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N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸 | 85342-62-7

中文名称
N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸
中文别名
N-羟基萘二甲酰亚胺三氟甲磺酸盐;NTBTF
英文名称
N-hydroxynaphthalimide triflate
英文别名
1,3-Dioxo-1h-benzo[de]isoquinolin-2(3h)-yl trifluoromethanesulfonate;(1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) trifluoromethanesulfonate
N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸化学式
CAS
85342-62-7
化学式
C13H6F3NO5S
mdl
——
分子量
345.256
InChiKey
LWHOMMCIJIJIGV-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    212.1-214.2 °C
  • 沸点:
    456.2±55.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.76±0.1 g/cm3(Predicted)
  • 溶解度:
    在PGMEA中的溶解度为1%
  • 稳定性/保质期:

    如果按照规格使用和储存,不会发生分解,也没有已知的危险反应。

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3
  • 重原子数:
    23
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.08
  • 拓扑面积:
    89.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    8

安全信息

  • WGK Germany:
    3
  • 安全说明:
    S22,S24/25
  • 危险性防范说明:
    P261,P305+P351+P338
  • 危险性描述:
    H302,H315,H319,H335
  • 储存条件:
    请将贮藏器保持密封,并存放在阴凉、干燥处。同时,确保工作环境具有良好的通风或排气设施。

SDS

SDS:38634f48487806a0242f32ccf9cc19aa
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1.1 产品标识符
: N-Hydroxynaphthalimide triflate
化学品俗名或商品名
1.2 鉴别的其他方法
N-Hydroxynaphthalimide trifluoromethanesulfonate
1.3 有关的确定了的物质或混合物的用途和建议不适合的用途
仅供科研用途,不作为药物、家庭备用药或其它用途。

模块 2. 危险性概述
2.1 GHS分类
根据全球协调系统(GHS)的规定,不是危险物质或混合物。
2.3 其它危害物 - 无

模块 3. 成分/组成信息
3.1 物 质
: N-Hydroxynaphthalimide trifluoromethanesulfonate
别名
: C13H6F3NO5S
分子式
: 345.25 g/mol
分子量
成分 浓度
N-Hydroxynaphthalimide triflate
-
化学文摘编号(CAS No.) 85342-62-7

模块 4. 急救措施
4.1 必要的急救措施描述
如果吸入
如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。 如果停止了呼吸,给于人工呼吸。
在皮肤接触的情况下
用肥皂和大量的水冲洗。
在眼睛接触的情况下
用水冲洗眼睛作为预防措施。
如果误服
切勿给失去知觉者从嘴里喂食任何东西。 用水漱口。
4.2 最重要的症状和影响,急性的和滞后的
据我们所知,此化学,物理和毒性性质尚未经完整的研究。
4.3 及时的医疗处理和所需的特殊处理的说明和指示
无数据资料

模块 5. 消防措施
5.1 灭火介质
灭火方法及灭火剂
用水雾,耐醇泡沫,干粉或二氧化碳灭火。
5.2 源于此物质或混合物的特别的危害
碳氧化物, 氮氧化物, 硫氧化物, 氟化氢
5.3 救火人员的预防
如必要的话,戴自给式呼吸器去救火。
5.4 进一步的信息
无数据资料

模块 6. 泄露应急处理
6.1 人员的预防,防护设备和紧急处理程序
防止粉尘的生成。 防止吸入蒸汽、气雾或气体。
6.2 环境预防措施
不要让产物进入下水道。
6.3 抑制和清除溢出物的方法和材料
扫掉和铲掉。 存放在合适的封闭的处理容器内。
6.4 参考其他部分
丢弃处理请参阅第13节。

模块 7. 操作处置与储存
7.1 安全操作的注意事项
在有粉尘生成的地方,提供合适的排风设备。一般性的防火保护措施。
7.2 安全储存的条件,包括任何不兼容性
贮存在阴凉处。 容器保持紧闭,储存在干燥通风处。
7.3 特定用途
无数据资料

