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4,4',4''-三(4,5-二氯邻苯二甲酰亚胺苯基)甲基溴 | 91898-93-0

中文名称
4,4',4''-三(4,5-二氯邻苯二甲酰亚胺苯基)甲基溴
中文别名
4,4,4-三(4,5-二氯苯二酰亚胺)三苯甲基溴;4,4',4''-三(4,5-二氯苯二甲酰亚氨基)三苯甲基溴[伯醇类的保护试剂]
英文名称
tris<4-(4,5-dichlorophthalimido)phenyl>methyl bromide
英文别名
tris(4,5-dichlorophthalimido)trityl bromide;4,4',4"-tris(4,5-dichlorophthalimido)trityl bromide;4,4',4''-tris(4,5-dichlorophthalimido)trityl bromide;4,4',4''-tris(4,5-dichloronaphthalimido)trityl bromide;2-[4-[bromo-bis[4-(5,6-dichloro-1,3-dioxoisoindol-2-yl)phenyl]methyl]phenyl]-5,6-dichloroisoindole-1,3-dione
4,4',4''-三(4,5-二氯邻苯二甲酰亚胺苯基)甲基溴化学式
CAS
91898-93-0
化学式
C43H18BrCl6N3O6
mdl
——
分子量
965.254
InChiKey
JYHNGHXQORJDGQ-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 密度:
    1.756±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    11
  • 重原子数:
    59
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    9.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.02
  • 拓扑面积:
    112
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

安全信息

  • 危险等级:
    8
  • 包装等级:
    III
  • 危险品运输编号:
    UN 1759
  • 储存条件:
    室温

SDS

SDS:9d3b49abd3b40fef2d12374839d5e6a0
查看
4,4',4''-三(4,5-二氯苯二甲酰亚氨基)三苯甲基溴[伯醇类 修改号码:5
的保护试剂]

模块 1. 化学品
产品名称: 4,4',4''-Tris(4,5-dichlorophthalimido)trityl Bromide [Protecting Reagent
for Primary Alcohol]
修改号码: 5

模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 1C类
严重损伤/刺激眼睛 第1级
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 危险
危险描述 造成严重的皮肤灼伤和眼损伤
防范说明
[预防] 切勿吸入。
处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 吸入:将受害者移到新鲜空气处,在呼吸舒适的地方保持休息。
食入:漱口。切勿催吐。
眼睛接触:用水小心清洗几分钟。如果方便,易操作,摘除隐形眼镜。继续冲洗。
皮肤接触:立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用水清洗皮肤/淋浴。
被污染的衣物清洗后方可重新使用。
立即呼叫解毒中心/医生。
[储存] 存放处须加锁。
[废弃处置] 根据当地政府规定把物品/容器交与工业废弃处理机构。
修改号码:5
溴[伯醇类的保护试剂]

模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名): 4,4',4''-三(4,5-二氯苯二甲酰亚氨基)三苯甲基溴[伯醇类的保护试剂]
百分比: ....
CAS编码: 91898-93-0
俗名: p,p',p''-(Bromomethylidyne)tris(4,5-dichloro-N-phenylphthalimide)
分子式: C43H18BrCl6N3O6

模块 4. 急救措施
吸入: 将受害者移到新鲜空气处,保持呼吸通畅,休息。立即呼叫解毒中心/医生。
皮肤接触: 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
立即呼叫解毒中心/医生。
眼睛接触: 用水小心清洗几分钟。如果方便,易操作,摘除隐形眼镜。继续清洗。
立即呼叫解毒中心/医生。
食入: 立即呼叫解毒中心/医生。漱口。切勿引吐。
紧急救助者的防护: 救援者需要穿戴个人防护用品,比如橡胶手套和气密性护目镜。

模块 5. 消防措施
合适的灭火剂: 干粉,泡沫,雾状水,二氧化碳
特殊危险性: 小心,燃烧或高温下可能分解产生毒烟。
特定方法: 从上风处灭火,根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火:如果安全,移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具: 灭火时,一定要穿戴个人防护用品。

模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施,防护用具, 使用特殊的个人防护用品(针对有毒颗粒的P3过滤式空气呼吸器)。远离溢出物/泄露
紧急措施: 处并处在上风处。
泄露区应该用安全带等圈起来,控制非相关人员进入。
环保措施: 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料: 清扫收集粉尘,封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施: 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项: 如果可能,使用封闭系统。如果粉尘或浮质产生,使用局部排气。
操作处置注意事项: 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件: 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
存放处须加锁。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料: 依据法律。

