4-羟基-3-硝基苯磺酸 | 616-85-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 中文名称: 4-羟基-3-硝基苯磺酸
• 中文别名: 2-硝基苯酚-4-磺酸
• 英文名称: 4-hydroxy-3-nitrobenzene sulfonic acid
• 英文别名: 4-Hydroxy-3-nitro-benzolsulfonsaeure；1-hydroxy-2-nitrobenzene-4-sulfonic acid；4-Hydroxy-3-nitrobenzenesulphonic acid；4-hydroxy-3-nitrobenzenesulfonic acid
• CAS: 616-85-3
• 化学式: C₆H₅NO₆S
• 分子量: 219.175
• InChiKey: JBMAUZQHVVHPEL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.6
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  129
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  6

制备方法与用途

化学性质：

• 呈现黄色片状或带分子结晶水的针状体结晶。
• 无水物熔点为141-142℃，有水物熔点为51.5℃。
• 能溶于水和醇。

用途： 主要用于染料的中间体。

生产方法： 由氯苯经磺化、硝化及盐析得到4-氯-3-硝基苯磺酸钠，再通过水解和酸化制得该产品。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-羟基-3-硝基苯磺酸 在 steam 、 硫酸 作用下， 生成 硝苯酚
  参考文献：
  名称：

  Paul, 1896, vol. 9, p. 588

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4-羟基苯磺酸 在 硫酸 、 potassium nitrate 作用下， 生成 4-羟基-3-硝基苯磺酸
  参考文献：
  名称：

  Koerner, Gazzetta Chimica Italiana, 1872, vol. 2, p. 445

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Synthetic Clay Excels in ⁹⁰Sr Removal
  作者：Sridhar Komarneni、Tatsuya Kodama、William J. Paulus、C. Carlson

  DOI：10.1557/jmr.2000.0182

  日期：2000.6

  ground water from Hanford site, and fundamental studies of 2Nasup +}yields}Srsup 2+} exchange equilibria revealed that a synthetic clay is extremely selective for sup 90}Sr with a high capacity for uptake. Comparative studies with existing Sr selective ion exchangers clearly revealed that the present synthetic clay exhibited the best performance for sup 90}Sr removal from actual ground water collected

  对来自汉福德场地的实际地下水进行的测试以及对 2Na sup +}产量}Srsup 2+} 交换平衡的基础研究表明，合成粘土对 sup 90}Sr 具有极高的选择性，具有很高的吸收能力。与现有 Sr 选择性离子交换剂的比较研究清楚地表明，本合成粘土表现出从汉福德三个不同位置收集的实际地下水中去除 sup 90}Sr 的最佳性能。这种新型 Sr 离子筛有望用于在意外释放和 sup 90}Sr 污染后净化环境。(c) 2000 材料研究学会。
• Effect of target processing on CoCrPtTa thin-film media
  作者：S. D. Harkness、W. Lewis、M. Bartholomeusz、M. Tsai

  DOI：10.1557/jmr.2000.0401

  日期：2000.12

  The ensuing paper summarizes an investigation on the effect of target microstructural morphology on resultant sputter deposited media magnetic performance. Significant differences in media magnetic coercivity were obtained from Co–Cr–Pt–Ta targets possessing the same chemistry, sputtered under identical conditions, but possessing different microstructural phase and crystallographic texture characteristics. This result was most likely caused by the difference in sputter yields for the Ta-containing phases in the two distinct target microstructures. Results support enhanced chromium segregation yielding a decrease in the intergranuler exchange energy field for the deposited thin films.

  接下来的论文总结了关于靶材微观结构形态对溅射沉积介质磁性能影响的研究。具有相同化学成分的 Co-Cr-Pt-Ta 靶材在相同条件下溅射，但具有不同的微观结构相和晶体纹理特征，因此介质磁矫顽力存在显著差异。造成这一结果的原因很可能是两种不同靶材微观结构中含 Ta 相的溅射产率不同。研究结果表明，铬偏析增强导致沉积薄膜的粒间交换能场降低。
• Novel onium salts, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20020077493A1

  公开（公告）日：2002-06-20

  Onium salts of arylsulfonyloxybenzenesulfonate anions with iodonium or sulfonium cations are novel. A chemically amplified resist composition comprising the onium salt as a photoacid generator is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution, improved focal latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development.

  芳基磺酸氧苯磺酸盐的离子与碘化铵或亚砜铵阳离子的醇盐是新颖的。包含这种醇盐作为光酸发生剂的化学增强型光阻组合物适用于微细加工，特别是深紫外光刻，因为具有许多优点，包括改善分辨率，改善焦点纬度，即使在长期PED时也最小化线宽变化或形状退化，涂层、开发和剥离后最小化碎屑，以及开发后改善图案轮廓。
• Photoacid generators, chemically amplified resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20030215738A1

  公开（公告）日：2003-11-20

  Photoacid generators are provided by O-arylsulfonyl-oxime compounds having formula (1) wherein R is H, F, Cl, NO 2 , alkyl or alkoxy, n is 0 or 1, m is 1 or 2, r is 0 to 4, r′ is 0 to 5, k is 0 to 4, and G′ and G″ are S or —CH═CH—. Chemically amplified resist compositions comprising the photoacid generators have many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, and improved pattern profile after development. Because of high resolution, the compositions are suited for microfabrication, especially by deep UV lithography. 1

  提供光酸发生剂的是具有公式（1）的O-芳基磺酰基肟化合物，其中R为H，F，Cl，NO2，烷基或烷氧基，n为0或1，m为1或2，r为0至4，r'为0至5，k为0至4，G'和G"为S或—CH═CH—。包含光酸发生剂的化学增强型抗蚀剂组合物具有许多优点，包括改善分辨率、改善焦点宽度、即使在长期PED上也最小化线宽变化或形状退化，并且在显影后改善图案轮廓。由于具有高分辨率，这些组合物适用于微细制造，特别是通过深紫外光刻。
• Fluorine-containing compounds and polymers derived therefrom
  申请人：——

  公开号：US20030109626A1

  公开（公告）日：2003-06-12

  Provided are fluorine-containing compounds, and polymers derived therefrom, for use in compositions used for treating textile substrates. Also provided are methods of making fluorine-containing compounds and polymers derived therefrom, compositions comprising the compounds and/or polymers of the present invention, methods of treating substrates, and the treated products derived therefrom.

  提供含氟化合物和由此衍生的聚合物，用于处理纺织物基材的组合物。还提供制备含氟化合物和由此衍生的聚合物的方法，包括本发明化合物和/或聚合物的组合物，处理基材的方法以及由此衍生的处理产品。