N-(trifluoromethylsulfonyloxy)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxyimide | 133710-62-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异吲哚及其衍生物
• 英文名称: N-(trifluoromethylsulfonyloxy)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxyimide
• 英文别名: 3a,4,7,7a-tetrahydro-2-(((trifluoromethyl)sulfonyl)oxy)-4,7-methano-1H-isoindole-1,3(2H)-dione；(3,5-dioxo-4-azatricyclo[5.2.1.02,6]dec-8-en-4-yl) trifluoromethanesulfonate
• CAS: 133710-62-0
• 化学式: C₁₀H₈F₃NO₅S
• 分子量: 311.238
• InChiKey: YCMDNBGUNDHOOD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.6
• 拓扑面积：
  89.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-[(perfluorooctanesulfonyl)oxy]-5-norbornene-2,3-dicarboximide 、 N-(trifluoromethylsulfonyloxy)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxyimide 、 N-(trifluoromethanesulfonyloxy)succinimide 、 2-[(Trifluoromethanesulfonyl)oxy]-1H-benzo[f]isoindole-1,3(2H)-dione 、 1-(Trifluoromethylsulfonyloxy)-3,4-dimethyl-3-pyrroline-2,5-dione 、 N-(三氟甲磺酰氧基)邻苯二甲酰亚胺 、 N-羟基萘酰亚胺三氟甲磺酸 生成 1-(Trifluoromesyloxy)-3-pyrroline-2,5-dione
  参考文献：
  名称：

  Polymers and photoresists comprising same

  摘要：

  提供了新的聚合物，其中包含非碳四价物种（Si，Ti，Ge，Zr，Sn），以及包含这些聚合物的可成像光敏组合物。首选聚合物是有机的，例如一个或多个聚合物重复单元包含碳原子。特别优选的是包含SiO2或TiO2重复单元的聚合物，可作为在短波长下成像的光阻树脂组分，例如亚300 nm和亚200 nm。

  公开号：

  US20040248032A1
• 作为产物：
  描述：

  三氟甲烷磺酰氯 、 N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二甲酰亚胺 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以85.4%的产率得到N-(trifluoromethylsulfonyloxy)bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxyimide
  参考文献：
  名称：

  基于降冰片烯-酰亚胺的非离子光酸发生器的合成与性能研究

  摘要：

  本文创建了六种 N-羟基-5-降冰片烯-2,3-二羰基亚胺磺酸盐 （3a-3f），并以良好的产率生产为非离子光酸发生剂 （PAG）。1H NMR 和 13C NMR 用于确认化合物的结构，19F NMR 用于进一步证明 3a 的结构。热重分析 （TGA） 和差示扫描量热法 （DSC） 表明，所有 6 个 PAG 都具有良好的热稳定性。此外，使用紫外和可见光谱 （UV-vis） 和 254 nm 荧光光谱 （FS） 检查了溶剂对 PAG 化合物的影响。HPLC 监测产品 6 种 PAG 组分在紫外光 （254 nm） 下的变化。使用罗丹明 B （RB） 作为酸传感器开发了一种基于分光光度法的暴露酸产生测定法。测试了 6 种 PAGs 的降解和产酸量子产率，结果表明所有 PAGs 都表现出较高的产酸能力。此外，我们提出了磺酸光生的潜在机制，使用高斯计算的 DFT 时间计算支持 PAG 3c 的

  DOI：

  10.1016/j.molstruc.2024.137653

文献信息

• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• [EN] LATENT ACIDS AND THEIR USE<br/>[FR] ACIDES LATENTS ET LEUR UTILISATION
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2016124493A1

  公开（公告）日：2016-08-11

  Compounds of the formula (I) and (IA) wherein X is -O(CO)-; R1 is C1-C12haloalkyl or C6-C10haloaryl; R2 is located in position 7 of the coumarinyl ring and is OR8; R2a, R2b and R2C independently of each other are hydrogen; R3 is C1-C8haloalkyl or C1-C8haloalkyl; R4 is hydrogen; and R8 is C1-C6alkyI; are suitable as photosensitive acid donors in the preparation of photoresist compositions such as used for example in the preparation of spacers, insulating layers, interlayer dielectric films, insulation layers, planarization layers, protecting layers, overcoat layers, banks for electroluminescence displays and liquid crystal displays (LCD).

