1-cyanoanthraquinone | 38366-32-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 蒽
• 英文名称: 1-cyanoanthraquinone
• 英文别名: 1-Cyan-anthrachinon；9,10-Dioxo-9,10-dihydroanthracene-1-carbonitrile；9,10-dioxoanthracene-1-carbonitrile
• CAS: 38366-32-4
• 化学式: C₁₅H₇NO₂
• 分子量: 233.226
• InChiKey: HNRGOVGFMBHMNW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  249.5 °C
• 沸点：
  469.7±34.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.39±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  57.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-cyanoanthraquinone 在 ammonium hydroxide 、 水 、 sodium hydroxide 、 锌 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 6.0h， 生成 1-蒽甲酸
  参考文献：
  名称：

  1-（甲基氨基）蒽–一种光敏化合物的易得构件

  摘要：

  简便的合成提供了一种新型的蒽基胺，可作为构建光开关受体的多功能构建基块。将该结构基序并入二吡啶啉酰胺中可提供光响应性阴离子受体。在用360 nm光照射后，会发生环加成反应，从而产生对阴离子具有更高亲和力的大环受体。

  DOI：

  10.1002/ejoc.201800897
• 作为产物：
  描述：

  1-蒽醌磺酸 在 potassium cyanide 作用下， 生成 1-cyanoanthraquinone
  参考文献：
  名称：

  Dienel, Chemische Berichte, 1906, vol. 39, p. 932

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Utilisation dy cyanure de tétraéthylammonium pour la préparation de complexes cyclopentadiényl fer cyclohexadiényl cyanés. Etude de leur oxydation électrochimique et chimique
  作者：N. Guennec、C. Moinet

  DOI：10.1016/0022-328x(95)05553-2

  日期：1995.11

  electron-withdrawing groups such as nitro, keto, sulfone, azo and azoxy bonded to the arene, the reaction occurs immediately and a wave resulting from oxidation of hexadienyl species is observed in the range 0–1 V vs. SCE. Preparation of various hexadienyl compounds was achieved with good yields. In order to obtain ortho-substituted benzonitriles, electrochemical and chemical oxidations of hexadienyl complexes were

  四乙基氰化铵的除了（溶液η 5 -环戊二烯基）（η 6 -芳烃）铁（1+），在乙腈可以通过伏安法进行研究。在硝基苯，酮，砜，偶氮和氮氧基等吸电子基团与芳烃键合的情况下，反应立即发生，并且在相对于SCE的0–1 V范围内观察到由己二烯基物种氧化产生的波。以良好的产率实现了各种己二烯基化合物的制备。为了获得邻位取代的苄腈，对己二烯基配合物的电化学和化学氧化进行了比较。使用N获得最佳结果-溴代琥珀酰亚胺（NBS）通常会发生脱金属。的苄腈化合物的单釜合成可以加入氰离子，然后向NBS（溶液后可达到η 5 -环戊二烯基）（η 6 -arene）铁（1+）的乙腈。[CpFe的量 η 6 -C 6 H ^ 5 N（O）= NC 6 H ^ 4 CN-2}] +是直接从氧化偶氮双阳离子化合物获得的[CpFe的量）2（PHN（O）NPH）] 2+。
• 1-(Methylamino)anthracene - An Accessible Building Block for Photoresponsive Compounds
  作者：Filip Ulatowski、Karolina Melaniuk

  DOI：10.1002/ejoc.201800897

  日期：2018.12.19

  Facile synthesis provides a novel anthracene‐based amine, which acts as a versatile building block for the construction of photoswitchable receptors. Incorporation of this structural motif into dipicolinic amide provides a photoresponsive anion receptor. Upon irradiation with 360 nm light, cycloaddition occurs to yield macrocyclic receptors with higher affinities for anions.

  简便的合成提供了一种新型的蒽基胺，可作为构建光开关受体的多功能构建基块。将该结构基序并入二吡啶啉酰胺中可提供光响应性阴离子受体。在用360 nm光照射后，会发生环加成反应，从而产生对阴离子具有更高亲和力的大环受体。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。
• COMPOSITION COMPRISING CHELATING AGENTS CONTAINING AMIDOXIME COMPOUNDS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100105595A1

  公开（公告）日：2010-04-29

  The present invention is a novel aqueous cleaning solution for use in semiconductor front end of the line (FEOL) manufacturing process wherein the cleaning solution comprises at least one amidoxime compound.

  本发明是一种用于半导体前端制造过程中的新型水性清洗溶液，其中清洗溶液包含至少一种酰胺肟化合物。