1,5-二羟基蒽酮 | 60423-24-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 蒽
• 中文名称: 1,5-二羟基蒽酮
• 英文名称: 1,5-dihydroxy-anthrone
• 英文别名: 1,5-Dihydroxy-anthron；1,5-dihydroxyanthrone；1,5-dihydroxy-10H-anthracen-9-one
• CAS: 60423-24-7
• 化学式: C₁₄H₁₀O₃
• 分子量: 226.232
• InChiKey: MYYRAEQRSBLQQO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  57.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,5-二羟基蒽酮 以5%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  GORELIK, M. V.;SHTEJMAN, V. YA.;TRDATYAN, V. A.;TAFEENKO, V. A.;MIXAJLOVA+, ZH. ORGAN. XIMII, 26,(1990) N, S. 652-664

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  蒽绛酚 在 苯基膦 作用下， 反应 72.0h， 以17%的产率得到1,5-二羟基蒽酮
  参考文献：
  名称：

  用苯基膦还原芳香酮或硫酮

  摘要：

  某些芳族酮或硫酮与苯基膦反应并随后加入二乙基二硫化物得到酮和 S,S-二乙基苯基二硫代膦酸酯或 S,S-二乙基苯基膦酰三硫代酯的还原产物。膦部分的可能中间体被认为是苯基亚膦基[PhP=O]或苯基亚膦硫基[PhP=S]。10,10'-联蒽酮和Δ10,10'-联蒽酮的还原分别导致碳-碳单键和双键的断裂和羰基的还原。

  DOI：

  10.1246/bcsj.58.2577

文献信息

• Anthracene derivatives
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05498748A1

  公开（公告）日：1996-03-12

  An anthracene derivative having at least two groups of the formula: ##STR1## wherein R.sup.1 and R.sup.2 are independently hydrogen, alkyl, alkoxy, etc., is particular effective for forming an antireflection coating for preventing multiple reflection of exposing light from a highly reflective substrate, etc.

  一种蒽衍生物，其至少具有两个具有以下结构的基团：##STR1##其中R.sup.1和R.sup.2分别独立表示氢、烷基、烷氧基等，特别有效地用于形成用于防止高反射基底上暴露光的多次反射的防反射涂层。
• Process for forming a pattern on a semiconductor substrate using a deep
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05677112A1

  公开（公告）日：1997-10-14

  A deep ultraviolet absorbent comprising at least one compound having one or more glycidyl groups in the molecule and at least one anthracene derivative, and a solvent capable of dissolving these compounds is effective for preventing reflection of deep ultraviolet light from a substrate during formation of resist pattern, resulting in forming ultra-fine patterns without causing notching and halation.

  一种深紫外吸收剂，包括至少一种分子中含有一个或多个环氧丙烷基团和至少一种蒽衍生物的化合物，并且具有溶解这些化合物的溶剂。在形成光刻图案期间，该深紫外吸收剂能够有效地防止底片反射深紫外光，从而形成超细图案而不会导致缺口和光晕。
• Deep ultraviolet absorbent composition
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05576359A1

  公开（公告）日：1996-11-19

  A deep ultraviolet absorbent comprising at least one compound having one or more glycidyl groups in the molecule and at least one anthracene derivative, and a solvent capable of dissolving these compounds is effective for preventing reflection of deep ultraviolet light from a substrate during formation of resist pattern, resulting in forming ultra-fine patterns without causing notching and halation.

  一种深紫外吸收剂，包括至少一种分子中含有一个或多个环氧丙烷基团和至少一种蒽衍生物的化合物，以及一种能够溶解这些化合物的溶剂，在形成光阻图案期间有效防止基板反射深紫外光，从而形成超细图案而不会导致刻痕和光晕。
• Goodall; Perkin, Journal of the Chemical Society, 1924, vol. 125, p. 473
  作者：Goodall、Perkin

  DOI：——

  日期：——
• Deep ultraviolet absorbent and its use in pattern formation
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES LTD

  公开号：EP0636941B1

  公开（公告）日：1996-03-20