模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制: 尽可能安装封闭体系或局部排风系统。同时安装淋浴器和洗眼器。
个人防护用品
修改号码:5
溴[伯醇类的保护试剂]

模块 8. 接触控制和个体防护
呼吸系统防护: 防尘面具,自携式呼吸器(SCBA),供气呼吸器等。使用通过政府标准的呼吸器。依
据当地和政府法规。
手部防护: 防渗手套。
眼睛防护: 护目镜。如果情况需要,佩戴面具。
皮肤和身体防护: 防渗防护服。如果情况需要,穿戴防护靴。

模块 9. 理化特性
固体
外形(20°C):
气味: 无资料
pH: 无数据资料
熔点: 无资料
沸点/沸程 无资料
闪点: 无资料
爆炸特性
爆炸下限: 无资料
爆炸上限: 无资料
密度: 无资料
溶解度:
[水] 无资料
[其他溶剂] 无资料

模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性: 一般情况下稳定。
危险反应的可能性: 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳, 氮氧化物 (NOx), 氯化氢, 溴化氢

模块 11. 毒理学信息
急性毒性: 无资料
对皮肤腐蚀或刺激: 无资料
对眼睛严重损害或刺激: 无资料
生殖细胞变异原性: 无资料
致癌性:
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性: 无资料

模块 12. 生态学信息
生态毒性:
鱼类: 无资料
甲壳类: 无资料
藻类: 无资料
残留性 / 降解性: 无资料
潜在生物累积 (BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数: 无资料
土壤吸收系数 (Koc): 无资料
亨利定律 无资料
constant(PaM3/mol):
修改号码:5
溴[伯醇类的保护试剂]

模块 13. 废弃处置
如果可能,回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合,在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。

模块 14. 运输信息
联合国分类: 第8类 腐蚀品
UN编号: 1759
正式运输名称: 腐蚀性固体, 不另作详细说明
包装等级: III

模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》(2002年1月26日国务院发布,2011年2月16日修订): 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。