模块 8. 接触控制/个体防护
8.1 控制参数
最高容许浓度
没有已知的国家规定的暴露极限。
8.2 暴露控制
适当的技术控制
常规的工业卫生操作。
人身保护设备
眼/面保护
请使用经官方标准如NIOSH (美国) 或 EN 166(欧盟) 检测与批准的设备防护眼部。
皮肤保护
戴手套取 手套在使用前必须受检查。
请使用合适的方法脱除手套(不要接触手套外部表面),避免任何皮肤部位接触此产品.
使用后请将被污染过的手套根据相关法律法规和有效的实验室规章程序谨慎处理. 请清洗并吹干双手
所选择的保护手套必须符合EU的89/686/EEC规定和从它衍生出来的EN 376标准。
身体保护
根据危险物质的类型,浓度和量,以及特定的工作场所来选择人体保护措施。,
防护设备的类型必须根据特定工作场所中的危险物的浓度和含量来选择。
呼吸系统防护
不需要保护呼吸。如需防护粉尘损害,请使用N95型(US)或P1型(EN 143)防尘面具。
呼吸器使用经过测试并通过政府标准如NIOSH(US)或CEN(EU)的呼吸器和零件。

模块 9. 理化特性
9.1 基本的理化特性的信息
a) 外观与性状
形状: 固体
b) 气味
无数据资料
c) 气味临界值
无数据资料
d) pH值
无数据资料
e) 熔点/凝固点
熔点/熔点范围: 212.1 - 214.2 °C
f) 起始沸点和沸程
无数据资料
g) 闪点
无数据资料
h) 蒸发速率
无数据资料
i) 可燃性(固体,气体)
无数据资料
j) 高的/低的燃烧性或爆炸性限度 无数据资料
k) 蒸气压
无数据资料
l) 相对蒸气密度
无数据资料
m) 相对密度
无数据资料
n) 水溶性
无数据资料
o) 辛醇/水分配系数的对数值
无数据资料
p) 自燃温度
无数据资料
q) 分解温度
无数据资料
r) 粘度
无数据资料

模块 10. 稳定性和反应活性
10.1 反应性
无数据资料
10.2 化学稳定性
无数据资料
10.3 危险反应的可能性
无数据资料
10.4 避免接触的条件
无数据资料
10.5 不兼容的材料
强氧化剂
10.6 危险的分解产物
其它分解产物 - 无数据资料

模块 11. 毒理学资料
11.1 毒理学影响的信息
急性毒性
无数据资料
皮肤腐蚀/刺激
无数据资料
严重眼损伤 / 眼刺激
无数据资料
呼吸道或皮肤过敏
无数据资料
生殖细胞诱变
无数据资料
致癌性
IARC:
此产品中没有大于或等于 0。1%含量的组分被 IARC鉴别为可能的或肯定的人类致癌物。
生殖毒性
无数据资料
特异性靶器官系统毒性(一次接触)
无数据资料
特异性靶器官系统毒性(反复接触)
无数据资料
吸入危险
无数据资料
潜在的健康影响
吸入 吸入可能有害。 可能引起呼吸道刺激。
摄入 如服入是有害的。
皮肤 如果通过皮肤吸收可能是有害的。 可能引起皮肤刺激。
眼睛 可能引起眼睛刺激。
接触后的征兆和症状
据我们所知,此化学,物理和毒性性质尚未经完整的研究。
附加说明
化学物质毒性作用登记: 无数据资料

模块 12. 生态学资料
12.1 毒性
无数据资料
12.2 持久存留性和降解性
无数据资料
12.3 生物积累的潜在可能性
无数据资料
12.4 土壤中的迁移
无数据资料
12.5 PBT 和 vPvB的结果评价
无数据资料
12.6 其它不利的影响
无数据资料

模块 13. 废弃处置
13.1 废物处理方法
产品
将剩余的和未回收的溶液交给处理公司。
污染了的包装物
作为未用过的产品弃置。

模块 14. 运输信息
14.1 UN编号
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.2 联合国(UN)规定的名称
欧洲陆运危规: 无危险货物
国际海运危规: 无危险货物
国际空运危规: 无危险货物
14.3 运输危险类别
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.4 包裹组
欧洲陆运危规: - 国际海运危规: - 国际空运危规: -
14.5 环境危险
欧洲陆运危规: 否 国际海运危规 海运污染物: 否 国际空运危规: 否
14.6 对使用者的特别预防
无数据资料


