dimethyl phenoxy ethoxy silane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: dimethyl phenoxy ethoxy silane
• 英文别名: Dimethyl-ethoxyphenoxysilane；ethoxy-dimethyl-phenoxysilane
• 化学式: C₁₀H₁₆O₂Si
• 分子量: 196.321
• InChiKey: IFSRJASDTDZHJE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  dimethyl phenoxy ethoxy silane 在 水 作用下， 生成 1,1,3,3-四甲基-1,3-二苯基二硅氧烷
  参考文献：
  名称：

  1,1,3,3-四甲基-1,3-二苯基二硅氧烷与各种有机硅化合物的混合物在 T = (308.15 至 328.15) K 时的体积和折光性能

  摘要：

  测定 1,1,3,3-四甲基-1,3-二苯基二硅氧烷与 2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷、2,4,6,8-四甲基-2、 4,6,8-四乙烯基环四硅氧烷、1,3,5-三甲基-1,3,5-三(3,3,3-三氟丙基)环三硅氧烷和1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷使用 DMA4500/RXA170 组合系统在不同温度（T = 308.15、313.15、318.15、323.15 和 328.15 K）和大气压下。使用这些数据计算了过量摩尔体积、无限稀释时的部分过量体积、等压热膨胀系数、过量折射率、洛伦兹-洛伦兹摩尔折射和摩尔折射偏差。结果已被纳入 Redlich-Kister 方程并用于估计二元相互作用参数和标准偏差。四种二元系统在不同温度下的无限稀释部分过剩体积和过剩折射率分别为...

  DOI：

  10.1021/acs.jced.5b00820
• 作为产物：
  描述：

  二乙氧基二甲基硅烷 、 氯苯 在 sodium 作用下， 生成 dimethyl phenoxy ethoxy silane
  参考文献：
  名称：

  1,1,3,3-四甲基-1,3-二苯基二硅氧烷与各种有机硅化合物的混合物在 T = (308.15 至 328.15) K 时的体积和折光性能

  摘要：

  测定 1,1,3,3-四甲基-1,3-二苯基二硅氧烷与 2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷、2,4,6,8-四甲基-2、 4,6,8-四乙烯基环四硅氧烷、1,3,5-三甲基-1,3,5-三(3,3,3-三氟丙基)环三硅氧烷和1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷使用 DMA4500/RXA170 组合系统在不同温度（T = 308.15、313.15、318.15、323.15 和 328.15 K）和大气压下。使用这些数据计算了过量摩尔体积、无限稀释时的部分过量体积、等压热膨胀系数、过量折射率、洛伦兹-洛伦兹摩尔折射和摩尔折射偏差。结果已被纳入 Redlich-Kister 方程并用于估计二元相互作用参数和标准偏差。四种二元系统在不同温度下的无限稀释部分过剩体积和过剩折射率分别为...

  DOI：

  10.1021/acs.jced.5b00820

文献信息

• Volumetric and Refractive Properties of the Mixtures of 1,1,3,3-Tetramethyl-1,3-diphenyldisiloxane with Various Organosilicon Compounds at <i>T</i> = (308.15 to 328.15) K
  作者：Hong Dong、Lijiao Yu、Yuqian Hu、Chuan Wu

  DOI：10.1021/acs.jced.5b00820

  日期：2016.4.14

  thermal expansion, excess refraction indices, Lorentz–Lorenz molar refraction, and the deviation in molar refraction have been calculated using these data. The results have been incorporated into the Redlich–Kister equation and used to estimate the binary interaction parameters and standard deviation. The values of partial excess volume at infinite dilution and excess refraction indices for the four binary

  测定 1,1,3,3-四甲基-1,3-二苯基二硅氧烷与 2,4,6,8-四甲基环四硅氧烷、2,4,6,8-四甲基-2、 4,6,8-四乙烯基环四硅氧烷、1,3,5-三甲基-1,3,5-三(3,3,3-三氟丙基)环三硅氧烷和1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷使用 DMA4500/RXA170 组合系统在不同温度（T = 308.15、313.15、318.15、323.15 和 328.15 K）和大气压下。使用这些数据计算了过量摩尔体积、无限稀释时的部分过量体积、等压热膨胀系数、过量折射率、洛伦兹-洛伦兹摩尔折射和摩尔折射偏差。结果已被纳入 Redlich-Kister 方程并用于估计二元相互作用参数和标准偏差。四种二元系统在不同温度下的无限稀释部分过剩体积和过剩折射率分别为...