N-hex-4-enyl-N-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3-dioxolan-2-ylethyl)amine

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二氧戊环
• 英文名称: N-hex-4-enyl-N-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3-dioxolan-2-ylethyl)amine
• 英文别名: (E)-N-[1-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3-dioxolan-2-yl)ethyl]hex-4-en-1-amine
• 化学式: C₁₅H₂₉NO₂
• 分子量: 255.401
• InChiKey: BHFUJXVUSKEOMA-BQYQJAHWSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.87
• 拓扑面积：
  30.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-hex-4-enyl-N-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3-dioxolan-2-ylethyl)amine 、 2-氯丁酰氯 在 sodium carbonate 作用下， 以 水 、 苯 为溶剂， 生成 N-hex-4-enyl-N-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3-dioxolan-2-ylethyl)-α-chlorobutanamide
  参考文献：
  名称：

  Dioxolane substituted amides

  摘要：

  这项发明揭示了新的化合物，其化学式为 ##STR1## 其中 R.sup.1 选自氢和烷基; X 为卤素; R.sup.2 选自烷基、烯基和炔基; n 为整数1或2; 而 R.sup.3、R.sup.4、R.sup.5 和 R.sup.6 各自选自氢和烷基。进一步披露了利用上述化合物的除草剂组合物。

  公开号：

  US04113464A1
• 作为产物：
  描述：

  2-Bromoethyl-4,4,5,5-tetramethyl-1,3-dioxolane 、 (E)-hex-4-enylamine 在 sodium hydroxide 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 N-hex-4-enyl-N-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3-dioxolan-2-ylethyl)amine
  参考文献：
  名称：

  Dioxolane substituted amides

  摘要：

  这项发明揭示了新的化合物，其化学式为 ##STR1## 其中 R.sup.1 选自氢和烷基; X 为卤素; R.sup.2 选自烷基、烯基和炔基; n 为整数1或2; 而 R.sup.3、R.sup.4、R.sup.5 和 R.sup.6 各自选自氢和烷基。进一步披露了利用上述化合物的除草剂组合物。

  公开号：

  US04113464A1

文献信息

• US4113464A
  申请人：——

  公开号：US4113464A

  公开（公告）日：1978-09-12
• Dioxolane substituted amides
  申请人：Velsicol Chemical Company

  公开号：US04113464A1

  公开（公告）日：1978-09-12

  This invention discloses new compounds of the formula ##STR1## wherein R.sup.1 is selected from the group consisting of hydrogen and alkyl; X is halogen; R.sup.2 is selected from the group consisting of alkyl, alkenyl and alkynyl; n is the integer 1 or 2; and R.sup.3, R.sup.4, R.sup.5 and R.sup.6 are each selected from the group consisting of hydrogen and alkyl. Further disclosed are herbicidal compositions utilizing the aforedescribed compounds.

  这项发明揭示了新的化合物，其化学式为 ##STR1## 其中 R.sup.1 选自氢和烷基; X 为卤素; R.sup.2 选自烷基、烯基和炔基; n 为整数1或2; 而 R.sup.3、R.sup.4、R.sup.5 和 R.sup.6 各自选自氢和烷基。进一步披露了利用上述化合物的除草剂组合物。