2-[2-(羧甲基)苯氧基]乙酸 | 41873-63-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 2-[2-(羧甲基)苯氧基]乙酸
• 英文名称: (2-Carboxymethoxy-phenyl)-essigsaeure
• 英文别名: [2-(Carboxymethoxy)phenyl]acetic acid；2-[2-(carboxymethoxy)phenyl]acetic acid
• CAS: 41873-63-6
• 化学式: C₁₀H₁₀O₅
• 分子量: 210.186
• InChiKey: FDSGDSBZYOHXHF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  83.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 海关编码：
  2918990090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-[2-(羧甲基)苯氧基]乙酸 在 盐酸 、 乙醇 、 硫酸 、 sodium 、 苯 作用下， 生成 8-hydroxy-11H-chromeno[4,3-c]chromen-5-one
  参考文献：
  名称：

  Hilton et al., Journal of the Chemical Society, 1936, p. 423,426

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-羟基-2-(2-甲氧基苯基)乙腈 在 氢碘酸 、 sodium ethanolate 作用下， 生成 2-[2-(羧甲基)苯氧基]乙酸
  参考文献：
  名称：

  Czaplicki; v. Kostanecki; Lampe, Chemische Berichte, 1909, vol. 42, p. 833

  摘要：

  DOI：

文献信息

• COMPOSITION FOR FORMING UPPER FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1950610A1

  公开（公告）日：2008-07-30

  An upper layer-forming composition formed on a photoresist while causing almost no intermixing with the photoresist film and a photoresist patterning method are provided. The upper layer-forming composition is stably maintained without being eluted in a medium such as water during liquid immersion lithography and is easily dissolved in an alkaline developer. The upper layer-forming composition covers a photoresist film for forming a pattern by exposure to radiation. The composition comprises a resin dissolvable in a developer for the photoresist film and a solvent in which the resin is dissolved. The solvent has a viscosity of less than 5.2 x 10-3 Pa·s at 20°C. In addition, the solvent does not cause intermixing of the photoresist film and the upper layer-forming composition. The solvent contains an ether or a hydrocarbon.

  本发明提供了一种在光刻胶上形成的上层形成组合物，同时几乎不会造成与光刻胶膜的混合，并提供了一种光刻胶图案化方法。在液浸光刻过程中，上层形成组合物可稳定地保持在水等介质中而不会被洗脱，并且很容易溶解在碱性显影剂中。上层形成组合物覆盖在光刻胶膜上，通过辐射形成图案。该组合物包括一种可溶解于光刻胶膜显影剂中的树脂和一种可溶解树脂的溶剂。溶剂在 20°C 时的粘度小于 5.2 x 10-3 Pa-s。此外，该溶剂不会造成光刻胶膜和上层形成组合物的混合。溶剂含有醚或烃。
• Preparation of synthetic rotenoids(1)
  作者：R. Verné、N. De Kimpe、L. De Buyck、W. Steurbaut、M. Sadones、R. Willaert、J. -P. Verbeek、N. Schamp

  DOI：10.1002/bscb.19800890607

  日期：——

  AbstractSeveral dehydrorotenoids have been prepared by thermal condensation of 4‐ethoxycarbonyl‐3‐chromanon derivatives with 4‐hydroxybenzofurans and 2,2‐dimethyl‐5‐hydroxychroman. Hydrogenation of the dehydrorotenoids in the presence of Pd/BaSO4 afforded rotenoids.
• Pfeiffer; Bauer, Chemische Berichte, 1947, vol. 80, p. 7,18
  作者：Pfeiffer、Bauer

  DOI：——

  日期：——
• Pfeiffer; Enders, Chemische Berichte, 1951, vol. 84, p. 247,252
  作者：Pfeiffer、Enders

  DOI：——

  日期：——
• Rotenone. XXVI. Synthesis of the Parent Substances of Some Characteristic Rotenone Derivatives
  作者：F. B. LaForge

  DOI：10.1021/ja01334a076

  日期：1933.7