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dodecan-2-yl(methyl)sulfane

中文名称
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中文别名
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英文名称
dodecan-2-yl(methyl)sulfane
英文别名
2-Methylsulfanyldodecane
dodecan-2-yl(methyl)sulfane化学式
CAS
——
化学式
C13H28S
mdl
——
分子量
216.431
InChiKey
ANKQAKXTIZPRIX-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.4
  • 重原子数:
    14
  • 可旋转键数:
    10
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    25.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

反应信息

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文献信息

  • Copper-Catalyzed direct thioetherification of Alkyl Halides with <i>S</i>-Alkyl Butanethioate as Thiol transfer reagent
    作者:Qingqiang Tian、Lili Wang、Yahui Li
    DOI:10.1080/17415993.2021.1967354
    日期:2022.1.2
    A new and convenient copper-catalyzed synthesis of alkyl sulfides has been accomplished using S-alkyl butanethioate as a thiol source. This catalytic protocol displayed a good functional groups tolerance and high efficiency. Both secondary and primary alkyl iodides can be used in this procedure. In addition, this method features operational simplicity and a wide substrate range, providing a complementary
    使用 S-烷基丁代酸酯作为醇源,已经完成了一种新的、方便的催化合成烷基硫化物。该催化方案显示出良好的官能团耐受性和高效率。二级和一级烷基都可用于此过程。此外,该方法操作简单,底物范围广,为烷基硫化物的合成提供了一种补充方法,不需要有毒的醇和贵属。
  • [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS AU MOYEN DE LA COMPOSITION
    申请人:FUJIFILM CORP
    公开号:WO2010035905A1
    公开(公告)日:2010-04-01
    An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising any of the compounds of general formula (I) below; wherein: Ar represents an aromatic ring that may have a substituent other than the -(A-B) groups; n is an integer of 1 or greater; A represents any one, or a combination of two or more members selected from a single bond, an alkylene group, -O-, -S-, -C(=O)-, -S(=O)-, -S(=O)?2- and OS(=O)2-, provided that -C(=O)O- is excluded; B represents a group containing a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms wherein either a tertiary or a quaternary carbon atom is contained, when n is 2 or greater, the two or more -(A-B) groups may be identical to or different from each other; and M+ represents an organic onium ion.
    一种光化学射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物,包括下面的通式(I)中的任何一种化合物;其中:Ar代表可能具有除了-(A-B)基团之外的取代基的芳香环;n为大于等于1的整数;A代表从单键、烷基基团、-O-、-S-、-C(=O)-、-S(=O)-、-S(=O)2-和OS(=O)2-中选取的任意一个或两个以上成员的组合,但不包括-C(=O)O-;B代表含有4个或更多碳原子的烃基团的基团,当n大于等于2时,两个或更多个-(A-B)基团可以相同或不同;M+代表有机离子。
  • 一种卤代烷烃硫醚化和硫代羰基化的合成方法
    申请人:安徽农业大学
    公开号:CN113511991B
    公开(公告)日:2022-05-20
    本发明涉及有机合成技术领域,具体涉及一种卤代烷烃醚化和代羰基化的合成方法;利用3‑甲丙酸甲酯生物作为化试剂,实现卤代烷烃醚化和羰基化;利用IPrCuCl做催化剂,实现醚化;在一氧化碳存在下,利用IPrCuCl和双杨酰胺乙基共催化获得酯。该化试剂容易合成,反应条件比较温和,实用性强。本发明避免使用强烈气味、高毒性、环境污染的醇,具有良好的官能团耐受性和优异的收率与纯度,且不需要苛刻的反应条件,适合工业化生产。
  • ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE COMPOSITION
    申请人:TSUCHIMURA Tomotaka
    公开号:US20110171577A1
    公开(公告)日:2011-07-14
    An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes any of the compounds of general formula (I) below; wherein: Ar represents an aromatic ring that may have a substituent other than the -(A-B) groups; n is an integer of 1 or greater; A represents any one, or a combination of two or more members selected from a single bond, an alkylene group, —O—, —S—, —C(═O)—, —S(═O)—, —S(═O) 2 — and —OS(═O) 2 —, provided that —C(═O)O— is excluded; B represents a group containing a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms wherein either a tertiary or a quaternary carbon atom is contained, when n is 2 or greater, the two or more -(A-B) groups may be identical to or different from each other; and M + represents an organic onium ion.
    一种感光射线敏感或辐射敏感的树脂组合物包括下列通式(I)中的任何一种化合物;其中:Ar代表可能具有除了-(A-B)基团以外的取代基的芳香环;n是大于等于1的整数;A代表从单键、烷基、—O—、—S—、—C(═O)—、—S(═O)—、—S(═O)2—和—OS(═O)2—中任意选择一个或两个或两个以上成员的组合,但不包括—C(═O)O—;B代表一个含有4个或更多碳原子的烃基团,其中包含一个三级或季级碳原子,当n大于等于2时,两个或两个以上的-(A-B)基团可以相同或不同;M+代表有机阳离子。
  • NOVEL CYCLOSPORINS
    申请人:C-Chem AG
    公开号:EP1086124A1
    公开(公告)日:2001-03-28
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