模块16 - 其他信息
N/A

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Chemical Synthesis of Branched Oligoribonucleotides
    作者:Mitsuo Sekine、Jarmo Heikkilä、Tsujiaki Hata
    DOI:10.1246/bcsj.64.588
    日期:1991.2
    This paper describes the full detail of the chemical synthesis of branched oligoribonucleotides by use of appropriately protected adenosine 2′,3′-diphosphate derivatives (13 and 30), as key intermediates, which were synthesized by a series of reactions involving phosphoryl rearrangement via a new phosphorylation process. Branched triribonucleotides ApCpG (21) and ApUpG (27) were obtained by using the
    本文描述了通过使用适当保护的腺苷 2',3'-二磷酸衍生物(13 和 30)作为关键中间体,通过一系列涉及磷酰基重排的反应合成的支链寡核糖核苷酸的完整细节。新的磷酸化过程。通过使用合成单元 13 获得了支链三核糖核苷酸 ApCpG (21) 和 ApUpG (27)。讨论了这些合成过程中的几个问题。使用 30 作为改进的构建单元使我们能够制备中性的合成中间体,即完全酯化的物质,这允许在支链六核糖核苷酸衍生物 CpUpGpApCpG 的整个合成过程中通过硅胶柱薄层色谱法轻松纯化它们。
  • Remarkable conformational change promoted by 3′-ethylphosphate at the branch-point of a tetrameric lariat-RNA dictates its self-cleavage reaction modelling some catalytic RNAs (ribozymes)
    作者:Bertrand Rousse、Christian Sund、Corine Glemarec、Anders Sandström、Peter Agback、Jyoti Chattopadhyaya
    DOI:10.1016/s0040-4020(01)85346-1
    日期:1994.1
    reaction. The comparison of ΔH° and ΔS° of the N⇄S pseudoorotational equilibria in 14 and 16 (see Table 5) clearly shows the remarkable effect of the 3′-ethylphosphate group in 14 in being able to dictate the conformational changes from the sugar moeity of the branch-point adenosine to the entire molecule (conformational transmission). Thus the S conformation in A1, U2 and C6 sugar moieties is clearly
    已经发现小的合成套索状RNA进行位点特异性自我切割,以产生具有2',3'-环状磷酸酯和5'-羟基末端的无环分支RNA,这让人想起在某些催化RNA中形成的产物。这些套索-RNA是比天然催化性RNA小得多,如锤头型核酶(K =〜1分钟-1在37℃下),和它们的自切割的速度也慢得多(K = 0.25×10 -对于套索六聚体18为4 min -1,对于套索六聚体19为0.16×10 -3 min -1在22°C下)。我们已经表明,四聚体和五聚体套索RNA中的三核苷酸环(参考文献10)是完全稳定的,而六聚体或七聚体larita-RNA(参考文献10-13)中的四核苷酸或五核苷酸环确实具有所需的局部和globla构象促进自我切割。还已经显示,简单的2'→5'或3'→5'连接的环状RNA ,分别是16和17,是完全稳定的,并且它们的结构与自切割套索状RNA(例如18和17)显着不同。19。为了探索RNA
  • POLISHING COMPOSITION AND POLISHING METHOD USING THE SAME
    申请人:FUJIMI INCORPORATED
    公开号:EP2237311A1
    公开(公告)日:2010-10-06
    A polishing composition according to a first aspect of the present invention contains a nitrogen-containing compound and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 7. The nitrogen-containing compound in the polishing composition preferably has a structure expressed by a formula: R1-N(-R2)-R3 in which R1, R2, and R3 each represent an alkyl group with or without a characteristic group, two of R1 to R3 may form a part of a heterocycle, and two of R1 to R3 may be identical and form a part of a heterocycle with the remaining one, Alternatively, the nitrogen-containing compound is preferably selected from a group consisting of a carboxybetaine type ampholytic surfactant, a sulfobetaine type ampholytic surfactant, an imidazoline type ampholytic surfactant, and an amine oxide type ampholytic surfactant. A polishing composition according to a second aspect of the present invention contains a water-soluble polymer and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 8.
    根据本发明第一方面的抛光组合物含有含氮化合物和磨粒,组合物的 pH 值在 1 至 7 之间。抛光组合物中的含氮化合物最好具有由式表示的结构:R1-N(-R2)-R3,其中 R1、R2 和 R3 各代表一个带或不带特征基团的烷基,R1 至 R3 中的两个可构成杂环的一部分,R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分,或者,R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分,或者,R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分、含氮化合物最好选自由羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂和氧化胺型两性表面活性剂组成的组。根据本发明第二方面的抛光组合物含有水溶性聚合物和磨粒,组合物的 pH 值在 1 至 8 之间。
  • Polishing composition and polishing method using the same
    申请人:Mizuno Takahiro
    公开号:US10144849B2
    公开(公告)日:2018-12-04
    A polishing composition contains a nitrogen-containing compound and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 7. The nitrogen-containing compound in the polishing composition preferably has a structure expressed by a formula: R1—N(—R2)—R3 in which R1, R2, and R3 each represent an alkyl group with or without a characteristic group, two of R1 to R3 may form a part of a heterocycle, and two of R1 to R3 may be identical and form a part of a heterocycle with the remaining one. Alternatively, the nitrogen-containing compound is preferably selected from a group consisting of a carboxybetaine type ampholytic surfactant, a sulfobetaine type ampholytic surfactant, an imidazoline type ampholytic surfactant, and an amine oxide type ampholytic surfactant. A polishing composition may contain a water-soluble polymer and abrasive grains, and the pH of the composition is in the range of 1 to 8.
    一种抛光组合物含有一种含氮化合物和磨粒,组合物的 pH 值在 1 至 7 之间。抛光组合物中的含氮化合物最好具有由式表示的结构:R1-N(-R2)-R3,其中 R1、R2 和 R3 各代表一个带或不带特征基团的烷基,R1 至 R3 中的两个可构成杂环的一部分,R1 至 R3 中的两个可相同并与其余一个构成杂环的一部分。另外,含氮化合物最好选自羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂和氧化胺型两性表面活性剂组成的组。抛光组合物可包含水溶性聚合物和磨粒,组合物的 pH 值范围为 1 至 8。
  • Aminoacyl derivatives of nucleosides, nucleotides, and polynucleotides. 45. Synthesis of 2'(3')-O-(aminoacyl) trinucleotides incorporating all four common bases
    作者:Michael D. Hagen、Claudia Scalfi-Happ、Erwin Happ、Stanislav Chladek
    DOI:10.1021/jo00256a025
    日期:1988.10
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