOSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  65
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  丙烯酸 、 异山梨醇 在 对甲苯磺酸 、 对苯二酚 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 isosorbide
  参考文献：
  名称：

  Mono-acrylated isosorbide as a bio-based monomer for the improvement of thermal and mechanical properties of poly(methyl methacrylate)

  摘要：

  通过使用基于生物的丙烯酸异山梨酯单酯作为共单体，共聚甲基丙烯酸甲酯表现出了改善的热稳定性和机械性能。

  DOI：

  10.1039/c9ra07548h

文献信息

• POLYMERIC COMPOUND FOR PHOTORESIST AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESIST
  申请人：DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：EP1584634A1

  公开（公告）日：2005-10-12

  A polymeric compound for photoresist of the present invention includes a monomer unit having 2, 6-dioxabicyclo [3.3.0] octane skeleton in the structure. The monomer unit having 2,6-dioxabicyclo[3.3.0]octane skeleton includes a monomer unit represented by the following Formula (I) : wherein R is a hydrogen atom or a methyl group. The polymeric compound for photoresist may include a monomer unit having 2, 6-dioxabicyclo [3.3.0] octane skeleton, a monomer unit having a group of adhesion to substrate, and a monomer unit having an acid-eliminating group. The polymeric compound for photoresist of the present invention exhibits not only adhesion to substrate, acid-eliminating property and resistance to dry-etching but also has well-balanced solubility in solvents for photoresist and alkali-soluble property.

  本发明的光刻胶用聚合化合物包括结构中具有 2，6-二氧杂环[3.3.0]辛烷骨架的单体单元。具有 2，6-二氧杂环[3.3.0]辛烷骨架的单体单元包括下式（I）所代表的单体单元： 其中 R 是氢原子或甲基。光刻胶用高分子化合物可包括具有 2，6-二氧杂环[3.3.0]辛烷骨架的单体单元、具有与基材粘合基团的单体单元和具有酸消除基团的单体单元。本发明的光刻胶用高分子化合物不仅具有对基底的粘附性、酸消除性和抗干蚀性，而且在光刻胶用溶剂中的溶解性和碱溶性也非常均衡。
• VERFAHREN ZUR SYNTHESE VON ISOSORBIDMONO- UND DI-(METH)ACRYLAT
  申请人：BASF SE

  公开号：EP3489241A1

  公开（公告）日：2019-05-29

  Verfahren zur Herstellung von Isosorbid-Estern der (Meth)acrylsäure oder einem Derivat davon durch Umsetzung von (Meth)acrylsäure oder einem Derivat davon mit Isosorbid oder einem Derivat davon in Gegenwart wenigstens eines die Veresterungsreaktion katalysierenden Enzyms bei einer Reaktionstemperatur von 10 bis 100°C.

  一种制备(甲基)丙烯酸或其衍生物的异山梨醇酯的工艺，在至少一种催化酯化反应的酶存在下，在 10 至 100°C 的反应温度下，使(甲基)丙烯酸或其衍生物与异山梨醇或其衍生物反应。
• RMA CROSSLINKABLE POLYMER
  申请人：Allnex Netherlands B.V.

  公开号：EP3663326A1

  公开（公告）日：2020-06-10

  The invention relates to an RMA crosslinkable polymer comprising: a) at least one RMA Donor moiety X comprising a C-H acidic proton in activated methylene or methine groups, b) at least one moiety Y comprising one or more 5- or 6-membered heterocycles containing an ether-, acetal- or ketal group which in case of two or more of such heterocycles can be fused or linked, wherein the polymer has a weight-average molecular weight Mw of at least 400 g/mol and a C-H equivalent molecular weight CH EQW of at least 80 g/mol. The invention also relates to a process for the preparation of the RMA crosslinkable polymer and to an RMA crosslinkable composition comprising crosslinkable RMA donor compound A and a crosslinkable RMA acceptor compound B comprising a moiety Y in a total amount between 0.01 and 35 wt.%.

  本发明涉及一种 RMA 可交联聚合物，包括a) 至少一个 RMA 给体分子 X，其包含活化亚甲基或甲基中的 C-H 酸性质子；b) 至少一个分子 Y，其包含一个或多个含有醚基、缩醛基或缩酮基的 5 或 6 元杂环，其中两个或多个杂环可以融合或连接，其中聚合物的重量平均分子量 Mw 至少为 400 g/mol，C-H 当量分子量 CH EQW 至少为 80 g/mol。本发明还涉及一种制备 RMA 可交联聚合物的工艺，以及一种 RMA 可交联组合物，该组合物包含可交联的 RMA 供体化合物 A 和可交联的 RMA 受体化合物 B，后者包含总量在 0.01 至 35 重量％之间的分子 Y。
• Photoresist polymeric compound and photoresist resin composition
  申请人：Nishimura Masamichi

  公开号：US20050014087A1

  公开（公告）日：2005-01-20

  A polymeric compound for photoresist of the present invention includes a monomer unit having 2,6-dioxabicyclo[3.3.0]octane skeleton in the structure. The monomer unit having 2,6-dioxabicyclo[3.3.0]octane skeleton includes a monomer unit represented by the following Formula (I): wherein R is a hydrogen atom or a methyl group. The polymeric compound for photoresist may include a monomer unit having 2,6-dioxabicyclo[3.3.0]octane skeleton, a monomer unit having a group of adhesion to substrate, and a monomer unit having an acid-eliminating group. The polymeric compound for photoresist of the present invention exhibits not only adhesion to substrate, acid-eliminating property and resistance to dry-etching but also has well-balanced solubility in solvents for photoresist and alkali-soluble property.

  本发明的光刻胶用聚合化合物包括结构中具有 2,6-二氧杂环[3.3.0]辛烷骨架的单体单元。具有 2,6-二氧杂环[3.3.0]辛烷骨架的单体单元包括下式（I）所代表的单体单元： 其中 R 是氢原子或甲基。光刻胶用高分子化合物可包括具有 2,6-二氧杂环[3.3.0]辛烷骨架的单体单元、具有与基底粘合基团的单体单元和具有酸消除基团的单体单元。本发明的光刻胶用高分子化合物不仅具有对基底的粘附性、酸消除性和抗干蚀性，而且在光刻胶用溶剂中的溶解性和碱溶性也非常均衡。
• Verfahren zur Herstellung von Isosorbid-2-nitrat
  申请人：Heinrich Mack Nachf.

  公开号：EP0067964B1

  公开（公告）日：1985-04-03