  化合物的化学式（I）和（IA），其中X为-O(CO)-；R1为C1-C12卤代烷基或C6-C10卤代芳基；R2位于香豆素环的第7位，为OR8；R2a、R2b和R2C彼此独立地为氢；R3为C1-C8卤代烷基或C1-C8卤代烷基；R4为氢；R8为C1-C6烷基，适用于作为感光酸给体，用于制备光刻胶组合物，例如用于制备间隔层、绝缘层、层间介质膜、绝缘层、平坦化层、保护层、覆盖层、电致发光显示器和液晶显示器（LCD）的制备。
• METHOD FOR PRODUCING COMPOUND HAVING ACID-LABILE GROUP
  申请人：Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP1661918A1

  公开（公告）日：2006-05-31

  The present invention provides a process for producing a compound having a group represented by general formula (II): (wherein R1, R2, and R3 may be the same or different, and each represent a substituted or unsubstituted alkyl, a substituted or unsubstituted aryl, or a substituted or unsubstituted aralkyl, or R1 and R2 may bind to each other to form an alicyclic hydrocarbon ring together with the adjacent carbon atoms, or R2 and R3 may bind to each other to form a alicyclic heterocyclic ring together with the adjacent O-C-C that may have a substituent), which comprises allowing a compound having a hydroxyl group to react with halogenated alkyl ether represented by general formula (I): (wherein R1, R2, and R3 are the same as those defined above, respectively and X represents a halogen atom).

  本发明提供了一种生产具有由通式（II）表示的基团的化合物的方法：（其中R1、R2和R3可以相同也可以不同，并且分别表示取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、或取代或未取代的芳基烷基，或者R1和R2可以相互结合形成与相邻碳原子一起的脂环碳氢环，或者R2和R3可以相互结合形成与相邻的O-C-C一起具有取代基的脂环杂环）的方法，该方法包括允许具有羟基的化合物与由通式（I）表示的卤代烷基醚发生反应：（其中R1、R2和R3分别与上述定义相同，X代表卤素原子）。
• Polymer and photoresist compositions
  申请人：Shipley Company, L.L.C.

  公开号：US20020173680A1

  公开（公告）日：2002-11-21

  Disclosed are spirocyclic olefin polymers, methods of preparing spirocyclic olefin polymers, photoresist compositions including spirocyclic olefin resin binders and methods of forming relief images using such photoresist compositions.

  本文披露了螺环烯烃聚合物、制备螺环烯烃聚合物的方法、包括螺环烯烃树脂粘合剂的光刻胶组合物，以及利用这种光刻胶组合物形成凸版图像的方法。
• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN DE LA COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2010035905A1

  公开（公告）日：2010-04-01

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising any of the compounds of general formula (I) below; wherein: Ar represents an aromatic ring that may have a substituent other than the -(A-B) groups; n is an integer of 1 or greater; A represents any one, or a combination of two or more members selected from a single bond, an alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)?2- and OS(=O)2-, provided that -C(=O)O- is excluded; B represents a group containing a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms wherein either a tertiary or a quaternary carbon atom is contained, when n is 2 or greater, the two or more -(A-B) groups may be identical to or different from each other; and M+ represents an organic onium ion.

  一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，包括下面的通式(I)中的任何一种化合物；其中：Ar代表可能具有除了-(A-B)基团之外的取代基的芳香环；n为大于等于1的整数；A代表从单键、烷基基团、-O-、-S-、-C(=O)-、-S(=O)-、-S(=O)2-和OS(=O)2-中选取的任意一个或两个以上成员的组合，但不包括-C(=O)O-；B代表含有4个或更多碳原子的烃基团的基团，当n大于等于2时，两个或更多个-(A-B)基团可以相同或不同；M+代表有机离子。