摘要:
由以下公式表示的新型化合物:##STR1## 其中 R.sup.1 代表 H,一个可选地取代的低级烷基团或一个卤素;R.sup.2 和 R.sup.3 分别代表一个氢或一个可选地取代的低级烷基团,或者 R.sup.2 和 R.sup.3 可以与相邻的 --C.dbd.C-- 基团一起形成一个 5 至 7 成员的环;X 代表 O, SO 或 SO.sub.2 ;Y 代表一个由以下公式表示的基团:##STR2## (R.sup.4 和 R.sup.5 分别代表 H 或一个可选地取代的低级烷基团) 或一个由一个可选地取代的 3 至 7 成员的同环或杂环派生的二价基团;R.sup.6 和 R.sup.7 各自代表 H,一个可选地取代的低级烷基团,一个可选地取代的环烷基团或一个可选地取代的芳基团,或者 R.sup.6 和 R.sup.7 可以与相邻的 N 一起形成一个可选地取代的含 N 杂环族;m 代表 0 至 4;n 代表 0 至 4,或其盐,其具有优异的抗 PAF 活性、抗 LTC.sub.4 活性和抗 ET-1 活性,并且作为抗哮喘剂具有价值,及其生产、中间体和药物组合物。