triphenylsulfonium 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylpropane-1-sulfonate | 1240248-56-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: triphenylsulfonium 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylpropane-1-sulfonate
• 英文别名: Triphenylsulfonium 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylpropane-1-sulfonate；3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-(trifluoromethyl)propane-1-sulfonate;triphenylsulfanium
• CAS: 1240248-56-9
• 化学式: C₄H₃F₆O₄S*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 524.505
• InChiKey: YIMMHGTWPRCBLU-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.17
• 重原子数：
  34
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.18
• 拓扑面积：
  86.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triphenylsulfonium 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylpropane-1-sulfonate 、 1-金刚烷乙酰氯 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 120.0h， 以48%的产率得到triphenylsulfonium 2-(2-adamantan-1-ylacetoxy)-3,3,3-trifluoro-2-trifluoromethylpropane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  신규 술폰산염 및 그의 유도체, 광산발생제 및 이것을 이용한 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供了对化学放大抗蚀剂材料有效的新型磺酸盐和光发生剂，它们在抗蚀剂溶剂和树脂中具有足够高的溶解度（相容性）、良好的保存稳定性、PED稳定性、更宽的焦深、良好的灵敏度，特别是良好的分辨率和图案轮廓形状，以及使用它们形成抗蚀剂材料、光掩膜坯料和图案的方法。本发明提供了由下式 2 表示的磺酸盐。<方案2>（式中，R1代表碳数为1至50的直链、支链或环状单价烃基，其中可包括一个杂原子，M+代表阳离子）。

  公开号：

  KR101532103B1
• 作为产物：
  描述：

  氯苯 在 三甲基氯硅烷 、 sodium hydrogensulfite 、 sodium hydroxide 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 15.5h， 生成 triphenylsulfonium 3,3,3-trifluoro-2-hydroxy-2-trifluoromethylpropane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  신규 술폰산염 및 그의 유도체, 광산발생제 및 이것을 이용한 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供了对化学放大抗蚀剂材料有效的新型磺酸盐和光发生剂，它们在抗蚀剂溶剂和树脂中具有足够高的溶解度（相容性）、良好的保存稳定性、PED稳定性、更宽的焦深、良好的灵敏度，特别是良好的分辨率和图案轮廓形状，以及使用它们形成抗蚀剂材料、光掩膜坯料和图案的方法。本发明提供了由下式 2 表示的磺酸盐。<方案2>（式中，R1代表碳数为1至50的直链、支链或环状单价烃基，其中可包括一个杂原子，M+代表阳离子）。

  公开号：

  KR101532103B1

文献信息

• PREPARATION OF 2,2-BIS (FLUOROALKYL) OXIRANE AND PREPARATION OF PHOTOACID GENERATOR THEREFROM
  申请人：SAGEHASHI Masayoshi

  公开号：US20130005997A1

  公开（公告）日：2013-01-03

  A 2,2-bis(fluoroalkyl)oxirane (A) is prepared by reacting a fluorinated alcohol (1) with a chlorinating, brominating or sulfonylating agent under basic conditions to form an oxirane precursor (2) and subjecting the oxirane precursor to ring closure under basic conditions. R 1 and R 2 are fluoroalkyl groups, R 3 and R 4 are hydrogen or monovalent hydrocarbon groups, X is chlorine, bromine or —OSO 2 R 5 group, and R 5 is alkyl or aryl.

  一种2,2-双(氟烷基)环氧烷（A）是通过将氟化醇（1）与氯化、溴化或磺化试剂在碱性条件下反应以形成环氧烷前体（2），然后将环氧烷前体在碱性条件下进行环闭合制备的。R1和R2是氟烷基，R3和R4是氢或一价碳氢基团，X是氯、溴或—OSO2R5基团，R5是烷基或芳基。
• NOVEL SULFONATE AND ITS DERIVATIVE, PHOTOSENSITIVE ACID GENERATOR, AND RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20100209827A1

  公开（公告）日：2010-08-19

  There is disclosed a sulfonate shown by the following general formula (2). R 1 —COOC(CF 3 ) 2 —CH 2 SO 3 − M + (2) (In the formula, R 1 represents a linear, a branched, or a cyclic monovalent hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms optionally containing a hetero atom. M + represents a cation.) There can be provided: a novel sulfonate which is effective for a chemically amplified resist composition having a sufficiently high solubility (compatibility) in a resist solvent and a resin, a good storage stability, a PED stability, a further wider depth of focus, a good sensitivity, in particular a high resolution and a good pattern profile form; a photosensitive acid generator; a resist composition using this; a photomask blank, and a patterning process.

