Butyl-p-vinylbenzoate | 2715-41-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Butyl-p-vinylbenzoate
• 英文别名: butyl 4-ethenylbenzoate
• CAS: 2715-41-5
• 化学式: C₁₃H₁₆O₂
• 分子量: 204.269
• InChiKey: QXRUSZKJUVYKLM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  303.4±21.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.007±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.31
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  乙烯基溴化镁 、 n-butyl 4-iodobenzoate 在 tris-(dibenzylideneacetone)dipalladium(0) 、 三(2-呋喃基)膦 indium(III) chloride 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 3.0h， 以94%的产率得到Butyl-p-vinylbenzoate
  参考文献：
  名称：

  在水介质中有机铟与芳基卤化物的钯催化交叉偶联反应。

  摘要：

  [反应：见正文]二芳基，二乙烯基和二烷基铟在水性介质中证明是稳定的，并与芳基卤化物在THF水溶液中进行钯催化的交叉偶联反应。在钯催化下，在水性介质中，用三氯化铟和两个等摩尔量的苯基格氏试剂生成的二苯基铟化合物处理3-碘苯酚，可得到相应的偶联产物，收率很高。二乙烯基铟和二乙基铟可在水存在下用于偶联反应。包括羟基和甲酰基在内的各种官能团均与该反应相容。

  DOI：

  10.1021/ol015975i

文献信息

• An Improved Protocol for Palladium-Catalyzed Alkoxycarbonylations of Aryl Chlorides with Alkyl Formates
  作者：Thomas Schareina、Alexander Zapf、Alain Cotté、Matthias Gotta、Matthias Beller

  DOI：10.1002/adsc.201000047

  日期：——

  The palladium‐catalyzed alkoxycarbonylation of aryl and heteroaryl halides using butyl formate has been investigated. In the presence of palladium(II) acetate/n‐butylbis(1‐adamantyl)phosphine (L1), and 1,8‐diazabicyclo[5.4.0]undec‐7‐ene (DBU) as base for the first time non‐activated chloroarenes can be conveniently carbonylated in good yields.

  已经研究了使用甲酸丁酯对芳基和杂芳基卤化物进行钯催化的烷氧基羰基化反应。在乙酸钯（II）/正丁基双（1-金刚烷基）膦（L1）和1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯（DBU）的存在下首次出现活化的氯代芳烃可以方便地以高收率羰基化。
• [EN] LATENT ACIDS AND THEIR USE<br/>[FR] ACIDES LATENTS ET LEUR UTILISATION
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2011104127A1

  公开（公告）日：2011-09-01

  The invention pertains to a compound generating an acid of the formula (I) or (II), for instance corresponding sulfonium and iodonium salts, as well as corresponding sulfonyloximes, Formula (I) and Formula (II), wherein X is CH2 or CO; Y is O, NR4, S, O(CO), O(CO)O, O(CO)NR4, OSO2, O(CS), or O(CS)NR4; R1 is for example C1-C18alkyl, C1-C10haloalkyl, C2-C12alkenyl, C4-C30cycloalkenyl, phenyl-C1-C3-alkyl, C3-C30cycloalkyl, C3-C30cycloalkyl-C1-C18alkyl, interrupted C2-C18alkyl, interrupted C3-C30cycloalkyl, interrupted C3-C30cycloalkyl-C1-C18alkyl, interrupted C4-C30cycloalkenyl, phenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl, biphenylyl, fluorenyl or heteroaryl, all unsubstituted or are substituted; or R1 is NR12R13; R2 and R3 are for example C3-C30cycloalkylene, C3-C30cycloalkyl-C1-C18alkylene, C1-C18alkylene, C1-C10haloalkylene, C2-C12alkenylene, C4-C30cycloalkenylene, phenylene, naphthylene, anthracylene, phenanthrylene, biphenylene or heteroarylene; all unsubstituted or substituted; R4 is for example C3-C30cycloalkyl, C3-C30cycloalkyl-C1-C18alkyl, C1-C18alkyl, C1-C10haloalkyl, C2-C12alkenyl, C4-C30cycloalkenyl, phenyl-C1-C3-alkyl; R12 and R13 are for example C3-C30cycloalkyl, C3-C30cycloalkyl-C1-C18alkyl, C1-C18alkyl, C1-C10haloalkyl, C2-C12alkenyl, C4-C30cycloalkenyl, phenyl-C1-C3-alkyl, Ar, (CO)R15, (CO)OR15 or SO2R15; and Ar is phenyl, biphenylyl, fluorenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl or heteroaryl, all unsubstituted or substituted.

