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4,4'-bis(methoxycarbonylmethoxy)diphenylmethane | 65329-07-9

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4,4'-bis(methoxycarbonylmethoxy)diphenylmethane
英文别名
bis-(4-methoxycarbonylmethoxy-phenyl)-methane;Bis-(4-methoxycarbonylmethoxy-phenyl)-methan;Methyl 2-[4-[[4-(2-methoxy-2-oxoethoxy)phenyl]methyl]phenoxy]acetate
4,4'-bis(methoxycarbonylmethoxy)diphenylmethane化学式
CAS
65329-07-9
化学式
C19H20O6
mdl
——
分子量
344.364
InChiKey
IUSNWTLBANTVOF-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    51-52 °C(Solv: ethyl acetate (141-78-6); hexane (110-54-3))
  • 沸点:
    462.7±35.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.188±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.6
  • 重原子数:
    25
  • 可旋转键数:
    10
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.26
  • 拓扑面积:
    71.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    4,4'-bis(methoxycarbonylmethoxy)diphenylmethane氢氧化钾 作用下, 以 甲醇 为溶剂, 反应 2.0h, 以100%的产率得到4,4'-bis(carboxymethoxy)diphenylmethane
    参考文献:
    名称:
    Design and Synthesis of a Novel Water-Soluble NMDA Receptor Antagonist with a 1,4,7,10-Tetraazacyclododecane Group
    摘要:
    多胺,尤其是精胺,作为开放通道阻滞剂抑制 N-甲基-<小>D-天冬氨酸 (NMDA) 受体。合成了两种具有1,4,7,10-四氮杂环十二烷环状多胺基团的水溶性NMDA受体拮抗剂ACCn (1)和TGCn (2),并利用电压研究了两种化合物对NMDA受体的影响-非洲爪蟾卵母细胞中表达的重组 NMDA 受体的钳记录。这些化合物抑制电压钳位在-70 mV的卵母细胞中NR1/NR2A和NR1/NR2B受体亚型的宏观电流。 NR1/NR2A受体化合物的抑制作用比NR1/NR2B受体化合物更显着。 ACCn (1) 对两种 NMDA 受体的抑制作用比 TGCn (2) 更有效。
    DOI:
    10.1248/cpb.53.444
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    Tyler; Whittaker, Journal of Applied Chemistry, 1959, vol. 9, p. 594,595-599
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Measurement of Inclusion Complex Formation between Cyclophane and Biological Relevant Amino Acids Using Electrospray Ionization, Cold-Spray Ionization and Fast Atom Bombardment Mass Spectrometry
    作者:Koichi Metori、Yoshihisa Sei、Yumiko Kimura、Tomoyuki Ozawa、Kentaro Yamaguchi、Muneharu Miyake
    DOI:10.1248/cpb.53.1029
    日期:——
    The investigation of the host–guest complex formations between cyclophane (TGDMAP) (1) as a host and L-acidic amino acids such as L-glutamic acid (Glu) and L-aspartic acid (Asp) as guests was carried out using fast atom bombardment (FAB), electrospray ionization (ESI) and cold-spray ionization (CSI) mass spectrometry (MS). The stability constant (Ks) values obtained by the three different MS methods almost agreed. However, the complex ion peaks of a novel cyclophane (CPCn) (2) with Glu and Asp were not observed in FAB-MS. Then, these host–guest complex formations by use of CSI-MS and ESI-MS was examined, as the results, these complex ion peaks were observed clearly and the measurement values by the two MS methods are mostly in agreement. It was concluded that ESI-MS and CSI-MS are available for the determination of Ks value as well as FAB-MS.
