2,6-双(乙氧基甲基)-4-甲基苯酚 | 215253-59-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 2,6-双(乙氧基甲基)-4-甲基苯酚
• 英文名称: 2,6-bis-ethoxymethyl-4-methyl-phenol
• 英文别名: 2-Hydroxy-5-methyl-1.3-bis-aethoxymethyl-benzol；2,6-Bis-aethoxymethyl-4-methyl-phenol；2,6-Bis(ethoxymethyl)-4-methylphenol
• CAS: 215253-59-1
• 化学式: C₁₃H₂₀O₃
• 分子量: 224.3
• InChiKey: ILTGLWXJMQLBBI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.54
• 拓扑面积：
  38.7
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,6-双(溴甲基)-4-甲基苯酚 、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 生成 2,6-双(乙氧基甲基)-4-甲基苯酚
  参考文献：
  名称：

  van der Meer, Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1944, vol. 63, p. 157,168

  摘要：

  DOI：

文献信息

• [EN] COMPOSITION FOR FORMING UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, UNDERLAYER FILM FOR LITHOGRAPHY, PATTERN FORMING METHOD AND PURIFICATION METHOD<br/>[FR] COMPOSITION POUR FORMER UN FILM DE SOUS-COUCHE POUR LA LITHOGRAPHIE, FILM DE SOUS-COUCHE POUR LA LITHOGRAPHIE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION<br/>[JA] リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法および精製方法
  申请人：MITSUBISHI GAS CHEMICAL CO

  公开号：WO2020241576A1

  公开（公告）日：2020-12-03

  本発明の課題は、段差基板上での平坦化性能に優れ、微細ホールパターンへの埋め込み性能が良好かつ成膜後のウェハ表面が平坦化される特徴を有するリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物を提供することである。前記課題は、下記の組成物よって解決することができる。　ａ：下記式（１－０）で表されるアラルキル構造を有するオリゴマー、及び　ｂ：溶媒 を含むリソグラフィー用下層膜形成用組成物。 （式中、　Ａｒ０はフェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、フェナンスリレン基、ピリレン基、フルオリレン基、ビフェニレン基、ジフェニルメチレン基又はターフェニレン基を表し、　Ｒ０はＡｒ０の置換基であり、各々独立に、同一の基でも異なる基でもよく、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６～３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２～３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２～３０のアルキニル基、置換基を有していてもよい炭素数１～３０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数１～３０のアシル基、置換基を有していてもよい炭素数１～３０のカルボキシル基を含む基、置換基を有していてもよい炭素数０～３０のアミノ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、チオール基、又は複素環基を表し、　Ｘは直鎖あるい分岐のアルキレン基を表し　ｎは１～５００の整数を示し、　ｒは１～３の整数を示し、　ｐは正の整数を表し、　ｑは正の整数を表す。）