  该发明涉及一种生成式(I)或(II)的酸的化合物，例如相应的砜和碘砜盐，以及相应的砜酮肟，式(I)和式(II)，其中X为CH2或CO；Y为O、NR4、S、O(CO)、O(CO)O、O(CO)NR4、OSO2、O(CS)或O(CS)NR4；R1例如为C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯烃基、苯基-C1-C3-烷基、C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、中断的C2-C18烷基、中断的C3-C30环烷基、中断的C3-C30环烷基-C1-C18烷基、中断的C4-C30环烯烃基、苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基、芴基或杂环烯基，全部为未取代或取代；或R1为NR12R13；R2和R3例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯烃基、苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基或杂环烯基；全部为未取代或取代；R4例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯烃基、苯基-C1-C3-烷基；R12和R13例如为C3-C30环烷基、C3-C30环烷基-C1-C18烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12烯基、C4-C30环烯烃基、苯基-C1-C3-烷基、Ar、(CO)R15、(CO)OR15或SO2R15；Ar为苯基、联苯基、芴基、萘基、蒽基、菲基或杂环烯基，全部为未取代或取代。
• Composites
  申请人：Nippon Shiken Dental Co., Ltd.

  公开号：EP0211104A2

  公开（公告）日：1987-02-25

  Composites comprising (A) general formula (I), compound of [in the formula, R1 indicates either hydrogen or methyl group and R2 indicates hydrogen, alkyl radical with carbon number 1 5 to be possibly substituted with halogen, alkyleneoxide group with carbon mumber 2 - 4 to be possiblr substituted with hologen or -(CH2CH2O)nH group (n=integral number of 1-al to be poosibly substituted with either halogen or methyl gropl. (B) virtyl compounds and/or silane compounds, and optionally (C) free radical developing agent and/or light sensitizer have not only an excellent adhesiveness but anti-irritation and anti-harmfulness against tissue, pulp and the like, for teeth and dentin.

  复合材料包括 (A) 通式(I)，其化合物为 [式中，R1 表示氢或甲基，R2 表示氢、碳原子数为 1 5 的烷基（可能被卤素取代）、碳原子数为 2 - 4 的氧化亚烷基（可能被卤素取代）或-(CH2CH2O)nH 基（n=1-al 的整数）（可能被卤素或甲基取代）。 (B) 新戊二烯化合物和/或硅烷化合物，以及可选的 (C) 自由基显影剂和/或光敏剂，不仅具有优异的粘附性，而且对牙齿和牙本质的组织、牙髓等具有抗刺激性和抗伤害性。
• Verfahren zur Herstellung von bifunktionellen Z-Stilbenverbindungen, neue bifunktionelle Z-Stilbenverbindungen sowie die Verwendung der Z-Stilbenverbindungen zur Herstellung von Polymeren
  申请人：BAYER AG

