barium pentafluorobenzene-sulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: barium pentafluorobenzene-sulfonate
• 化学式: Ba*2C₆F₅O₃S
• 分子量: 631.574
• InChiKey: COYFNRWZQQSNHM-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.91
• 重原子数：
  16.0
• 可旋转键数：
  1.0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  57.2
• 氢给体数：
  0.0
• 氢受体数：
  3.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  barium pentafluorobenzene-sulfonate 、 4-hydroxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulphonium chloride 以 水 、 丙酮 为溶剂， 生成 4-hydroxy-3,5-dimethyl phenyl dimethyl sulfonium tris-perfluoromethane sulfonmethide
  参考文献：
  名称：

  Photoresist composition for deep ultraviolet lithography comprising a mixture of photoactive compounds

  摘要：

  本发明涉及一种新型光刻胶组合物，可以用水性碱性溶液进行显影，并且能够在深紫外曝光波长下成像。该发明还涉及一种成像新型光刻胶的方法以及新型光酸发生剂。

  公开号：

  US20030235782A1
• 作为产物：
  描述：

  2,3,4,5,6-五氟苯磺酰氯 生成 barium pentafluorobenzene-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.2, 1.3.1, page 76 - 99

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.2, 1.3.1, page 76 - 99
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Nield, E.; Stephens, R.; Tatlow, J. C., Journal of the Chemical Society
  作者：Nield, E.、Stephens, R.、Tatlow, J. C.

  DOI：——

  日期：——
• Photoresist composition for deep ultraviolet lithography comprising a mixture of photoactive compounds
  申请人：——

  公开号：US20030235782A1

  公开（公告）日：2003-12-25

  The present invention relates to a novel photoresist composition that can be developed with an aqueous alkaline solution, and is capable of being imaged at exposure wavelengths in the deep ultraviolet. The invention also relates to a process for imaging the novel photoresist as well as novel photoacid generators.

  本发明涉及一种新型光刻胶组合物，可以用水性碱性溶液进行显影，并且能够在深紫外曝光波长下成像。该发明还涉及一种成像新型光刻胶的方法以及新型光酸发生剂。