  本发明揭示了一种磺酸盐，其通式如下（2）所示。 R1-COOC（CF3）2-CH2SO3-M+（2）（其中，R1表示具有1至50个碳原子的线性、分支或环状单价碳氢基团，可选含有杂原子。M+表示一个阳离子）。本发明可以提供：一种新型磺酸盐，其在抗蚀剂溶剂和树脂中具有足够高的溶解度（相容性），良好的储存稳定性，PED稳定性，进一步扩大焦点深度，良好的灵敏度，特别是高分辨率和良好的图案轮廓形态；一种光敏酸发生剂；使用该组合物的抗蚀剂组合物；一种光掩膜空白，以及一种制图工艺。
• Sulfonate and its derivative, photosensitive acid generator, and resist composition and patterning process using the same
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US08283104B2

  公开（公告）日：2012-10-09

  There is disclosed a sulfonate shown by the following general formula (2). R1—COOC(CF3)2—CH2SO3−M+  (2) (In the formula, R1 represents a linear, a branched, or a cyclic monovalent hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms optionally containing a hetero atom. M+ represents a cation.) There can be provided: a novel sulfonate which is effective for a chemically amplified resist composition having a sufficiently high solubility (compatibility) in a resist solvent and a resin, a good storage stability, a PED stability, a further wider depth of focus, a good sensitivity, in particular a high resolution and a good pattern profile form; a photosensitive acid generator; a resist composition using this; a photomask blank, and a patterning process.

  本发明公开了一种磺酸盐，其通式如下（2）所示。R1-COOC（CF3）2-CH2SO3-M+  （2）（其中，R1代表具有1至50个碳原子的线性、支链或环状单价碳氢基团，可选含有杂原子。M+代表阳离子。）可以提供：一种新型的磺酸盐，其对于具有足够高的可溶性（相容性）在抗蚀剂溶剂和树脂中具有高效性，具有良好的储存稳定性、PED稳定性、更广泛的焦点深度、良好的灵敏度，特别是高分辨率和良好的图案轮廓形状的化学放大抗蚀剂组成物；一种光敏酸发生剂；使用此种组成物的抗蚀剂组成物；光掩膜空白和图案化过程。
• US8283104B2
  申请人：——

  公开号：US8283104B2

  公开（公告）日：2012-10-09
• 신규 술폰산염 및 그의 유도체, 광산발생제 및 이것을 이용한 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤(519980708960)

  公开号：KR101532103B1

  公开（公告）日：2015-06-26

  본 발명은 레지스트 용제 및 수지에 대한 용해성(상용성)이 충분히 높고, 보존 안정성이 양호하고, PED 안정성이 있으며, 촛점 심도가 보다 넓고, 감도가 양호하고, 특히 해상성과 패턴 프로파일 형상이 우수한 화학 증폭형 레지스트 재료를 제공하는 화학 증폭형 레지스트 재료용으로서 효과적인 신규 술폰산염과 광산발생제 및 이것을 이용한 레지스트 재료, 포토마스크 블랭크 및 패턴 형성 방법을 제공한다. 본 발명은 하기 화학식 2로 표시되는 술폰산염을 제공한다. <화학식 2> (식 중, R1은 헤테로 원자를 포함할 수도 있는 탄소수 1 내지 50의 직쇄상, 분지상 또는 환상의 1가 탄화수소기를 나타내고, M+는 양이온을 나타낸다.)

  本发明提供了对化学放大抗蚀剂材料有效的新型磺酸盐和光发生剂，它们在抗蚀剂溶剂和树脂中具有足够高的溶解度（相容性）、良好的保存稳定性、PED稳定性、更宽的焦深、良好的灵敏度，特别是良好的分辨率和图案轮廓形状，以及使用它们形成抗蚀剂材料、光掩膜坯料和图案的方法。本发明提供了由下式 2 表示的磺酸盐。<方案2>（式中，R1代表碳数为1至50的直链、支链或环状单价烃基，其中可包括一个杂原子，M+代表阳离子）。