[EN] SEALING RESIN COMPOSITION, LAMINATE SHEET, CURED PRODUCT, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE D'ÉTANCHÉITÉ, FEUILLE STRATIFIÉE, PRODUIT DURCI, DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR<br/>[JA] 封止用樹脂組成物、積層シート、硬化物、半導体装置及び半導体装置の製造方法
申请人:PANASONIC IP MAN CO LTD
公开号:WO2019163861A1
公开(公告)日:2019-08-29
基材と基材に実装されている半導体チップとの隙間を封止するにあたって、加熱及び超音波振動による処理を施しても、基材と半導体チップとの間の隙間にボイドが発生することを抑制できる封止用樹脂組成物を提供する。封止用樹脂組成物は、基材2と基材2に実装されている半導体チップ3との間の隙間を封止するための封止用樹脂組成物である。封止用樹脂組成物の反応開始温度は、160℃以下である。封止用樹脂組成物の溶融粘度は、反応開始温度において200Pa・s以下、反応開始温度より40℃低い温度以上前記反応開始温度以下のいかなる温度においても400Pa・s以下、かつ反応開始温度より50℃低い温度において、1000Pa・s以下である。