【課題】良好なCD均一性(CDU)レジストパターンを製造できる化合物、樹脂及び該樹脂を含有するレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物。[式中、Q1及びQ2は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。R1及びR2は、それぞれ水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。zは0〜6のいずれかの整数を表す。X1及びX2は、それぞれ独立に、*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−又は*−O−を表す。L1は、単結合又は置換基を有してもよい炭化水素基を表す。A1は、置換基を有してもよいラクトン環を表す。L2は、単結合又はアルカンジイル基を表す。R3はフッ素化炭化水素基を表す。Z+は、有機カチオンを表す。]【選択図】なし
这项技术旨在提供能够制造良好的CD均一性(CDU)图案的化合物、
树脂以及含有该
树脂的光刻胶组合物。解决方案是一种由式(I)表示的盐、酸发生剂和包含它们的光刻胶组合物。【式中,Q1和Q2分别表示
氟原子或
全氟烷基。R1和R2分别表示氢原子、
氟原子或
全氟烷基。z表示0到6之间的整数。X1和X2分别独立地表示*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−或*−O−。L1表示可以具有取代基的碳氢基。A1表示可以具有取代基的内酯环。
L2表示单键或烷基基。R3表示
氟化碳氢基。Z+表示有机阳离子。】【选择图】无