受激发射损耗(STED)显微镜的发展代表了细胞和
分子生物学的重大突破。然而,激发和STED所需的强激光束通常会引起荧光分子探针的快速光致漂白,这大大限制了STED显微镜的性能和实用性。我们在此开发了一种耐光荧光
染料C-Naphox作为STED成像的实用工具。与使用一个激发λ = 405或488nm的在质子溶剂激光,C-Naphox表现出强烈的红色/橙色荧光(量子产率Φ ˚F > 0.7)具有大的斯托克斯位移(大约5900厘米-1)。即使使用Xe灯(300W,在照射后λ EX= 460 nm,半峰全宽(FWHM)= 11 nm)持续12小时,C-Naphox保持99.5%完好无损。C-Naphox的高光阻允许对HeLa细胞进行重复STED成像。即使记录了50张STED图像,初始荧光强度的83%仍然存在。