    采用快速原子轰击(FAB)、电喷雾电离(ESI)和冷喷雾电离(CSI)质谱法研究了以环烷(TGDMAP)(1)为宿主,以L酸性氨基酸(如L-谷氨酸(Glu)和L-天冬氨酸(Asp))为客体形成的宿主-客体复合物。三种不同质谱方法得到的稳定常数(Ks)值基本一致。但是,在 FAB-MS 中没有观察到新型环烷(CPCn)(2)与 Glu 和 Asp 的络合离子峰。然后,利用 CSI-MS 和 ESI-MS 对这些主-客复合物的形成进行了检测,结果发现这些复合物离子峰被清晰地观察到,而且两种 MS 方法的测量值基本一致。由此得出结论,ESI-MS 和 CSI-MS 与 FAB-MS 一样,都可用于测定 Ks 值。
  • PHOTOSENSITIVE COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION INCLUDING THE SAME
    申请人:LEE Jae-Woo
    公开号:US20090155714A1
    公开(公告)日:2009-06-18
    A photosensitive compound whose size is smaller than conventional polymer for photoresist, and which has well-defined (uniform) structure, and a photoresist composition including the same are disclosed. The photosensitive compound represented by the following formula. Also, the present invention provides a photoresist composition comprising 1 to 85 wt % (weight %) of the photosensitive compound; 0.05 to weight parts of a photo-acid generator with respect to 100 weight parts of the photosensitive compound; and 10 to 5000 weight parts of an organic solvent. In the formula, n is 0 or 1, x is 1, 2, 3, 4 or 5, y is 2, 3, 4, 5 or 6, z is 0, 1, 2, 3 or 4, R, R′ and R″ are independently hydrocarbon group of 1 to 30 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms, and R′″ is a hydrogen atom or hydrocarbon group of 1 to 30 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms.
    本发明揭示了一种比传统光刻胶更小的大小,具有明确定义(均匀)结构的光敏化合物,以及包括该光敏化合物的光刻胶组合物。该光敏化合物由以下公式表示。此外,本发明提供了一种光刻胶组合物,包括1至85重量%(重量%)的光敏化合物;相对于100重量部的光敏化合物0.05至重量份的光酸发生剂;以及10至5000重量部的有机溶剂。在公式中,n为0或1,x为1、2、3、4或5,y为2、3、4、5或6,z为0、1、2、3或4,R、R'和R"分别为1至30碳原子的烃基,优选为2至20碳原子,R'"为氢原子或1至30碳原子的烃基,优选为2至20碳原子。
  • PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
    申请人:Motofuji Shihei
    公开号:US20120142806A1
    公开(公告)日:2012-06-07
    Provided is a photosensitive composition which can be cured with low energy consumption, even when a substance (such as a colorant) that attenuates or shades an illumination light is contained in a high concentration or even when the photosensitive composition is in the form of a thick film. Specifically provided is a photosensitive composition which comprises the following four components: (1) a radical initiator (A); (2) an acid generator (B) or a base generator (C); (3) a polymerizable substance (D); and (4) a colorant (E), a metal oxide powder (F), or a metal powder (G). Further, the photosensitive composition is characterized in that the radical initiator (A), the acid generator (B), and/or the base generator (C) generates an active species (H) through irradiation with an active ray of light; the active species (H) reacts the radical initiator (A), the acid generator (B), or the base generator (C) to form another species (I); and thus the polymerization of the polymerizable substance (D) by means of the active species (I) proceeds, said active species (H) or (I) being an acid or a base.
    提供的是一种光敏组合物,即使含有高浓度的能够衰减或遮蔽照明光的物质(如颜料),或者即使光敏组合物呈现为厚膜形式,也能够以低能耗进行固化。具体而言,提供的光敏组合物包括以下四个组分:(1)自由基引发剂(A);(2)酸发生剂(B)或碱发生剂(C);(3)可聚合物质(D);以及(4)颜料(E)、金属氧化物粉末(F)或金属粉末(G)。此外,光敏组合物的特点在于,自由基引发剂(A)、酸发生剂(B)和/或碱发生剂(C)通过活性光线的照射生成活性物质(H);活性物质(H)与自由基引发剂(A)、酸发生剂(B)或碱发生剂(C)反应形成另一种物质(I);因此,通过活性物质(I)对可聚合物质(D)进行聚合,所述活性物质(H)或(I)为酸或碱。
  • RESIN, OPTICAL MATERIAL, AND OPTICAL DEVICE
    申请人:Mitsui Chemicals, Inc.
    公开号:EP2684907A1
    公开(公告)日:2014-01-15
    The purpose of the invention is to provide a resin, which has a high refractive index, excellent heat resistance and moldability, and high transparency, and is useful as a material for configuring optical devices, etc. The invention provides a resin comprising acyl hydrazone bonds and having a number average molecular weight of 500 - 500,000, wherein the acyl hydrazone bond equivalent is 100 - 4000.
    本发明的目的是提供一种树脂,它具有高折射率、优异的耐热性和成型性以及高透明 度,可用作配置光学设备等的材料。本发明提供了一种由酰基腙键组成的树脂,其平均分子量为 500 - 500,000,其中酰基腙键当量为 100 - 4000。
  • Mirek, Zeszyty Naukowe Uniwersytetu Jagiellonskiego., 1957, # 3, p. 119,140
    作者:Mirek
    DOI:——
    日期:——
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