2-丙-2-基氧基四氢呋喃 | 20191-91-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 四氢呋喃
• 中文名称: 2-丙-2-基氧基四氢呋喃
• 英文名称: 2-isopropoxytetrahydrofuran
• 英文别名: 2-isopropoxy-tetrahydro-furan；2-iso-Propyloxy-tetrahydrofuran；2-Isopropyloxy-tetrahydrofuran；2-Isopropoxy-tetrahydrofuran；2-iso-Propoxytetrahydrofuran；2-propan-2-yloxyoxolane
• CAS: 20191-91-7
• 化学式: C₇H₁₄O₂
• 分子量: 130.187
• InChiKey: OGAUHPGWQSCXSW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 保留指数：
  830;830

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.4
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2932190090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  5-氟-6-羟基氢尿嘧啶单水合物 、 2-丙-2-基氧基四氢呋喃 生成 1,3-二(四氢-2-呋喃基)-5-氟尿嘧啶
  参考文献：
  名称：

  KODZIMA, ATSUSI;ODATEH, MAKOTO;ODZAKI, SEITIRO

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  2-羟基四氢呋喃 、 异丙醇 在 titanium(IV) tetrabutoxide 、 D-扁桃酸 作用下， 反应 24.0h， 以95%的产率得到2-丙-2-基氧基四氢呋喃
  参考文献：
  名称：

  温和条件下未保护和未激活的碳水化合物的直接糖基化

  摘要：

  据报道，在催化量的扁桃酸和叔丁醇钛存在下，乙缩醛的配体交换缩醛化。该转化成功地扩展到未保护和未激活的戊糖的糖基化。甚至不反应的戊糖，例如d-阿拉伯糖或d- lyxose，也可以通过这种新方法转化为相应的异丙基糖苷。

  DOI：

  10.1021/ol203329u

文献信息

• Catalytic oxidation of homoallylalcohols to α-alkoxytetrahydrofurans by a Pd-Nitro complex and molecular oxygen
  作者：Tom M. Meulemans、Niklaas H. Kiers、Ben L. Feringa、Piet W.N.M.van Leeuwen

  DOI：10.1016/0040-4039(94)85079-8

  日期：1994.1

  Various homoallylalcohols were highly regioselective oxidized with molecular oxygen at the terminal carbon to afford cyclic acetals (α-alkoxytetrahydrofurans) using PdNO2Cl(CH3CN)2 as a catalyst in the presence of CuCl2 and t-butanol or isopropanol.

  在CuCl 2和叔丁醇或异丙醇的存在下，使用PdNO 2 Cl（CH 3 CN）2作为催化剂，将各种均烯丙基醇在末端碳上用分子氧高度区域选择性氧化，得到环状缩醛（α-烷氧基四氢呋喃）。
• Self-Promoted Nucleophilic Addition of Hexafluoro-2-propanol to Vinyl Ethers
  作者：Andrea Di Salvo、Marc David、Benoît Crousse、Danièle Bonnet-Delpon

  DOI：10.1002/adsc.200505260

  日期：2006.1

  hexafluoro-2-propanol easily adds to vinyl ethers, without catalyst, to afford a range of hexafluoroisopropyloxy acetals. This addition reaction also occurred in the presence of a competitive, more nucleophilic alcohol. Kinetic studies showed the importance of hydrogen bond parameters in the rate and course of the reaction.

  尽管六氟-2-丙醇的亲核性较低，但在没有催化剂的情况下仍可轻松地将其添加到乙烯基醚中，以提供一系列六氟异丙氧基缩醛。该加成反应也发生在竞争性，亲核性更高的醇的存在下。动力学研究表明氢键参数在反应速率和过程中的重要性。
• COMPOUND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE USING SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20160024005A1

  公开（公告）日：2016-01-28

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound represented by the following formula (1) or (2), and the formula (1) and (2) are defined as herein, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and a pattern forming method comprising a step of exposing the resist film, and a step of developing the exposed film, and a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method, and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种包含下列式子（1）或（2）所代表的化合物的光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中式（1）和（2）的定义如本文所述，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的光阻膜，以及包括曝光光阻膜的步骤和显影曝光膜的步骤的图案形成方法，以及包括图案形成方法的制造电子装置的方法，以及由电子装置的制造方法制造的电子装置。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME, AND ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20150185612A1

  公开（公告）日：2015-07-02

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: (A) a resin having a repeating unit represented by the specific formula and a group capable of decomposing by an action of an acid to produce a polar group; and an ionic compound represented by the specific formula, and a resist film comprising the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.

  提供一种光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，包括：（A）具有特定公式表示的重复单元和能够通过酸作用分解产生极性基团的基团的树脂；以及具有特定公式表示的离子化合物，以及包括该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物的抗蚀膜。