N-Ethyl-nitro-2-diphenylamin | 43199-97-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: N-Ethyl-nitro-2-diphenylamin
• 英文别名: N-Ethyl-2-nitro-diphenylamin；ethyl-(2-nitro-phenyl)-phenyl-amine；Aethyl-(2-nitro-phenyl)-phenyl-amin；N-Ethyl-2-nitro-N-phenylaniline；N-ethyl-2-nitro-N-phenylaniline
• CAS: 43199-97-9
• 化学式: C₁₄H₁₄N₂O₂
• 分子量: 242.277
• InChiKey: LPSMZJHWHWYISU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  50-51 °C
• 沸点：
  376.1±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1?+-.0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  49.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-Ethyl-nitro-2-diphenylamin 在 盐酸 、 铁粉 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 生成 2-Amino-N-ethyldiphenylamin
  参考文献：
  名称：

  通过邻异氰基二芳基胺和二芳基二硫化物的串联亚磺酰化/环化一锅法合成 11-硫基二苯二氮卓类化合物

  摘要：

  已经描述了邻异氰基二芳基胺的一锅法亚磺酰化/环化用于制备 11-亚硫基二苯并二氮杂卓。这种 AgI 催化的反应涵盖了一个未探索的串联过程，可生成七元 N-杂环。这种转化显示出广泛的底物范围，操作简单，在有氧条件下具有中等至良好的产量。二苯基二硒化物也可以以可接受的收率生产。

  DOI：

  10.1039/d3ob00220a
• 作为产物：
  描述：

  1-氟-2-硝基苯 在 三乙胺 、 potassium hydroxide 作用下， 以 二甲基亚砜 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 12.17h， 生成 N-Ethyl-nitro-2-diphenylamin
  参考文献：
  名称：

  Fe(acac)₂/TBHP-promoted synthesis of 11-functionalized dibenzodiazepines via alkoxycarbonylation and carboxamidation of o-isocyanodiaryl amines

  摘要：

  已经开发出了一种基于o-异氰基二芳基胺的基团加成/环化反应，用于高效合成潜在生物活性的二苯并[b,e][1,4]二氮杂环-11-羧酸酯和二苯并[b,e][1,4]二氮杂环-11-羧酰胺。

  DOI：

  10.1039/d2cc04348c

文献信息

• Tetrabutylammonium Chloride-Induced Cascade Radical Addition/Cyclization of <i>O</i>-Isocyanodiaryl Amines: A Novel Protocol for the Synthesis of 11-Trifluoromethylated Dibenzodiazepines
  作者：Sitian Yuan、Xuan Liu、Zhongzhi Huang、Shuanggen Gui、Yuexing Diao、Yi-Yuan Peng、Qiuping Ding

  DOI：10.1021/acs.joc.2c02100

  日期：2022.12.16

  A straightforward protocol for the synthesis of 11-trifluoromethylated dibenzodiazepines has been developed via TBAC-induced trifluoromethylation/cyclization of o-isocyanodiaryl amines using Togni’s reagent as the trifluoromethyl source. This is the first report on the one-step construction of CF3-containing dibenzodiazepine drug skeletons. Additionally, a series of 11-trifluoromethylated dibenzodiazepines

  使用 Togni 试剂作为三氟甲基源，通过 TBAC 诱导的邻异氰基二芳基胺的三氟甲基化/环化，开发了一种用于合成 11-三氟甲基化二苯并二氮杂卓的简单方案。这是关于一步构建含 CF 3二苯二氮卓类药物骨架的第一份报告。此外，在无过渡金属的条件下，还得到了一系列 11-三氟甲基化二苯并二氮杂卓，收率中等至极佳。
• DIAZORESIN, PHOTORESIST COMPOSITION AND PREPARATION METHOD OF PHOTORESIST COMPOSITION
  申请人：BOE Technology Group Co., Ltd.

