并行研究是对我的反应进行3的Sn -和Me 3
硅-朝向在六甲基
磷酰胺(HMPA)作为溶剂的芳族和杂芳族基片的离子。据发现,我3
硅-离子是更具反应性的,并且因此选择性较低比我3的Sn -离子。在HMPA,披和PhBr与我反应3的Sn -通过
HME路径离子。PhCl也通过
HME反应发生反应,但是在光刺激下,S RN 1机制与
HME过程竞争。与PHF作为底物中,Me 3 Sn的-离子可能通过高价
锡物种提供了(4-
氟苯基)
三甲基锡烷。在辐射下,S RN 1机制与高价
锡物种的形成同时进行。我3
硅-离子,在另一方面,与PHX反应(X =
氯,
溴,I),得到本位取代产物,推测是通过一个高价
硅物种的中间性。PHF得到,在反应时与我3
硅-离子,ö -和p与一起-fluorotrimethylsilylbenzenes本位取代产物PhSiMe 3。一种新的类型的亲核取代机理发生与我3
硅-在与芳族和杂芳族底物反应