5-(3,5-dimethyl-4-(2-oxo-2-(2-phenylpropan-2-yloxy)ethoxy)phenyl)-5H-dibenzo[b,d]thiophenium 4-((4R)-4-((8R,9S,10S,13R,14S,17R)-10,13-dimethyl-3,7,12-trioxohexadecahydro-1H-cyclopenta[a]phenanthren-17-yl)pentanoyloxy)-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 类固醇和类固醇衍生物
• 英文名称: 5-(3,5-dimethyl-4-(2-oxo-2-(2-phenylpropan-2-yloxy)ethoxy)phenyl)-5H-dibenzo[b,d]thiophenium 4-((4R)-4-((8R,9S,10S,13R,14S,17R)-10,13-dimethyl-3,7,12-trioxohexadecahydro-1H-cyclopenta[a]phenanthren-17-yl)pentanoyloxy)-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonate
• 英文别名: 4-[(4R)-4-[(8R,9S,10S,13R,14S,17R)-10,13-dimethyl-3,7,12-trioxo-1,2,4,5,6,8,9,11,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl]pentanoyl]oxy-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonate;2-phenylpropan-2-yl 2-(4-dibenzothiophen-5-ium-5-yl-2,6-dimethylphenoxy)acetate
• 化学式: C₂₈H₃₇F₄O₈S*C₃₁H₂₉O₃S
• 分子量: 1091.29
• InChiKey: LCHYLZGIIOTNCO-SMLUIRJWSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  12.9
• 重原子数：
  76
• 可旋转键数：
  16
• 环数：
  9.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.51
• 拓扑面积：
  180
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  15

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-苯基-2-丙醇 在 吡啶 、 caesium carbonate 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 乙腈 为溶剂， 生成 5-(3,5-dimethyl-4-(2-oxo-2-(2-phenylpropan-2-yloxy)ethoxy)phenyl)-5H-dibenzo[b,d]thiophenium 4-((4R)-4-((8R,9S,10S,13R,14S,17R)-10,13-dimethyl-3,7,12-trioxohexadecahydro-1H-cyclopenta[a]phenanthren-17-yl)pentanoyloxy)-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Acid generators and photoresists comprising same

  摘要：

  提供了一种特别适用于光刻胶组分的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。

  公开号：

  US08945814B2

文献信息

• Acid generators and photoresists comprising same
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US08945814B2

  公开（公告）日：2015-02-03

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一种特别适用于光刻胶组分的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• PHOTORESISTS COMPRISING MULTIPLE ACID GENERATOR COMPOUNDS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20140080062A1

  公开（公告）日：2014-03-20

  The present invention relates to new photoresist compositions that comprise (a) a polymer comprising an acid generator bonded thereto; and (b) an acid generator compound that is not bonded to the polymer and that comprises one or more acid-labile groups.

  本发明涉及一种新的光刻胶组合物，其包括（a）聚合物，其中与之结合的是酸发生剂；以及（b）未与聚合物结合且包含一个或多个酸敏感基团的酸发生剂化合物。
• ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US20160002199A1

  公开（公告）日：2016-01-07

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。