2-Methyl-N,N-bis(2-methylpropyl)-2-propenamide | 856322-59-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-Methyl-N,N-bis(2-methylpropyl)-2-propenamide
• 英文别名: 2-methyl-N,N-bis(2-methylpropyl)prop-2-enamide
• CAS: 856322-59-3
• 化学式: C₁₂H₂₃NO
• 分子量: 197.32
• InChiKey: MSXBNVQLIFDFCC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  20.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

文献信息

• PIGMENT DISPERSION, INK COMPOSITION USING THE SAME, AND PRINTED MATERIAL
  申请人：SHIMOHARA Norihide

  公开号：US20110223395A1

  公开（公告）日：2011-09-15

  A pigment dispersion including: 2 to 35% by mass of a pigment (a); 10 to 30 parts by mass of a polymer (b) with respect to 100 parts by mass of the pigment (a), the polymer (b) containing 5 to 30% by mass of a repeating unit represented by the following Formula (1) and having a weight average molecular weight of 10000 to 200000; and 15 to 50 parts by mass of a graft copolymer (c) having a polyalkylene imine chain or a polyallylamine chain in a main chain thereof and a polyester chain in a side chain thereof with respect to 100 parts by mass of the pigment (a), in which a total of the contents of the polymer (b) and the graft copolymer (c) is in the range of 25 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment (a).

  一种颜料分散液，包括：2-35%质量份的颜料（a）；相对于100质量份的颜料（a），聚合物（b）10-30质量份，聚合物（b）含有由以下式（1）表示的重复单元的5-30%质量份，并且具有10000-200000的重均分子量；以及相对于100质量份的颜料（a），侧链中具有聚酯链的嫁接共聚物（c）15-50质量份，其中聚合物（b）和嫁接共聚物（c）的总含量相对于100质量份的颜料（a）在25-70质量份的范围内。
• UV-Vernetzbare Massen auf Basis von (Meth)-acrylesterpolymerisaten
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0377199A2

  公开（公告）日：1990-07-11

  UV-vernetzbare Massen auf Basis von (Meth)-acrylestercopolymerisaten mit einpolymerisierten Monomeren der allgemeinen Formel I Norin R für einen bestimmten Alkylrest, für einen Arylrest oder den Rest R1 steht und R' für den Rest steht, wobei die Reste R2 bis R6 stehen für H, Alkyl, eine nicht orthoständige OH-Gruppe, OCH3, OC2H5, SH, SCH3, Cl, F, CN, COOH, COO(C1 bis C3-Alkyl), CF3, N(CH3)2, N(C2Hs)2, N(CH3)C6H5, ®N(CH3)3Xe, ®N(CH3)2Xe, mit Xe einem Säureanion und mindestens einer der Reste R2 bis R6 für den Rest oder oder mit Sp für eine der Spacergruppen der folgenden Art und R', R sowie R'" für H oder einen bestimmten Kohlenwasserstoff stehen und worin X für einen zweiwertigen Alkylenrest, für einen Cycloalkylenrest, für einen Phenylenrest, wobei die X-Reste gleich oder verschieden voneinander sein können, die direkt miteinander verknüpft und/oder durch gleiche oder voneinander verschiedene Gruppen Y miteinander verknüpft sind und Y für einen zweiwertigen Rest aus der Gruppe steht, und k, m die Zahlen 1 bis 10 und I, n die Zahlen 0 bis 25 symbolisieren.

  基于（甲基）丙烯酸酯共聚物与通式 I 的聚合单体的紫外线可交联组合物 其中 R 是特定的烷基、芳基或自由基 R1，R' 是自由基 其中 R2 至 R6 是 H、烷基、非正 OH 基、O 、OC2H5、SH、S 、Cl、F、CN、COOH、COO（C1 至 C3-烷基）、CF3、N(CH3)2、N(C2Hs)2、N( )C6H5、®N( )3Xe、®N( )2Xe，其中 Xe 是酸阴离子，且 R2 至 R6 中至少有一个是基团 或 或 其中 Sp 是以下类型的间隔基团之一 和 R'、R 和 R'"代表 H 或特定的烃，其中 X 代表二价亚烷基、环亚烷基、亚苯基，X 基可以彼此相同或不同，可以彼此直接连接和/或通过相同或不同的基团 Y 连接，Y 代表由以下组成的组中的二价基团 和 k、m 表示数字 1 至 10，I、n 表示数字 0 至 10。 I、n 表示 0 至 25。
• Preparation process of acrylic acid ester polymer
  申请人：KURARAY CO., LTD.