模块 15 - 法规信息
N/A


模块16 - 其他信息
N/A

制备方法与用途

概述

N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸酯(HNT)是一种光酸发生器(PAG),在紫外线照射下会形成酸,可用于生成图案结构。它还能通过形成酸键调节聚合物的溶解度。

用途

N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸酯可以用来形成有图案的纳米颗粒,并且在半导体器件的体积制造中找到了潜在应用。它还用于沸石的光响应性孔重开,有助于气体渗透过程的调控。在HNT的存在下,通过紫外辐照三甲基硅基超薄纤维素基薄膜可以生成PAG。

合成方法
  1. 取10.0 g (0.051 mol)萘酸酐、3.9 g (0.056 mol)盐酸羟胺和80 ml吡啶的混合物,在100℃下搅拌10小时。
  2. 冷却至室温后,将反应溶液倒入1N盐酸中,过滤回收沉淀。所得沉淀物5.0 g溶解于吡啶(50 ml)中,在0℃搅拌时,将8.3 g (0.026 mol)合成的二(五氟乙基)膦酰氯滴入其中。
  3. 在25℃下搅拌2小时后,用二氯甲烷-水萃取反应溶液,减压除去有机层并除去溶剂。最终得到橙色固体,通过乙腈重结晶得到白色固体5.3 g (0.01 mol)。
  4. 作为对比,将双(五氟乙基)膦酰氯加入三氟甲烷磺酸中,并用酸酐(7.3 g, 0.028 mol)代替酸酐,可以制得粗产物N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸酯(7.0 g, 0.020 mmol)。

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    N-[(perfluorooctanesulfonyl)oxy]-5-norbornene-2,3-dicarboximide 、 N-(trifluoromethylsulfonyloxy)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxyimideN-(trifluoromethanesulfonyloxy)succinimide2-[(Trifluoromethanesulfonyl)oxy]-1H-benzo[f]isoindole-1,3(2H)-dione 、 1-(Trifluoromethylsulfonyloxy)-3,4-dimethyl-3-pyrroline-2,5-dione 、 N-(三氟甲磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸 生成 1-(Trifluoromesyloxy)-3-pyrroline-2,5-dione
    参考文献:
    名称:
    Polymers and photoresists comprising same
    摘要:
    提供了新的聚合物,其中包含非碳四价物种(Si,Ti,Ge,Zr,Sn),以及包含这些聚合物的可成像光敏组合物。首选聚合物是有机的,例如一个或多个聚合物重复单元包含碳原子。特别优选的是包含SiO2或TiO2重复单元的聚合物,可作为在短波长下成像的光阻树脂组分,例如亚300 nm和亚200 nm。
    公开号:
    US20040248032A1
  • 作为产物:
    描述:
    1,8-萘二甲酸酐吡啶盐酸羟胺碳酸氢钠 作用下, 以 乙醇乙腈 为溶剂, 反应 15.0h, 生成 N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸
    参考文献:
    名称:
    [EN] PHOTOSENSITIVE MOLECULE AND APPLICATION THEREOF
    [FR] MOLÉCULE PHOTOSENSIBLE ET SON APPLICATION
    [ZH] 感光分子及其应用
    摘要:
    本申请实施例提供一种感光分子和包含该感光分子的光产酸剂和感光树脂组合物,其分子结构包括含萘环的主结构、与主结构中萘环连接的杂环基X,与杂环基连接的R2;R2选自卤素、芳基、芳烷基、烷芳基、卤代芳基、烷氧基芳基、环氧烷基、环氧芳基、羟基烷基、羟基芳基、羟基烷基取代羟基芳基、氨基芳基、烷基醚基、芳基醚基、环氧烷氧基、环氧烷氧基取代芳基、或含烷氧基硅烷中的一个基团。该感光分子通过在萘环上引入杂环结构和特定的R2基团,可有效改善感光树脂组合物的图案分辨率,及与铜、硅等界面的粘附性,赋予感光分子多功能,简化树脂组合物配方。
    公开号:
    WO2023051686A1
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文献信息

