[1,1'-联苯]三醇 | 29222-39-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: [1,1'-联苯]三醇
• 英文名称: 3,4,5-Trihydroxy-biphenyl
• 英文别名: Biphenyltriol；5-phenylbenzene-1,2,3-triol
• CAS: 29222-39-7
• 化学式: C₁₂H₁₀O₃
• 分子量: 202.21
• InChiKey: IVQGJZCJWJVSJX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  300.32°C (rough estimate)
• 密度：
  1.1868 (rough estimate)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,6-二甲氧基-4-苯基苯酚 在 氢溴酸 作用下， 生成 [1,1'-联苯]三醇
  参考文献：
  名称：

  Erdtman,H. et al., Acta Chemica Scandinavica (1947), 1963, vol. 17, p. 1151 - 1156

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Natural phytoalexins inspired the discovery of new biphenyls as potent antifungal agents for treatment of invasive fungal infections
  作者：Jian-Chuan Liu、Jian Yang、Shu-Xin Lei、Ming-Fan Wang、Yan-Ni Ma、Rui Yang

  DOI：10.1016/j.ejmech.2023.115842

  日期：2023.12

  discovering novel and effective antifungal agents derived from natural sources, a series of new biphenyls based on natural biphenyl phytoalexins were designed, synthesized and evaluated for their antifungal activities against four invasive fungi. By modifying the two benzene rings of noraucuparin, a well-known biphenyl phytoantitoxin, some promising compounds with remarkable antifungal activity were discovered

  为了发现源自天然来源的新颖有效的抗真菌剂，设计、合成了一系列基于天然联苯植物抗毒素的新型联苯，并评估了其对四种入侵真菌的抗真菌活性通过修饰去核桃苷（一种著名的联苯植物抗毒素）的两个苯环，发现了一些具有显着抗真菌活性的有前景的化合物。值得注意的是，化合物23a、23e和23h表现出有效的活性和广泛的抗真菌谱，MIC 低至0.25-16 μg/mL，比先导化合物去核桃苷的效力强 8-256 倍。特别是，它们对新型隐球菌表现出与阳性对照两性霉素 B 相当的效力。还讨论了一些有趣的结构-活性关系。初步机理研究表明，化合物23h可能通过破坏真菌细胞膜来实现其快速杀菌活性。此外，化合物23h新型隐球菌的部分毒力因子具有显着的抑制作用，对正常人体细胞毒性低，具有良好的药代动力学和类药特性。上述结果证明，从天然植物抗毒素中开发新的抗真菌候选药物是一个光明且有前途的策略。
• Light-sensitive compositions
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP0410760A2

  公开（公告）日：1991-01-30

  A light-sensitive composition comprising: (a) a polysiloxane compound having at least 1 mol% of a structural unit derived from a product of a thermal cycloaddition reaction between a compound of formula (I), (II), (III) or (IV) and a compound of formula (V), (VI), (VII) or (VIII), and (b) an orthoquinonediazide compound.

  一种光敏组合物，包括 (a) 聚硅氧烷化合物，其结构单元至少有 1 摩尔%来自式（I）、（II）、（III）或 （IV）化合物与式（V）、（VI）、（VII）或（VIII）化合物之间的热环化反应产物， 以及 (b) 邻醌噻嗪化合物。
• Process for synthesizing quinonediazide ester and positive working photoresist containing the same
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP0706089A2

  公开（公告）日：1996-04-10

  A process for synthesizing a quinonediazide ester is disclosed in which the esterification reaction of a polyhydroxy compound with 1,2-naphthoquinonediazide-5-(and/or -4-)sulfonyl chloride is carried out in the presence of a base catalyst comprising a basic compound represented by formula (I) or (II): wherein R₁ to R₁₅ are defined in the disclosure. A positive working photoresist containing the ester is also disclosed. The process is capable of highly selectively yielding the desired photosensitive material containing specific unreacted hydroxyl group(s). The photoresist has high resolving power with reduced film thickness dependence of the resolving power, is less apt to leave a development residue, and has excellent storage stability for prolonged period of time.

  本发明公开了一种合成喹酮噻嗪酯的工艺，在该工艺中，多羟基化合物与 1,2-萘醌噻嗪-5-（和/或-4-）磺酰氯的酯化反应是在碱催化剂存在下进行的，碱催化剂包括由式 (I) 或 (II) 所代表的碱化合物： 其中 R₁至 R₁₅的定义见公开内容。此外，还公开了一种含有该酯的正工作光刻胶。该工艺能够高选择性地得到所需的光敏材料，其中含有特定的未反应羟基。这种光刻胶具有很高的分辨力，同时降低了膜厚度对分辨力的依赖性，不易留下显影残留物，并且在长时间储存时具有极佳的稳定性。
• Method of synthesizing polyphenol compound and positive working photoresist composition comprising polyphenol compound
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP0745575A1

  公开（公告）日：1996-12-04

  Provided are a method of synthesizing a highly pure polyphenol compound, which comprises (i) introducing at least one -CHRNR'R'' group onto aromatic ring(s) of a phenol compound having from one to ten aromatic ring(s), wherein R represents a hydrogen atom, an alkyl group which may contain a hetero atom, a cycloalkyl group which may contain a hetero atom, an aralkyl group which may contain a hetero atom, or an aryl group, and R' and R'', which may be the same or different, each represents an alkyl group which may contain a hetero atom, a cycloalkyl group which may contain a hetero atom, an aralkyl group which may contain a hetero atom, or an aryl group, and R' and R'' may combine with each other to form a ring, (ii) converting the -CHRNR'R'' group into a -CHRA group via one to three steps, wherein A represents a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyloxy group, a halogen atom, a quaternary ammonium salt or a sulfonyloxy group, and (iii) condensing the thus converted phenol compound and a phenol compound, and a positive working photoresist composition using the polyphenol compound obtained by the aforementioned method.

  本发明提供了一种合成高纯度多酚化合物的方法，该方法包括(i)在具有一至十个芳香环的苯酚化合物的芳香环上引入至少一个-CHRNR'R''基团，其中 R 代表氢原子、可含有杂原子的烷基、可含有杂原子的环烷基、可含有杂原子的芳烷基或芳基、可含有杂原子的环烷基、可含有杂原子的芳烷基或芳基，R'和 R''可以相同或不同，各自代表可含有杂原子的烷基、可含有杂原子的环烷基、可含有杂原子的芳烷基、可含有杂原子的芳烷基、可含有杂原子的芳烷基、可含有杂原子的芳烷基、可含有杂原子的芳烷基、可含有杂原子的芳烷基、可含有杂原子的芳烷基、可含有杂原子的芳烷基、(ii) 通过一至三个步骤将 -CHRNR'R'' 基团转化为 -CHRA 基团，其中 A 代表羟基、烷氧基、酰氧基、环烷基或芳基、烷氧基、酰氧基、卤素原子、季铵盐或磺酰氧基，以及 (iii) 将由此转化的苯酚化合物和苯酚化合物缩合，并使用通过上述方法获得的多酚化合物制备正性工作光刻胶组合物。
• Positive type photoresist composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP0445819B1

  公开（公告）日：2001-08-22