  公开号：EP0945470A1

  公开（公告）日：1999-09-29

  Described is a process for the preparation of an acrylic acid ester polymer, which comprises carrying out polymerization of an acrylic acid ester or block copolymerization of an acrylic acid ester and another (meth)acrylic monomer in the presence of an organolithium compound and an organoaluminum compound represented by the following formula:         AlR1R2R3 wherein R1 represents an alkyl group having at least 3 carbon atoms, an alkoxy group having at least 3 carbon atoms or an aryloxy group, R2 and R3 each independently represents an aryloxy group or may be coupled together to form an arylenedioxy group, which process makes it possible to heighten the reaction rate and living properties upon polymerization and heighten the block formation efficiency upon block copolymerization.

  描述了一种制备丙烯酸酯聚合物的工艺，该工艺包括在有机锂化合物和有机铝化合物存在下，进行丙烯酸酯的聚合或丙烯酸酯和另一种（甲基）丙烯酸单体的嵌段共聚： AlR1R2R3 其中 R1 代表具有至少 3 个碳原子的烷基、具有至少 3 个碳原子的烷氧基或芳基氧基，R2 和 R3 各自独立地代表芳基氧基或可连接在一起形成芳二氧基，该工艺可提高聚合时的反应速度和活 性，并提高嵌段共聚时的嵌段形成效率。
• Ink composition, image forming method and printed article
  申请人：Fuji Photo Film Co., Ltd.

  公开号：EP1739141A1

  公开（公告）日：2007-01-03

  Disclosed are an ink composition comprising at least a colorant (a) and a polymer (b) having a heterocyclic moiety forming a colorant, an image forming method including applying the ink composition to a recording medium by printing and curing the ink composition, and a printed article produced by curing the ink composition.

  本发明公开了一种油墨组合物，该组合物至少包含一种着色剂（a）和一种具有形成着色剂的杂环分子的聚合物（b）；一种图像形成方法，包括通过印刷和固化该油墨组合物将该油墨组合物应用于记录介质；以及一种通过固化该油墨组合物生产的印刷品。
• POLISHING AGENT FOR SILICON OXIDE, LIQUID ADDITIVE, AND METHOD OF POLISHING
  申请人：Hitachi Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP1956642A1

  公开（公告）日：2008-08-13

  The polishing slurry of the invention is a polishing slurry for polishing a silicon oxide film on polysilicon, which contains an abrasive, polysilicon polishing inhibitor, and water. As the polishing inhibitor, it is preferable to use (1) a water-soluble polymer having a N-monosubstituted or N,N-disubstituted skeleton substituted by any member selected from the group consisting of acrylamide, methacrylamide, and α-substitutedderivatives thereof, (2) polyethylene glycol, (3) an oxyethylene adduct of an acetylene-based diol, (4) a water-soluble organic compound having an acetylene bond, (5) an alkoxylated linear aliphatic alcohol, or (6) a copolymer containing polyvinyl pyrrolidone or vinyl pyrrolidone. There is provided a polishing method which is capable of polishing a silicon oxide film on a polysilicon film at a high speed, and inhibiting the progress of polishing of a polysilicon film in exposed parts in the manufacturing method for a semiconductor.

  本发明的抛光浆料是一种用于抛光多晶硅上的氧化硅膜的抛光浆料，它含有研磨剂、多晶硅抛光抑制剂和水。作为抛光抑制剂，最好使用 (1) 具有被选自丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺及其 α-取代衍生物的任一成员取代的 N-单取代或 N,N-二取代骨架的水溶性聚合物、(2) 聚乙二醇；(3) 乙炔基二醇的氧乙烯加合物；(4) 具有乙炔键的水溶性有机化合物；(5) 烷氧基化线性脂肪醇；或 (6) 含有聚乙烯基吡咯烷酮或乙烯基吡咯烷酮的共聚物。本发明提供了一种抛光方法，它能够高速抛光多晶硅薄膜上的氧化硅薄膜，并能抑制半导体制造方法中暴露部分多晶硅薄膜的抛光进程。