  • PHOTOACID GENERATOR, AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
    申请人:SAN-APRO LTD.
    公开号:US20160368879A1
    公开(公告)日:2016-12-22
    Provided is a non-ionic photoacid generator (A) expressed by general formula (1). R1 and R2 each independently represents an alkyl group having 1-18 carbons or a fluoroalkyl group having 1-18 carbons, an alkenyl group having 2-18 carbons, an alkynyl group having 2-18 carbons, an aryl group having 6-18 carbons, a silyl group, or the like; m and n respectively represent the number of R1s and R2s, each number being an integer from 0 to 3, and the total number (m+n) of R1s and R2s being an integer from 1 to 6. The m number of R1s and the n number of R2s may each be the same or different. R3 represents a hydrocarbon having 1-18 carbons wherein one part or all of the hydrogen may be substituted by fluorine.
    提供的非离子光酸发生剂(A)由通式(1)表示。R1和R2分别独立表示具有1-18个碳原子的烷基基团或具有1-18个碳原子的氟烷基基团,具有2-18个碳原子的烯基基团,具有2-18个碳原子的炔基基团,具有6-18个碳原子的芳基基团,硅基团等;m和n分别表示R1和R2的数量,每个数字为0到3的整数,R1和R2的总数(m+n)为1到6的整数。R1的数量m和R2的数量n可以相同也可以不同。R3表示具有1-18个碳原子的碳氢化合物,其中氢的一部分或全部可以被氟取代。
  • RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
    申请人:Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
    公开号:US20160145231A1
    公开(公告)日:2016-05-26
    A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.
    描述了一种包含由通式(1)或(2)表示的化合物的光刻胶组合物,使用该组合物形成光刻胶图案的方法,用于该组合物的多酚化合物,以及可以由其衍生的醇化合物。
  • NOVEL TETRACARBOXYLIC DIANHYDRIDE, POLYIMIDE RESIN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS, PATTERNING PROCESS, METHOD FOR FORMING CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC PARTS
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US20190169211A1
    公开(公告)日:2019-06-06
    The present invention has been made in view of the circumstances herein. An object of the present invention is to provide: a tetracarboxylic dianhydride which can lead to a polyimide usable as a base resin of a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern and obtaining high resolution without impairing excellent characteristics such as mechanical strength and adhesiveness; a polyimide resin obtained by using the tetracarboxylic dianhydride; and a method for producing the polyimide resin. The tetracarboxylic dianhydride is shown by the following general formula (1).
    本发明是基于本文中的情况而作出的。本发明的目的是提供:一种四羧酸二酐,可导致聚酰亚胺,作为感光树脂组合物的基树脂,能够形成细微图案并获得高分辨率,同时不损害优异的特性,如机械强度和粘附性;通过使用该四羧酸二酐获得的聚酰亚胺树脂;以及生产该聚酰亚胺树脂的方法。该四羧酸二酐由以下通用式(1)所示。
  • OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
    申请人:Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
    公开号:US20200262787A1
    公开(公告)日:2020-08-20
    The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.
    本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
  • [EN] LATENT ACIDS AND THEIR USE<br/>[FR] ACIDES LATENTS ET LEUR UTILISATION
    申请人:BASF SE
    公开号:WO2016124493A1
    公开(公告)日:2016-08-11
    Compounds of the formula (I) and (IA) wherein X is -O(CO)-; R1 is C1-C12haloalkyl or C6-C10haloaryl; R2 is located in position 7 of the coumarinyl ring and is OR8; R2a, R2b and R2C independently of each other are hydrogen; R3 is C1-C8haloalkyl or C1-C8haloalkyl; R4 is hydrogen; and R8 is C1-C6alkyI; are suitable as photosensitive acid donors in the preparation of photoresist compositions such as used for example in the preparation of spacers, insulating layers, interlayer dielectric films, insulation layers, planarization layers, protecting layers, overcoat layers, banks for electroluminescence displays and liquid crystal displays (LCD).
    化合物的化学式(I)和(IA),其中X为-O(CO)-;R1为C1-C12卤代烷基或C6-C10卤代芳基;R2位于香豆素环的第7位,为OR8;R2a、R2b和R2C彼此独立地为氢;R3为C1-C8卤代烷基或C1-C8卤代烷基;R4为氢;R8为C1-C6烷基,适用于作为感光酸给体,用于制备光刻胶组合物,例如用于制备间隔层、绝缘层、层间介质膜、绝缘层、平坦化层、保护层、覆盖层、电致发光显示器和液晶显示器(LCD)的制备。
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