3,4-di(n-hexyloxy)-6-methylthiophenol | 745825-51-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯硫酚类
• 英文名称: 3,4-di(n-hexyloxy)-6-methylthiophenol
• 英文别名: 4,5-Dihexoxy-2-methylbenzenethiol
• CAS: 745825-51-8
• 化学式: C₁₉H₃₂O₂S
• 分子量: 324.528
• InChiKey: FSJBYRCLNHWEGN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  432.2±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.979±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.68
• 拓扑面积：
  19.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  5-bromo-1,2-di(n-hexyloxy)-4-methylbenzene 、 1,2-bis(hexyloxy)-4-methylbenzene 、 溴己烷 、 3,4-二羟基甲苯 在 盐酸 、 sodium hydroxide 、 硫化氢 、 溴 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醇 、 二氯甲烷 、 水 、 甲苯 为溶剂， 生成 3,4-di(n-hexyloxy)-6-methylthiophenol
  参考文献：
  名称：

  Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

  摘要：

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括具有长链烷氧基基团的特定磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括改善分辨率、改善焦点宽度、即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化、涂覆、显影和剥离后减少残留的碎屑，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微细加工。

  公开号：

  US20040166432A1

文献信息

• US7101651B2
  申请人：——

  公开号：US7101651B2

  公开（公告）日：2006-09-05
• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20040166432A1

  公开（公告）日：2004-08-26

  A chemical amplification type resist composition comprising a specific sulfonyldiazomethane containing long-chain alkoxyl groups has many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development and is thus suited for microfabrication.

  一种化学放大型抗蚀组合物，包括具有长链烷氧基基团的特定磺酰二氮甲烷，具有许多优点，包括改善分辨率、改善焦点宽度、即使在长期PED上也减少线宽变化或形状退化、涂覆、显影和剥离后减少残留的碎屑，并在显影后改善图案轮廓，因此适用于微细加工。