Dimethyl-ethyl-n-hexylsilan | 65118-83-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 碳氢化合物衍生物
• 英文名称: Dimethyl-ethyl-n-hexylsilan
• 英文别名: Ethyl-hexyl-dimethylsilane
• CAS: 65118-83-4
• 化学式: C₁₀H₂₄Si
• 分子量: 172.386
• InChiKey: WCFLFWOUNSTXTP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.3
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-己烯 、 二甲基乙基硅烷 在 铂 作用下， 生成 Dimethyl-ethyl-n-hexylsilan
  参考文献：
  名称：

  一类新型的氢化桥联铂络合物，可用作氢化硅烷化催化剂；反式-二-氢-双（三环己基膦）双（三乙基甲硅烷基）二铂（Pt – Pt）的分子和X射线晶体结构

  摘要：

  [Pt（C 2 H 4）2（PCy 3）]（Cy =环己基）与H 2或R 3 MH（M = Si，Ge; R =烷基，芳基，烷氧基，Cl）反应，得到氢化物桥接的双核物质[PtH（µ -H）（PCy 3）] 2和[PtMR 3（µ -H）-（PCy 3）] 2；通过单晶X射线晶体学鉴定了三乙基甲硅烷基配合物，其与其他4a族物质一起催化R 3 MH加成至烯烃和乙炔。

  DOI：

  10.1039/c39760000671

文献信息

• Hydrosilylation of olefins catalysed by trans-di-µ-hydrido-bis(tricyclohexylphosphine)bis(silyl)diplatinum complexes
  作者：Michael Green、John L. Spencer、F. Gordon A. Stone、Constantinos A. Tsipis

  DOI：10.1039/dt9770001519

  日期：——

  The diplatinum complexes [Pt(SiR3)(µ-H)[(C6H11)3P]}2] catalyse the addition of silanes R3SiH (R = Me, Et, PhCH2, Ph, OEt, or Cl) to pent-1-ene, hex-1-ene, styrene, allyl chloride, and 2-methylpropene. Reactivity of the silanes is qualitatively in the order: Me2EtSiH ≃ Me2PhSiH ≃ Me2(PhCH2) SiH ClMe2SiH > Me3SiH > Cl3SiH Et3SiH (EtO)3SiH, except for allyl chloride for which it is Cl3SiH > Cl2MeSiH

  双铂配合物[Pt（SiR 3）（µ-H）[（C 6 H 11）3 P]} 2 ]催化硅烷R 3 SiH的添加（R = Me，Et，PhCH 2，Ph，OEt，或Cl）为戊-1-烯，己-1-烯，苯乙烯，烯丙基氯和2-甲基丙烯。硅烷的反应性从高到低依次为：Me 2 EtSiH≃Me 2 PhSiH≃Me 2（PhCH 2）SiH ClMe 2 SiH> Me 3 SiH> Cl 3 SiH Et 3 SiH （EtO）3 SiH，但烯丙基氯除外它是Cl3 SiH> Cl 2 MeSiH> Me 2 PhSiHClMe 2 SiH。加氢甲硅烷基化反应经常强烈放热，在催化剂：反应物比率为10 –4 –10 –6：1的情况下以高收率进行反应。六元-1,5-二烯，八元-1,7-二烯和4-乙烯基环己烯也会发生反应使用相同的催化剂体系，可以轻松地与硅烷一起使用。六（1，5-二烯）和八（1，7-二烯）可提
• Ga⁺-catalyzed hydrosilylation? About the surprising system Ga⁺/HSiR₃/olefin, proof of oxidation with subvalent Ga⁺ and silylium catalysis with perfluoroalkoxyaluminate anions
  作者：Antoine Barthélemy、Kim Glootz、Harald Scherer、Annaleah Hanske、Ingo Krossing

  DOI：10.1039/d1sc05331k

  日期：——

  Already 1 mol% of subvalent [Ga(PhF)2]+[pf]− ([pf]− = [Al(ORF)4]−, RF = C(CF3)3) initiates the hydrosilylation of olefinic double bonds under mild conditions. Reactions with HSiMe3 and HSiEt3 as substrates efficiently yield anti-Markovnikov and anti-addition products, while bulkier substrates such as HSiiPr3 are less reactive. Investigating the underlying mechanism by gas chromatography and STEM analysis

  已经有 1 mol% 的亚价 [Ga(PhF) 2 ] + [ pf ] − ([ pf ] − = [Al(OR F ) 4 ] − , R F = C(CF 3 ) 3 ) 引发烯双氢硅烷化温和条件下的债券。以HSiMe 3和HSiEt 3作为底物的反应有效地产生抗马可夫尼科夫和反加成产物，而较大的底物如HSi i Pr 3的反应性较低。通过气相色谱和STEM分析研究其潜在机制，我们意外地发现H 2和金属Ga 0形成。在不添加烯烃的情况下，观察到形成 R 3 Si–F–Al(OR F ) 3 （R = 烷基），这是在小硅离子存在下[ pf ] -阴离子的典型降解产物。电化学分析表明， E 1/2 (Ga + /Ga 0 ; o DFB) = +0.26–的弱配位、极性邻二氟苯中的一价 [Ga(PhF) 2 ] + [ pf ] −具有令人惊讶的高氧化电位。 0.37 V vs. Fc +