(4-ethyl-phenyl)-sec-butyl ether | 106165-10-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: (4-ethyl-phenyl)-sec-butyl ether
• 英文别名: (4-Aethyl-phenyl)-sec-butyl-aether；1-Butan-2-yloxy-4-ethylbenzene
• CAS: 106165-10-0
• 化学式: C₁₂H₁₈O
• 分子量: 178.274
• InChiKey: HULCESWZSBYHAA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-溴丁烷 、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 生成 (4-ethyl-phenyl)-sec-butyl ether
  参考文献：
  名称：

  818.酸催化的烷基芳基醚的重排。第一部分。丁基苯醚与氯化铝的重排

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9590004080

文献信息

• POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, LAMINATE, AND RESIST PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3127928A1

  公开（公告）日：2017-02-08

  The present invention provides a polymer compound containing a repeating unit shown by the formula (1c) and one or more repeating units selected from a repeating unit shown by the formula (2) and a repeating unit shown by the formula (3), wherein Mb+ represents a sulfonium cation shown by the formula (a) or an iodonium cation shown by the formula (b), This polymer compound is suitable as a base resin of a resist composition capable of forming a resist film that allows pattern formation with extremely high resolution, small LER, and excellent rectangularity.

  本发明提供了一种聚合物化合物，它含有式（1c）所示的重复单元和一个或多个重复单元，这些重复单元选自式（2）所示的重复单元和式（3）所示的重复单元、 其中 Mb+ 代表式（a）所示的锍阳离子或式（b）所示的碘阳离子、 这种聚合物化合物适合用作抗蚀剂组合物的基体树脂，这种抗蚀剂组合物能够形成具有极高分辨率、极小 LER 和极佳矩形度的抗蚀剂薄膜。
• 818. Acid-catalysed rearrangements of alkyl aryl ethers. Part I. Rearrangement of butyl phenyl ethers with aluminium chloride
  作者：M. J. S. Dewar、N. A. Puttnam

  DOI：10.1039/jr9590004080

  日期：——