N-<(2,4-dinitrophenyl)thio>-2-ethylbenzimidazole | 91709-02-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并咪唑类
• 英文名称: N-<(2,4-dinitrophenyl)thio>-2-ethylbenzimidazole
• 英文别名: 1-[(2,4-Dinitrophenyl)sulfanyl]-2-ethyl-1H-benzimidazole；1-(2,4-dinitrophenyl)sulfanyl-2-ethylbenzimidazole
• CAS: 91709-02-3
• 化学式: C₁₅H₁₂N₄O₄S
• 分子量: 344.351
• InChiKey: NKJBEIDEASLXDT-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  554.5±60.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.50±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.13
• 拓扑面积：
  135
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  邻苯二胺 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 生成 N-<(2,4-dinitrophenyl)thio>-2-ethylbenzimidazole
  参考文献：
  名称：

  三价氮化合物中的立体化学。40. N-2,4-二硝基苯硫基苯并咪唑类化合物中的扭转屏障。

  摘要：

  N-2,4-二硝基苯硫基苯并咪唑类化合物对硫-氮键的扭转具有实质性的阻隔作用（约19 kcal / mol）。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(01)80151-9

文献信息

• Stereochemistry in trivalent nitrogen compounds. 42. N-(Arylthio)benzimidazoles. Torsional barriers and 1,3 rearrangement
  作者：Morton Raban、Hu Chang、Leslie Craine、Edwin Hortelano

  DOI：10.1021/jo00213a001

  日期：1985.6
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE SAME
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20140295332A1

  公开（公告）日：2014-10-02

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, which is excellent in sensitivity, resolution, a pattern profile and a depth of focus (DOF), and, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method, each using the same, are provided. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a nitrogen-containing compound and a resin (Ab) capable of varying a polarity or an alkali solubility thereof by the action of an acid.
• US9188862B2
  申请人：——

  公开号：US9188862B2

  公开（公告）日：2015-11-17
• [EN] ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES, ET FILM SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, CHACUN DE CEUX-CI UTILISANT LADITE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2013100158A1

  公开（公告）日：2013-07-04

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, which is excellent in sensitivity, resolution, a pattern profile and a depth of focus (DOF), and, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method, each using the same, are provided. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a nitrogen-containing compound and a resin (Ab) capable of varying a polarity or an alkali solubility thereof by the action of an acid.
• Stereochemistry in trivalent nitrogen compounds. 40. Torsional barriers in N-2,4-dinitrobenzenesulfenylbenzimidazoles.
  作者：Morton Raban、Chang Hu、Leslie H. Craine

  DOI：10.1016/s0040-4039(01)80151-9

  日期：1984.1

  N-2,4-Dinitrobenzenesulfenylbenzimidazoles exhibit substantial barriers to torsion about the sulfur-nitrogen bond (ca 19 kcal/mole).

  N-2,4-二硝基苯硫基苯并咪唑类化合物对硫-氮键的扭转具有实质性的阻隔作用（约19 kcal / mol）。