phthalic acid divinyl ester | 46492-29-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: phthalic acid divinyl ester
• 英文别名: Phthalsaeure-divinylester；divinyl phthalate；bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate
• CAS: 46492-29-9
• 化学式: C₁₂H₁₀O₄
• 分子量: 218.209
• InChiKey: PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  340.4±38.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.158±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  phthalic acid divinyl ester 、 苯胺 在 sodium methylate 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 N-苯基邻苯二甲酸单酰胺
  参考文献：
  名称：

  一种植物生长调节剂的合成方法

  摘要：

  本发明公开一种植物生长调节剂的合成方法，包括以下步骤：1)式(I)所示的化合物、式(II)所示的化合物与第一碱性催化剂混合，经氨解反应，制得式(III)所示的化合物；2)所述步骤1)制得的式(III)所示的化合物与水混合，得到混合溶液，经水解反应，酸化，制得式(IV)所示的化合物，即所述植物生长调节剂；其中，R1和R2各自独立地选自氢、烷基、烃基、炔基或卤素原子；所述合成方法简单；反应产物收率高，产物中式(III)所示的化合物含量高；

  公开号：

  CN107311883A
• 作为产物：
  描述：

  邻苯二甲酸 、 乙炔 在 十羰基二铼 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 160.0 ℃ 、2.0 MPa 条件下， 反应 12.0h， 生成 phthalic acid divinyl ester
  参考文献：
  名称：

  Process for Preparing Vinyl Carboxylates

  摘要：

  本发明涉及一种制备乙烯羧酸酯的方法，其中在选择自钨、钼、铬、铁和铼的羰基配合物、卤化物和氧化物作为催化剂的情况下，将羧酸与炔烃化合物在温度≦300°C下反应。该过程以高产率给出所需的乙烯酯。

  公开号：

  US20080308765A1

文献信息

• DENTAL COMPOSITIONS COMPRISING ADDITION-FRAGMENTATION AGENTS
  申请人：Joly Guy D.

  公开号：US20160008234A1

  公开（公告）日：2016-01-14

  A curable dental composition comprising an addition-fragmentation agent and a curable dental resin is disclosed.

  揭示了一种可治愈的牙科组合物，包括一种加成-断裂剂和一种可治愈的牙科树脂。
• [EN] PHOTOINITIATORS WITH PROTECTED CARBONYL GROUP<br/>[FR] PHOTO-INITIATEURS À GROUPE CARBONYLE PROTÉGÉ
  申请人：3M INNOVATIVE PROPERTIES CO

  公开号：WO2018075275A1

  公开（公告）日：2018-04-26

  Disclosed are of the protected photoinitiators of the formula: wherein Aryl1 is an aromatic or heteroaromatic ring; Aryl2 is an aromatic ring; each R1 is an alkyl, an aryl, an electron donating group or an electron withdrawing group, and subscript a is 0 to 3; each R2 is an alkyl, an aryl, an electron donating group or an electron withdrawing group, and subscript b is 0 to 3; Prot is a protected carbonyl group.

  所述的受保护光引发剂的化学式如下：其中Aryl1是芳香或杂环芳香环；Aryl2是芳香环；每个R1是烷基、芳基、电子给体基团或电子受体基团，下标a为0至3；每个R2是烷基、芳基、电子给体基团或电子受体基团，下标b为0至3；Prot是受保护的羰基。
• [EN] DENTAL COMPOSITION CONTAINING HIGH REFRACTIVE INDEX MONOMERS<br/>[FR] COMPOSITION DENTAIRE CONTENANT DES MONOMÈRES À INDICE DE RÉFRACTION ÉLEVÉ
  申请人：3M INNOVATIVE PROPERTIES CO

  公开号：WO2014172138A1

  公开（公告）日：2014-10-23

  Provided are novel high refractive index monomers, and dental resins containing the same.

  提供了新型高折射率单体和含有这些单体的牙科树脂。
• [EN] LATENT ACIDS AND THEIR USE<br/>[FR] ACIDES LATENTS ET LEUR UTILISATION
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2016124493A1

  公开（公告）日：2016-08-11

  Compounds of the formula (I) and (IA) wherein X is -O(CO)-; R1 is C1-C12haloalkyl or C6-C10haloaryl; R2 is located in position 7 of the coumarinyl ring and is OR8; R2a, R2b and R2C independently of each other are hydrogen; R3 is C1-C8haloalkyl or C1-C8haloalkyl; R4 is hydrogen; and R8 is C1-C6alkyI; are suitable as photosensitive acid donors in the preparation of photoresist compositions such as used for example in the preparation of spacers, insulating layers, interlayer dielectric films, insulation layers, planarization layers, protecting layers, overcoat layers, banks for electroluminescence displays and liquid crystal displays (LCD).

  化合物的化学式（I）和（IA），其中X为-O(CO)-；R1为C1-C12卤代烷基或C6-C10卤代芳基；R2位于香豆素环的第7位，为OR8；R2a、R2b和R2C彼此独立地为氢；R3为C1-C8卤代烷基或C1-C8卤代烷基；R4为氢；R8为C1-C6烷基，适用于作为感光酸给体，用于制备光刻胶组合物，例如用于制备间隔层、绝缘层、层间介质膜、绝缘层、平坦化层、保护层、覆盖层、电致发光显示器和液晶显示器（LCD）的制备。
• NITRILEOXIDE COMPOUND
  申请人：DAIKIN INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20180050983A1

  公开（公告）日：2018-02-22

  The present invention provides a compound of the formula (I): wherein, R 1 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group; R 2 is —R 4 —R 5 ; R 3 is —R 4 —R 5 or —R 4 —R 6 ; R 4 is a divalent organic group; R 5 is OH, SH, COOH or NHR 9 ; R 9 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1-6 carbon atoms; and R 6 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1-6 carbon atoms.

  本发明提供了一种具有以下式（I）的化合物：其中，R1是氢原子或烃基；R2是—R4—R5；R3是—R4—R5或—R4—R6；R4是二价有机基；R5是OH、SH、COOH或NHR9；R9是氢原子或具有1-6个碳原子的烷基基团；R6是氢原子或具有1-6个碳原子的烷基基团。