  公开号：EP0391212A2

  公开（公告）日：1990-10-10

  Bifunktionelle, mindestens eine Z-konfigurierte Stilben­gruppierung enthaltende Stilbenverbindungen der Formel werden hergestellt, indem man Verbindungen der Formel mit einem Acetylen der Formel HC≡C-R⁴      (III), in Gegenwart eines Palladium-Katalysators und einer Base bei Temperaturen von 30 bis 160°C umsetzt, die erhalte­nen Verbindungen in Gegenwart einer Base in Verbindungen der Formel überführt, danach die Verbindungen der Formel (IV) mit Verbindungen der Formel in Gegenwart eines Palladium-Katalysators und einer Base bei Temperaturen von 30 bis 160°C umsetzt, anschließend die erhaltenen Acetylen-Verbindungen in Gegenwart von Katalysatoren mit Wasserstoff oder mit anderen Reduk­tionsmitteln zu Z-Stilbenverbindungen der Formel reduziert und die funktionellen Gruppen D und D¹ in die obengenannten funktionellen Gruppen Z und Y der Formel (I) in bekannter Weise überführt oder die Z-Stilbenverbindungen der Formel (VI) im Fall daß D und D¹ mindestens für ein Bromatom stehen mit Verbin­dungen der Formel H₂C=CHR⁷      (VII), in Gegenwart eines Palladium-Katalysators und einer Base bei Temperaturen von 30 bis 160°C umsetzt und die funk­tionellen Gruppen D, D¹ und D² in die funktionellen Gruppen Z und Y der Formel (I) in üblicher Weise über­führt oder die Verbindungen der Formel (IV) mit Verbindungen der Formel in Gegenwart eines Palladium-Katalysators und einer Base bei Temperaturen von 30 bis 160°C umsetzt, anschließend die erhaltenen Acetylenverbindungen in Gegenwart von Katalysatoren mit Wasserstoff oder mit anderen Re­duktionsmitteln zu entsprechenden Z-Stilbenverbindungen reduziert und danach die funktionellen Gruppen D in die funktionellen Gruppen Z und Y der Formel (I) in be­kannter Weise überführt.

  含有至少一个式中 Z 构型二苯乙烯基团的双官能团二苯乙烯化合物 通过将式 与式 HC≡C-R⁴ (III)、 在 30 至 160°C 的温度下，在钯催化剂和碱存在下，将生成的化合物在碱存在下转化为 式中化合物 然后将式 (IV) 化合物与式化合物反应 在钯催化剂和碱存在下，在 30 至 160°C 的温度下反应，然后在催化剂存在下用氢气或其他还原剂还原生成的炔化合物，得到式（IV）的 Z-二苯乙烯化合物。 用已知的方法将官能团 D 和 D¹ 转化为上述式 (I) 的官能团 Z 和 Y 或 在 D 和 D¹ 代表至少一个溴原子的情况下，将式（VI）的 Z-二苯乙烯化合物与式中的化合物反应 H₂C=CHR⁷ (VII)、 在钯催化剂和碱存在下，在 30 至 160°C 的温度下，按常规方法将官能团 D、D¹ 和 D² 转化为式 (I) 的官能团 Z 和 Y 或 将式（IV）化合物与式（IV）化合物反应 在钯催化剂和碱存在下，在 30 至 160°C 的温度下反应，然后在催化剂存在下用氢气或其他还原剂还原生成的炔化合物，得到相应的 Z-二苯乙烯化合物，然后按已知方式将官能团 D 转化为式（I）的官能团 Z 和 Y。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：CLARIANT INTERNATIONAL LTD.

  公开号：EP1143298A1

  公开（公告）日：2001-10-10

  A radiation sensitive composition useful as a photoresist containing a resin composition and a radiation sensitive material, wherein the resin composition comprises a mixture of two or more resins different from each other by at least 0.03 in refractive index or comprises a resin component of an alkali-soluble resin and a resin additive of a resin working as a dissolution inhibitor for the radiation sensitive composition, such as an acrylic polymer, a methacrylic polymer or a styrenic polymer. A dissolution rate in a 2.38 weight-% aqueous tetramethylammonium hydroxide solution of the radiation sensitive composition is preferably 5000 Å/min or less. Use of these resin compositions enable one to reduce the amount of the quinonediazide radiation sensitive agents to be used and obtain a radiation sensitive composition which has both high sensitivity and highly normalized film remaining characteristics.

  一种可用作光刻胶的辐射敏感性组合物，含有树脂组合物和辐射敏感性材料，其中树脂组合物包括两种或两种以上树脂的混合物，它们之间的折射率至少相差 0.03，或包括碱溶性树脂的树脂组分和作为辐射敏感性组合物溶解抑制剂的树脂添加剂，如丙烯酸聚合物、甲基丙烯酸聚合物或苯乙烯聚合物。辐射敏感组合物在 2.38 重量％的四甲基氢氧化铵水溶液中的溶解速率最好为 5000 Å/min 或更低。使用这些树脂组合物可以减少喹诺酮噻嗪类辐射敏感剂的用量，并获得既具有高敏感性又具有高度归一化薄膜残留特性的辐射敏感组合物。