1-Tricyclo[3.3.1.03,7]nonanyl 2-methylprop-2-enoate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1-Tricyclo[3.3.1.03,7]nonanyl 2-methylprop-2-enoate
• 英文别名: 1-tricyclo[3.3.1.03,7]nonanyl 2-methylprop-2-enoate
• 化学式: C₁₃H₁₈O₂
• 分子量: 206.28
• InChiKey: RVTPSAVVZUIJOP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.77
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• Inkjet recording method and inkjet recording system
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2105478B1

  公开（公告）日：2018-02-28
• [EN] ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN-FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, FILM SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE<br/>[JA] 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2020022089A1

  公开（公告）日：2020-01-30

  本発明は、２種以上の繰り返し単位を含み、上記２種以上の繰り返し単位のうち、少なくとも１つが、フッ素原子又は、ケイ素原子、又は、炭素数６以上の直鎖状又は分岐状の炭化水素基を有する繰り返し単位であり、特定の条件を満たす、共重合体（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。