  公开号：EP3081581A1

  公开（公告）日：2016-10-19

  Diazo-resin-containing photoresist compositions and methods of preparing the same are provided for solving the problem that existing diazo-resins cannot be applied in LCD photoresists because the storage periods of the diazo-resins themselves and the printed boards made thereby are both short due to poor thermal stability of the diazo-resins. The diazo-resins of the present invention have excellent thermal stability and exhibit strong resistance to dry etching when being used in negative photoresists, while high resolution can be achieved. Meanwhile, during exposure, portions of the diazo-resins can crosslink with hydrogen bonds on surface of SiO or SiON film forming a barrier layer or passivation layer, such that the adhesion between the photoresists and the film layer is increased, and the photoresists would not peel during development. Thus, the utilization of tackifiers for enhancing the adhesion between a photoresist and surface of SiO or SiON film before masking can be omitted.

  本发明提供了含重氮树脂的光刻胶组合物及其制备方法，以解决现有重氮树脂因热稳定性差而导致其本身和由此制成的印刷电路板的存储期均较短，因而无法应用于液晶显示器光刻胶的问题。本发明的重氮树脂具有极佳的热稳定性，在用于负片光刻胶时具有很强的抗干蚀刻能力，同时还能实现高分辨率。同时，在曝光过程中，部分重氮树脂可在 SiO 或 SiON 薄膜表面以氢键交联，形成阻挡层或钝化层，从而增加光刻胶与薄膜层之间的附着力，使光刻胶在显影过程中不会剥落。因此，在掩膜之前，可以不使用增粘剂来增强光刻胶与 SiO 或 SiON 薄膜表面之间的附着力。
• Diazo-resin, photoresist composition and method of preparing same
  申请人：BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.

  公开号：US10303053B2

  公开（公告）日：2019-05-28

  Diazo-resin-containing photoresist compositions and methods of preparing the same are provided for solving the problem that existing diazo-resins cannot be applied in LCD photoresists because the storage periods of the diazo-resins themselves and the printed boards made thereby are both short due to poor thermal stability of the diazo-resins. The diazo-resins of the present invention have excellent thermal stability and exhibit strong resistance to dry etching when being used in negative photoresists, while high resolution can be achieved. Meanwhile, during exposure, portions of the diazo-resins can crosslink with hydrogen bonds on surface of SiO or SiON film forming a barrier layer or passivation layer, such that the adhesion between the photoresists and the film layer is increased, and the photoresists would not peel during development. Thus, the utilization of tackifiers for enhancing the adhesion between a photoresist and surface of SiO or SiON film before masking can be omitted.

  本发明提供了含重氮树脂的光刻胶组合物及其制备方法，以解决现有重氮树脂因热稳定性差而导致其本身和由此制成的印刷电路板的存储期均较短，因而无法应用于液晶显示器光刻胶的问题。本发明的重氮树脂具有极佳的热稳定性，在用于负片光刻胶时具有很强的抗干蚀刻能力，同时还能实现高分辨率。同时，在曝光过程中，部分重氮树脂可在 SiO 或 SiON 薄膜表面以氢键交联，形成阻挡层或钝化层，从而增加光刻胶与薄膜层之间的附着力，使光刻胶在显影过程中不会剥落。因此，在掩膜之前，可以不使用增粘剂来增强光刻胶与 SiO 或 SiON 薄膜表面之间的附着力。
• 86. The oxidation of diphenylamine and of its N-derivatives. Part I. Oxidation of &gt;N·CH₂R to &gt;N·CO·R
  作者：James Forrest、David A. Liddell、S. Horwood Tucker

  DOI：10.1039/jr9460000454

  日期：——
• CCCVII.—Syntheses in the carbazole series. The alleged synthesis of 3-nitro-N-ethylcarbazole
  作者：Frederick Robert Storrie、Stanley Horwood Tucker

  DOI：10.1039/jr9310002255

  日期：——