benzyltrimethylammonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-1-sulfonate | 1359824-44-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: benzyltrimethylammonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-1-sulfonate
• 英文别名: Benzyltrimethylammonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(adamantane-1-carbonyloxy)propanesulfonate；2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-1-sulfonate;benzyl(trimethyl)azanium
• CAS: 1359824-44-4
• 化学式: C₁₀H₁₆N*C₁₄H₁₆F₅O₅S
• 分子量: 541.58
• InChiKey: LHBDALOFLLCGBU-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.71
• 重原子数：
  36
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  91.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  benzyltrimethylammonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-1-sulfonate 在 caesium carbonate 作用下， 以86%的产率得到cesium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS

  摘要：

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。

  公开号：

  US20170115566A1
• 作为产物：
  描述：

  草酰氯 、 苄基三甲基(1,1,3,3,3-五氟-2-羟基丙磺酸)铵 在 盐酸 、 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 作用下， 以90%的产率得到benzyltrimethylammonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS

  摘要：

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。

  公开号：

  US20170115566A1
• 作为试剂：
  描述：

  苄基三甲基(1,1,3,3,3-五氟-2-羟基丙磺酸)铵 、 金刚烷酰氯 在 benzyltrimethylammonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-1-sulfonate 作用下， 以yielding the desired compound, benzyltrimethylammonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-1-sulfonate as white crystals的产率得到benzyltrimethylammonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  提供了一种具有氟烷氧链的萘基四氢噻吩阳离子的硫銨盐，具有特定阴离子。该硫銨盐被用作光酸发生剂，形成一种抗蚀剂组合物，当通过浸没光刻法加工时，具有在浸没水中受限的溶解和较少的图案依赖性或暗/亮偏差的优点。

  公开号：

  US20120100486A1

文献信息

• RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200249571A1

  公开（公告）日：2020-08-06

  A resist composition comprising a sulfonium salt having formula (1) as PAG, a base polymer, and an organic solvent, when processed by lithography, has light transmittance, acid diffusion suppressing effect, and excellent lithography performance factors such as DOF, LWR and MEF. A lithography process for forming a resist pattern from the composition is also provided.

  一种抗蚀组合物，包括具有公式（1）作为PAG的磺酸盐、基础聚合物和有机溶剂。在光刻工艺中加工时，该组合物具有光透过率、抑制酸扩散效果和优异的光刻性能因素，例如DOF、LWR和MEF。还提供了一种从该组合物形成抗蚀图案的光刻工艺。
• 술포늄염, 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤(519980708960)

  公开号：KR101498326B1

  公开（公告）日：2015-03-03

  본 발명은 하기 화학식(1a) 또는 (1b)로 표시되는 술포늄염을 제공한다. 상기 식 중, R은 헤테로원자를 포함해도 좋은 탄소수 7∼30의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 1가의 탄화수소기를 나타내고, n'는 1∼4의 정수를 나타낸다. 본 발명의 술포늄염은, 통상의 술포늄염과 상이하고 친수성이 높은 페놀성 수산기나 에틸렌글리콜쇄를 갖고 있고, 특정 음이온과 조합한 본 발명의 술포늄염을 레지스트 재료에 이용한 경우에는 액침수로의 용출도 적고, 또 패턴 의존성(다크 브라이트차)이 적어 화학 증폭형 레지스트 재료의 광산 발생제로서 매우 유용하다.

  本发明提供了用以下化学式（1a）或（1b）表示的锡盐。在上述式中，R表示直链、支链或环状的1个碳氢基，其包括杂原子，碳数为7〜30，n'表示1〜4的整数。本发明的锡盐具有与通常的锡盐不同的高亲水性酚性羟基或乙二醇醚，并且当将本发明的锡盐与特定阴离子组合并用于光刻胶材料时，其溶出度低，并且具有较小的模式依赖性（暗亮度），因此作为化学放大型光刻胶材料的光敏剂非常有用。
• SULFONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20220107560A1

  公开（公告）日：2022-04-07

  A sulfonium salt having formula (1) is novel. A chemically amplified resist composition comprising the sulfonium salt as a PAG has advantages including solvent solubility and improved lithography properties such as EL and LWR when processed by photolithography using high-energy radiation such as KrF or ArF excimer laser, EB or EUV.

  一种具有式（1）的硫铵盐是新颖的。包含该硫铵盐作为PAG的化学增感抗蚀剂组成物具有溶剂溶解性和改善的光刻特性，例如EL和LWR，当使用高能辐射进行光刻，如KrF或ArF准分子激光、EB或EUV。
• Sulfonium salt, resist composition, and patterning process
  申请人：Sagehashi Masayoshi

  公开号：US08597869B2

  公开（公告）日：2013-12-03

  A sulfonium salt of a naphthyltetrahydrothiophenium cation having a fluoroalkoxy chain with a specific anion is provided. The sulfonium salt is used as a photoacid generator to form a resist composition which when processed by immersion lithography, offers advantages of restrained dissolution in the immersion water and less pattern dependence or dark/bright bias.

  提供了一种具有氟烷氧基链的萘基四氢噻吩阳离子的磺醋盐，其具有特定的阴离子。该磺醋盐被用作光酸发生剂，以形成一种抗蚀剂组合物，当通过浸没光刻法处理时，具有在浸没水中受限溶解和较少的图案依赖性或暗/亮偏差的优点。
• Resist composition, patterning process, and barium, cesium and cerium salts
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US10078264B2

  公开（公告）日：2018-09-18

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀剂组合物由含酸性基团循环单元（最好是含酸发生器循环单元）的基体树脂和与烷基、烯基、炔基或芳基键合的α-氟化磺酸钠盐、镁盐、钾盐、钙盐、铷盐、锶盐、钇盐、铯盐、钡盐或铈盐组成。